㈠ 反滲透阻垢劑的原理是什麼啊
反滲透阻垢劑是專門用於反滲透(RO)系統及納濾(NF)和超濾(UF)系統的阻垢劑，可防止膜面結垢，能提高產水量和產水質量，降低運行費用。
反滲透阻垢劑
1簡介
反滲透阻垢劑是專門用於反滲透(RO)系統及納濾(NF)和超濾(UF)系統的阻垢劑，可防止膜面結垢，能提高產水量和產水質量，降低運行費用。
2特點
①在很大的濃度范圍內有效的控制無機物結垢
②不與鐵鋁氧化物及硅化合物凝聚形成不溶物
③能有效地抑制硅的聚合與沉積，濃水側SiO2濃度可達290
④可用於反滲透CA及TFC膜、納濾膜和超濾膜
⑤極佳的溶解性及穩定性
⑥給水PH值在5-10范圍內均有效
3功能特性
1.可適用於各種膜管的材質
2.可適用於各種不同的水質中，仍有高功效的阻垢能力，減少膜管的清洗頻率
3.可取代加酸的需求，防止加酸所造成可能的腐蝕問題
4.
添加量極低，同時具有極佳的門限作用，可獲得最佳經濟效益的阻垢控制
5.
對鐵、錳等金屬離子均有良好的螯合穩定的功效，防止其產生污垢於膜管上
6.產品功效與安定性均遠優於六偏磷酸鈉或純聚合物型的阻垢劑
7.
可允許反滲透膜系統操作在較高的產水率
㈡ 在反滲透系統中，如何預防硅垢
過飽和二氧化硅（SiO2)能夠自動聚合形成不溶性的膠體硅或膠狀硅，引起膜污染，影響反滲透系統的正常運行。而大多數水源溶解性二氧化硅（SiO2)的含量在1~100mg/L。濃水中的最大允許SiO2濃度取決於SiO2的溶解度。
濃水中硅的結垢傾向與進水中的情形不同，這是因為SiO2濃度增加的同時，濃水的pH值也在變化，這樣SiO2的結垢計算要根據原水水質分析和反滲透的操作參數（回收率）而定。
如果出現一定量的金屬，如Al3+的話，可能會通過形成金屬硅酸鹽改變SiO2的溶解度。硅結垢的發生大多數為水中存在 鋁或鐵。因此，如果存在硅的話，應保證水中沒有鋁或鐵，並且推薦使用1^m的保安濾器濾芯，同時採取預防性的酸性清洗措施。
❖為了提高回收率，進行石灰一純鹼軟化預處理時，應添加氧化鎂或鋁酸鈉以減少進水中的SiO2濃度，同時確保軟化過程有效運轉十分重要，以防止反滲透系統會出現難溶金屬硅酸鹽；
❖由於pH值低於7或pH值高於7.8,可以增加硅的溶解度，就防止硅的結垢而言，加酸或加鹼可以提高水的回收率，但在高pH條件下，要防止CaCO3的沉澱；
❖當採用熱交換器增加進水溫度時，就二氧化硅的結垢而言，可以顯著地提高水的回收率，但膜系統的最高允許溫度為45oC;
❖高分子量的聚丙烯酸脂阻垢劑可以用於增加二氧化硅的溶解度。
㈢ RO反滲透系統常見污染除垢方法有哪些
需要的，反滲透膜的清洗是很重要的，對反滲透膜的使用壽命有很大的影響專。對於設備中反滲屬透膜主要是用來將原水中的污染物質盡最大可能的去除掉，但是原水中的雜質會積留在反滲透膜的表面，導致反滲透膜的堵塞，一直污染。對於反滲透膜的清洗主要是通過化學方法進行處理，它的清洗劑一般採用的是酸鹼劑，PH一般在2-12之間，對於清洗劑的最佳使用溫度應該是45攝氏度，而且污染物有的甚至是粘泥類的，隨著時間的積累還會被壓縮增厚，清洗起來難度很大。對於反滲透膜的清洗過程主要是循環清洗，把濃水的出水管道直接放在清洗葯箱中。
㈣ 都有哪些原因導致超純水設備反滲透膜受污染呢
超純水設備在使用過程中，除了性能的正常衰減外，由於污染而引起設備性能的衰減更為回嚴重，其中最容答易污染的是反滲透膜。通常的污染主要有化學垢，有機物及膠體污染，微生物污染等。
反滲透膜污染往往不是單一的，其表現的症狀也有一定的差別，使得污染的鑒別更困難。鑒別污染類型要綜合原水水質，設計參數，污染指數，運行記錄，設備性能變化及微生物指標等加以判斷。超純水設備污染常見有：膠體污染、微生物污染、鈣垢污染。
㈤ 反滲透膜結垢的原因是什麼如何防止
在系統正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在內的懸浮物或容難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶沉澱、金屬（鐵、錳、銅、鎳、鋁等）氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物（如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質）、微生物（藻類、黴菌、真菌）等。
物理清洗膜元件：低壓力、高流速的將反滲透產水來沖刷膜元件，可以把短期內在膜表面附著的污染物和堆積物清洗掉的一種有效方法。一般物理清洗頻率較高。
化學清洗膜元件：有些結垢情況通過物理清洗很難去除附著在膜元件表面的污染物和堆積物。這個時候就需要通過化學葯劑來對結垢進行去除。為了能夠達到最佳的清洗效果一般都是通過多種化學清洗葯劑進行組合清洗。而且葯劑的選擇以及清洗順序也是有嚴格要求的。
詳細預防方法可見官網：網頁鏈接
㈥ 反滲透水處理的原理
一、工作原理：
反滲透設備的系統除鹽率一般為98-99%.這樣的除鹽率在大部分情況下是可以滿足要求的.在電子工業、超高壓鍋爐補給水、個別的制葯行業對純水的要求可能更高。此時單級反滲透設備就不能滿足要求。
滲透現象在自然界是常見的，比如將一根黃瓜放入鹽水中，黃瓜就會因失水而變小。黃瓜中的水分子進入鹽水溶液的過程就是滲透過程。如果用一個只有水分子才能透過的薄膜將一個水池隔斷成兩部分,在隔膜兩邊分別注入純水和鹽水到同一高度。過一段時間就可以發現純水液面降低了，而鹽水的液面升高了。我們把水分子透過這個隔膜遷移到鹽水中的現象叫做滲透現象。鹽水液面升高不是無止境的，到了一定高度就會達到一個平衡點。這時隔膜兩端液面差所代表的壓力被稱為滲透壓。滲透壓的大小與鹽水的濃度直接相關。
在以上裝置達到平衡後,如果在鹽水端液面上施加一定壓力，此時，水分子就會由鹽水端向純水端遷移。液劑分子在壓力作用下由稀溶液向濃溶液遷移的過程這一現象被稱為反滲透現象。如果將鹽水加入以上設施的一端，並在該端施加超過該鹽水滲透壓的壓力，我們就可以在另一端得到純水。這就是反滲透凈水的原理。反滲透設施生產純水的關鍵有兩個，一是一個有選擇性的膜，我們稱之為半透膜，二是一定的壓力。簡單地說，反滲透半透膜上有眾多的孔，這些孔的大小與水分子的大小相當，由於細菌、病毒、大部分有機污染物和水合離子均比水分子大得多，因此不能透過反滲透半透膜而與透過反滲透膜的水相分離。在水中眾多種雜質中,溶解性鹽類是最難清除的.因此,經常根據除鹽率的高低來確定反滲透的凈水效果.反滲透除鹽率的高低主要決定於反滲透半透膜的選擇性。目前，較高選擇性的反滲透膜元件除鹽率可以高達99.7%
二、反滲透優點:
連續運行，產品水水質穩定
無須用酸鹼再生
不會因再生而停機
節省了反沖和清洗用水
以高產率產生超純水(產率可以高達95%)
無再生污水，不須污水處理設施
無須酸鹼儲備和酸鹼稀釋運送設施
減小車間建築面積
使用安全可靠，避免工人接觸酸鹼
減低運行及維修成本
安裝簡單、安裝費用低廉
㈦ 硅磷晶用多了會影響反滲透膜的壽命嗎
歸零經用多了會影響反滲透膜的壽命，所以必須要注意這個應該是不能夠讓他使用時間太長，如果使用時間太長會影響他的生長的。
㈧ 反滲透產水二氧化硅高是什麼原因
樓主你好，反滲透產水出現細菌主要有以下幾種可能：
1、反滲透出現生物內污染，生物污染主要發生在一段，容主要體現為一段進水壓力的增加，段間壓差增大，膜生物污染會引起產水生物污染。
2、產水箱要定期殺菌，因為反滲透產水中已沒有餘氯，所以只要產水箱中有少量細菌，極易快速繁殖形成二次污染，因此要及時對產水箱進行殺菌作業。
3、濃水竄入產水，造成產水中含有細菌，這主要發生在膜元件連接密封漏水情況下，同時伴有產水電導率升高。
4、要排除取樣埠污染及取樣器材污染可能性，取樣時要在反滲透近點取水，取樣時要多排放，將取樣管中的殘水排出，取新鮮產水。取樣瓶要做殺菌處理，水樣不要長時間存放，這些都要注意的。
希望對你有所幫助，有疑問可以繼續追問，呵呵。
㈨ 反滲透如何反洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。