真空去离子和镀膜试验

① 真空镀膜清洗最佳方法

真空镀膜清洗的最佳方法需根据设备部件、污染类型及工艺要求综合选择，以下是目前行业推荐的几种高效清洗方案：

一、化学清洗法

• 氢氟酸溶液浸泡
  适用于衬板等耐酸部件，通过调整氢氟酸与水的比例控制浸泡时间（通常浓度不超过10%），可有效去除镀层残留而不损伤基材。清洗后需彻底擦干水分并烘干，避免水汽影响真空度。

• 化学药剂喷淋与浸泡

  • 喷淋：针对大面积腔体表面，使用专用化学溶剂（如丙酮或酒精）高压喷淋，去除松散污染物。

  • 超声波辅助浸泡：对精密工件或小部件，结合超声波震荡（频率建议20-40kHz）增强去污效果，尤其适合缝隙中的顽固沉积物。

二、物理清洗法

• 机械打磨
  对工作室衬板、工作架等非拆卸部件，采用砂纸（400-600目）打磨去除厚膜层，需注意避免产生金属粉尘污染。

• 干冰或等离子清洗
  高精度场景下，可采用干冰喷射或低压等离子体清洗，无化学残留且能处理微米级缝隙，适合隔板等复杂结构的清洁。

三、标准化清洗流程

• 预处理：移除大块残留物，用无尘布擦拭表面。

• 深度清洗：按部件材质选择化学或物理方法，衬板建议酸洗后超声漂洗，腔体采用分步喷淋。

• 后处理：

  • 漂洗：去离子水冲洗3次以上，确保无溶剂残留。
  • 烘干：80-120℃热风干燥2小时，或真空烘箱低温除湿。

四、关键注意事项

• 安全防护：氢氟酸操作需穿戴防酸手套及面罩，废液需中和处理。

• 密封检查：清洗后装配需测试隔板气密性，防止漏气（参考氦质谱检漏标准）。

• 周期管理：连续生产设备建议每周清洗衬板，每月全面维护腔体。

五、工艺验证标准

清洗效果应满足：

• 真空抽速恢复至新机的90%以上；

• 镀膜工件表面无斑点、气泡（白灯检测合格）；

• 系统极限真空度达到5×10⁻⁵ Pa以下。

以上方法综合了化学高效性与物理安全性，实际应用中需根据设备型号调整参数，建议优先参考设备手册并做小样测试。

② 光学镀膜“真空溅射”和“离子镀”工作方法

在光学镀膜中，真空溅射和离子镀是两种常用的物理气相沉积（PVD）技术，它们都是在真空环境下工作，通过将目标材料的原子或分子转移到基板上，从而形成薄膜。
**真空溅射**：
真空溅射主要是利用离子束（通常是惰性气体，如氩）轰击目标材料，使得目标材料的原子被余槐"溅射"出来，这些原子会穿过真空室并沉积在基板（如光学元件）上，形成薄膜。真空溅射可以制备出具有高密度、良好附着力和均匀厚度的薄膜，因此在光学、半导体和其他工业领域得到了广泛的应用。
**离子镀**：
离厅唤子镀则是一种更复杂的物理气相沉积技术。在离子镀中，目标材料被加热到蒸发，然后在高电压的作用下，蒸发出的原子竖伏友或分子被电离为离子。这些离子被加速并引导到基板上，形成薄膜。离子镀可以制备出具有高密度、低应力和高抗蚀性的薄膜，特别适用于制备高反射镜和防反射膜等高性能光学膜。
需要注意的是，这两种技术都需要精密的控制和优化，包括控制真空环境、离子源的能量、目标材料的温度等，以达到所需的薄膜性能。

③ 真空镀膜和光学镀膜有什么区别

一、概念的区别

1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

二、原理的区别

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。

2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。

随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。

三、方法和材料的区别

1、真空镀膜的方法材料：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

2、光学镀膜方法材料

(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。

④ 有人知道电镀UV水镀和真空镀有什么区别

电镀工艺是常见的表面处理方法，电镀UV水镀和真空镀之间的区别如下：
1.水电镀：又称湿法电镀，顾名思义与水及水溶液有关，电化学反应原理，是化学过程。由于大量使用水/水溶液，污染大。
2.UV镀膜：使用UV涂料，在真空或超低压状态，利用电场的作用，使UV涂料迁移到被涂覆的零件表面，这个过程是物理过程。被涂覆UV涂料的零件，在紫外线（UV）的作用下，固化。该项技术广 泛用于小电器、电子产品、化妆品包装盒等外观涂覆。
3.真空电镀：实际上不能称为电镀，它通常是物理变化，或是化学变化，但不是电化学过程。真空电镀分类较多，应用比较广 泛的是电场迁移技术。UV真空电镀，属于真空电镀范畴。
电镀知识延伸之电镀除油方法：
在常见的电镀基材中，ABS、PC或者ABS+PC、TPU等材质都是通过注塑成型，如果在脱模阶段使用了脱模剂的话，那么会导致脱模剂油污在注塑成型素材上的沾附，导致后续的真空电镀工艺出现例如油点、油斑、火山口等不良现象，因此需要进行前处理除油处理。
炅.盛真空电镀油污处理剂的作用就是通过喷涂的方式，覆盖于沾有油污的素材上，经过遮盖力的作用遮盖油污以及改善面漆的流平效果等，达到解决电镀时出现的油点以及油斑等不良缺陷。其使用方法也非常的简单，有别于白电油浸泡以及除油粉清洗的方式，通过喷涂在底材上，进行有效的遮盖，就可以解决油污问题，同时在环境保护方面，其无卤无邻苯无重金属的特性，也更加适应环境需求。