去離子電路

㈠ 去離子水設備都有哪些主要用途

去離子水設備都有哪些主要用途
1、電子工業用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電專子元器屬 件沖洗水。
2、制葯行業用水：大輸液、針劑、片劑、生化製品、設備 清洗等。
3、化工行業工藝用水：化工循環水、化工產品製造等。

㈡ 為什麼清洗完電路板要用去離子水最終拋光

也就是高純水了。
不但是不能有什麼雜質，而且對氣體的含量也有要求的。因其高電阻，可用於電子行業的清洗過程。

㈢ 如何製得去離子水

自己製作：

1、准備自來水、帶蓋子的燒水壺、燒水的火，燒水。

2、水沸騰時冒出的水蒸氣是很純凈的，當它們上升到較冷的水壺蓋子上就會凝結成水珠，把這些水珠收集起來就是自製的去離子水。

少量生產：

使用專業制備去離子水的小型設備（又名「純水機」），當想接水時，摁下開關，自然就有雜質含量達標的去離子水供使用。

大批量工業生產：

1、經過粗過濾、活性炭過濾處理的原水，其大部分有機物、微生物等雜質已經得到了一定程度的凈化，但水中的Ca+、Mg2+、CO32-以及溶解的某些氣體可不受過濾工藝影響，所以此時水中仍含有大量的正負離子。

2、可以利用電滲析技術，將水通過帶有正負電極和陰陽離子交換膜的電滲析器，可以將水中的正負離子置換出來，從而使流出來的水的離子濃度大大降低，減輕了後續工藝中離子交換樹脂的負擔。

3、把離子交換樹脂裝進圓柱狀容器中，謂之離子交換柱。水從交換柱上部流入，通過樹脂完成離子交換後由下部流出。一個陽離子交換柱加一個陰離子交換柱串聯後為一級，而串聯的級數越多，顯然去除雜質的效果就越好。

4、用紫外光照射方法使水中的細菌不能存活，達到殺菌的目的。然後，用微孔過濾器將水中0.5μm以上尺寸的各種顆粒過濾掉。至此，可以獲得一般潔凈度的去離子水。

(3)去離子電路擴展閱讀：

去離子水的主要用途：

1、實驗室、化驗室用水，一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；

2、電子工業生產，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等；

3、電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

4、汽車、家用電器、建材表面塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；

5、石油化工行業,化工反應冷卻水、化學葯劑、生產配液用水等；

6、工業紡織印染、鋼鐵清洗用水等；

7、食品、飲料、酒類、化妝品生產用水；

8、海水、苦鹹水等凈化。

㈣ 什麼是去離子水設備，去離子水採用的工藝有離子交換

去離子水設備，是離來子交換系統自。離子交換系統是通過陰、陽離子交換樹脂對水中的各種陰、陽離子進行置換的一種傳統水處理工藝，陰、陽離子交換樹脂按不同比例進行搭配可組成離子交換陽床系統，離子交換陰床系統及離子交換混床系統，而混床系統又通常是用在反滲透等水處理工藝之後用來製取超純水，高純水的終端工藝，它是用來制備超純水、高純水不可替代的手段之一。
去離子水設備主要用途
1、化妝品行業：護膚品、洗發水、染發劑、牙膏、洗手液生產用水
2、電子工業：鋁箔清洗、電子管噴塗配液、顯相管玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶體管和集成電路的矽片清洗用水、配製水
3、電池行業：蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水
4、混凝土外加劑配製用水
5、玻璃鍍膜、玻璃製品清洗及燈具清洗用水
6、紡織印染工業：印染助劑配製、濕巾及面膜生產用水
7、超聲波清洗用水
8、塗裝行業：塗料配製、電鍍配製清洗、電泳漆配製清洗用水

㈤ 去離子水導電嗎

去離子水（deionized water）是指除去了呈離子形式雜質後的純水，電阻率可達到18兆Ω·m左右。電阻率小於10^(-5)Ω•m的稱導電體，如金屬材料等。電阻率大於100兆Ω•m的稱絕緣體，如陶瓷、橡膠、塑料等材料。介於兩者之間的稱半絕緣體或半導體。所以去離子水是半導體，導電能力很弱，但能夠導電。

㈥ 去離子水設備的優點和用途是什麼

去離子水設備主要用途
1、化妝品行業：護膚品、洗發水、染發劑、牙膏、內洗手液生產用容水
2、電子工業：鋁箔清洗、電子管噴塗配液、顯相管玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶體管和集成電路的矽片清洗用水、配製水
3、電池行業：蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水
4、混凝土外加劑配製用水
5、玻璃鍍膜、玻璃製品清洗及燈具清洗用水
6、紡織印染工業：印染助劑配製、濕巾及面膜生產用水
7、超聲波清洗用水
8、塗裝行業：塗料配製、電鍍配製清洗、電泳漆配製清洗用水

㈦ 去離子水機的工作原理

通過多級前處理過濾芯，如：PP纖維過濾芯、CTO、PPF去除大顆粒的雜質、膠體、懸浮物，經過高壓泵加壓透過去離子膜，去除水中95%以上的離子雜質，達到初級去離子水，剩下5%的雜質離子，利用無數級陰陽樹脂混合的核子級拋光去離子樹脂（稱去離子柱），吸附交換去除。或用EDI電去離子裝置去除剩下的5%的離子。再通過一些復雜的控制電路，控制水機的缺水保護、壓力控制、在線水質檢測、細菌微粒去除、沖洗系統、以及人性化的介面操作設置，達到使用方面、安全、易操作維護、低成本的目的。
小型的去離子水機工藝流程如下： 原水——第一級纖維過濾器——第二級CTO活性炭過濾器——第三級保安過濾機——超凈高壓水泵——RO逆滲透膜過濾——多級純水柱——去離子水
去離子方法對比傳統的去離子設備方法是：蒸餾，離子交換，電滲析等。倍爾凈去離子水設備是結合電滲析，離子交換手段，全新的去離子方法。與傳統的去離子方法相比，耗電量少，設備佔地小，投資省，使用方便，安裝簡單，不需專人安裝。只需接個進出水口及排水口。設備的配置齊全，基本不需要另購配置，就可與自來水龍頭連接。
技術特點：
BK系列去離子水設備的適用范圍廣，可以是地下水，自來水，純水，蒸餾水均可，不像傳統去離子水機需要用蒸餾水作為原水。最重要的是每公斤的去離子水成本不超過4分錢。真正為您省錢。
應用范圍：
去離子水機的應用范圍很廣，可以被廣泛應用在化工，生產科技，實驗室，學校實驗，動物飲水，標准液配置，產品清洗，小型實驗用水等行業。去離子水機的未來發展是無限的。

㈧ 半導體製造對去離子水的要求

可以飲用，但必須確保是去離子水而不是無色無味的化學葯液。

帶RO反滲膜的家用凈水機和超市賣的不添加氯化鎂/鈣的純凈水其實就是去離子水。半導體工廠的去離子水和超市裡的純凈水都是經過反滲膜過濾的去離子水，不過半導體工廠的去離子水雜質和離子去除率更高。

長期大量喝純凈水/去離子水會導致礦物質缺乏，如缺鈣，但不是很嚴重，食物里還是含有很多礦物質。

據說很多實驗室會用某哈哈純凈水代替去離子水，效果不錯，雜質少離子少，價格比專門買去離子水便宜很多。
半導體從業者對晶元都有一定程度的了解，但我相信除了在晶圓廠的人外，很少有人對工藝流程有深入的了解。在這里我來給大家做一個科普。首先要做一些基本常識科普：半導體元件製造過程可分為前段製程（包括晶圓處理製程、晶圓針測製程）；還有後段（包括封裝、測試製程）。

零、概念理解 所謂晶圓處理製程，主要工作為在硅晶圓上製作電路與電子元件（如電晶體、電容體、邏輯閘等），為上述各製程中所需技術最復雜且資金投入最多的過程 ，以微處理器（Microprocessor）為例，其所需處理步驟可達數百道，而其所需加工機台先進且昂貴，動輒數千萬一台，其所需製造環境為為一溫度、濕度與 含塵（Particle）均需控制的無塵室（Clean-Room），雖然詳細的處理程序是隨著產品種類與所使用的技術有關；不過其基本處理步驟通常是晶圓先經過適 當的清洗（Cleaning）之後，接著進行氧化（Oxidation）及沈積，最後進行微影、蝕刻及離子植入等反覆步驟，以完成晶圓上電路的加工與製作。

晶圓針測製程則是在製造好晶圓之後，晶圓上即形成一格格的小格 ，我們稱之為晶方或是晶粒（Die），在一般情形下，同一片晶圓上皆製作相同的晶片，但是也有可能在同一片晶圓 上製作不同規格的產品；這些晶圓必須通過晶片允收測試，晶粒將會一一經過針測（Probe）儀器以測試其電氣特性， 而不合格的的晶粒將會被標上記號（Ink Dot），此程序即 稱之為晶圓針測製程（Wafer Probe）。然後晶圓將依晶粒 為單位分割成一粒粒獨立的晶粒。

IC封裝製程（Packaging）：利用塑膠或陶瓷包裝晶粒與配線以成集成電路；目的是為了製造出所生產的電路的保護層，避免電路受到機械性刮傷或是高溫破壞。而後段的測試則是對封裝好的晶元進行測試，以保證其良率。

㈨ 去離子水陽離子去除

去離子水是去除水中離子,也成為純水.方法很多：如用離子交換樹脂,反滲透膜等.超純水是利用純水,再經過超純水樹脂吸附制備,一般用於光學元件,電路,光碟,等對水指標要求高的企業.

㈩ 工業去離子水設備能做什麼，有什麼用途

去離子水設備都有哪些主要用途
1、電子工業用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器
件沖洗水。
2、制行業用水：大輸液、針劑、片劑、生化製品、設備
清洗等。
3、化工行業工藝用水：化工循環水、化工產品製造等。