西門子edi進水訪問

1. 反滲透里的EDI是指什麼

首先，反滲透系統裡面沒有EDI。你應該是想知道跟反滲透有關的專EDI是什麼。

EDI（Electrodeionization）又稱連續電除屬鹽技術，它是將傳統電滲析技術和離子交換技術相結合，在電場力的作用下，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過性作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，使水中離子作定向遷移，從而實現水的深度凈化除鹽。水電解產生的氫離子和氫氧根離子對樹脂進行連續再生，因此EDI模塊制水過程不需要酸鹼化學再生即可連續製取高品質超純水。 EDI跟反滲透的關系非常明確，反滲透的出水，作為EDI的進水，通過EDI進一步工作，從而制備符合要求的高品質除鹽水、超純水。
目前市面上應用最多的EDI品牌有Electropure EDI、西門子等。

2. 您好！水處理：混床出水進EDI和EDI出水進混床，這兩種接法有沒有什麼區別呢謝謝！！

一、混床與EDI的性能對比：

1、EDI與混床運行對比

混床

混床在有效的交換周期內，出水水質穩定，其電阻率可達14MΩ，一旦到達失效終點，則電導率會急劇上升，出水水質也隨之不穩定。由於其交換周期受操作工的操作水平、再生劑質量、預處理水質以及樹脂本身的質量等因素的影響，故存在有效周期時間長短不確定的因素。

所以，在反滲透＋混床的系統中至少存在兩個混床，一用一備，以減小混床突然失效帶來的風險。

EDI

又稱連續電除鹽（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization），是將兩種已經成熟的水凈化技術－－電滲析和離子交換相結合，溶解的鹽在低能耗的條件下被去除，在運行過程中不需要化學再生，並且其出水電阻率較混床出水還要高，可達10-18.2MΩ.CM，滿足國家電子級水I級標准。

EDI對一級反滲透出水電導率沒有太高的要求，進水電導率在4-30us∕cm其都能夠合格產水。可能需增加軟化裝置，去除水中的鈣、鎂離子。

若電導率較高時只需調節運行電流的大小和加葯量（氯化鈉）的大小。

屬於環保型技術，離子交換樹脂不需酸、鹼化學再生，節約大量酸、鹼和清洗用水，大大降低了勞動強度。更重要的是無廢酸、廢鹼液排放，屬於非化學式的水處理系統，它無需酸、鹼的貯存、處理及無廢水的排放。

2、EDI與混床操作對比

混床

混床再生時間比較長，再生中需耗用大量的RO水將混床沖洗合格。混床的設備操作在純化水系統中是比較復雜的，從一開始的配酸、鹼到最後的再生結束最少需經過兩個班、多人的配合，勞動強度較大，同時由於混床的交換有效周期的縮短帶來了混床的頻繁再生，進一步加大了再生時的勞動強度。

混床再生時操作工需與酸、鹼進行接觸，是一種危險性的操作，而且再生時雖然操作工穿戴有勞動保護用品，但仍使操作工的人身安全存在一定危險。

混床再生後的使用有效期與操作工的經驗、工作責任心及再生用酸鹼的質量有很大的關系，由於其操作大部分靠經驗操作，難免會出現混床再生後在備用期內就失效，不能使用的事情。這樣就有可能會影響正常生產。

EDI

EDI是由幾個每小時產水量相同的模塊組成，根據實際純水的使用量開啟或停止EDI模塊，手動操作相對頻繁，但操作比較簡單，只需開啟EDI進水閥門、極水閥門和濃水閥門，以及打開電源同時根據出水水質調節加葯量（氯化鈉）、電解電壓和電流的大小即可，對操作工的責任心要求較高。

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EDI相對與混床具有如下的優勢：

1、無需再生化學品的再生；

2、不需要中和池及中和的酸鹼；

3、地面和高空作業能夠極大地減少；

4、所有的水處理系統操作都能夠在控制室內完成– 無需前往現場；

5、減小了EHS風險；

6、連續工作，不是間歇操作，長時間穩定的出水水質；沒有廢棄樹脂污染排放的風險。

3. 西門子EDI模塊產水出水只有8兆歐姆，，電流和電壓都很高，，哪個高手幫忙解決一下

原因一般情況下至少有以下幾種：
1.EDI進水的反滲透出水電導率是不是比較高，如回果比較高，說明反滲透設備答需要清洗或者更換反滲透膜了。因為EDI對進水要求比較嚴格，如果進水電導率高，導致EDI模塊脫鹽能力下降，所以電阻率升高。
2.EDI使用了多少時間了？如果使用年限超過3年，需要更換EDI模塊里的陰陽樹脂和陰陽膜。
3.EDI電流是否正常，需要進行微調。
4.在EDI進水之間是否正常添加了鹼來調節水的PH值，因為RO出水PH值比較低，偏弱酸性，而EDI模塊在PH值大於7時脫鹽率比較高，所以需要調整計量泵加鹼量。

4. EDI的進水要求

EDI的進水要求：
反滲透RO產水，電導率1-20μs/cm，最大允許電導率≤30μs/cm（NaCl）。
 pH值：內 7.5—9
 溫度： 15℃--35℃
 進水壓力（容DIN）：0.15—0.4MPa
 濃水進水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa
 產水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa
 濃水出水壓力(COUT)： 0.02—0.2MPa
 進水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）
進水有機物：TOC＜0.5ppm
 進水氧化劑：Cl2（活性）＜0.03ppm，O3（臭氧）＜0.02ppm，
 進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子＜0.01ppm
 進水硅：SiO2＜0.5ppm
 進水總CO2：＜3ppm
 進水顆粒度：＜1μm

5. 進水水質對edi水處理效果有什麼影響

進水水質對EDI水處理效果有什麼影響？

1、進水水壓：EDI水處理進水的水壓對脫鹽效果影響不大，但是當進水水壓升高時，會驅動反滲透凈壓力值升高。反滲透凈壓力值升高會導致膜透過的水量加大，同時膜的脫鹽率不變，那麼增加的產水量就稀釋了膜透過的鹽分，提高了脫鹽率。

可是，當進水水壓一旦超過規定值時，反滲透膜過高的回收率就會加大水中含鹽量，加大膜的脫鹽壓力，造成鹽透過量增大;進水水壓的長期不穩定，會嚴重影響到反滲透膜的工作效益與工作質量。

2、進水水溫：反滲透膜會隨著進水溫度的升高增加水的透過量，根據熱脹冷縮原理，反滲透膜產水電導對水溫變化十分敏感。水溫每升高一度都會加大一定量的透過量;因此，進水水溫一定要控制在最適宜范圍內，不建議溫度過高。

3、進水酸鹼值：雖然進水的PH值對反滲透膜的產水量並無太大影響，但是卻對反滲透膜的脫鹽率影響較大。只有進水PH保持在7.5-8.5之間，反滲透膜的脫鹽率才最理想。

4、進水含鹽量：進水水質含鹽量也是影響反滲透膜性能的原因之一，反滲透膜的滲透壓是根據水中所含鹽分以及有機物的總體濃度估算出來的函數，一旦進水水質含鹽濃度增高，濃度差就會變大，在同一滲透壓的作用下，反滲透膜透鹽率就會上升，導致整體脫鹽率下降，影響水質。

6. 請問西門子EDI模塊是如何清洗的

根據西門子EDI模塊系統的運行狀態，EDI系統的清洗採用酸洗—消毒—鹼洗版的方法來清洗EDI模塊。清洗時，EDI系統的淡水室、權濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從「原水進」和」濃水進」清洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。

7. EDI運行中的主要影響因素有哪些

EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它採用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。 模塊化的設計， 使EDI在生產工作時能方便維護。 RO+EDI實驗室超純水機應用領域： HPLC、TOC分析、原子吸收光譜、離子色譜分析、質量光譜分析、微量金屬測定、鑒定用溶量配製、微生物學分析、組織培養、樣品稀釋、鑒定用玻璃器皿洗滌、及TCEP和TCEI系列適用范圍、DNA測序、PCR和電泳、試管培養抗體製取等。分析EDI系統為一項新型的水處理技術，其系統特性和技術維護一直是人們予以研究的叫點，下面對EDI系統運行中的主要影響因素進行分析，包括進水，進水流量，電壓與電流，水的PH值，溫度及壓力的影響等。

1、進水電導率對脫鹽效果的影響：在保證其他條件不變的前提下，隨著原水電導率的上升，脫鹽效果變差。這是因為進水電導超過一定范圍後，模塊的工作區間往下移動，乃至再生區消失,工作區穿透，模塊內的填充樹脂大部分呈飽和失效狀態。同時水中的離子濃度增加,在電壓恆定不變的情況下，電流增加，從而電離水的過程減弱，相應的水電離出的H+，OH-減少，直接導致樹脂的再生變差。這樣，在進水水質變差的情況下，模塊會由弱電離子開始慢慢穿透，系統的電流會增加，因為在水的電離現象，在電壓恆定的情況下，電流的上升是非線性的。

2、進水流量的影響：進水流量與EDI系統的處理能力，進水水質以及進水壓力有關。在EDI系統產水能力恆定條件下，進水水質越差，模塊的單位處理負擔就越重，進水流量應當調節的越小。在模塊的啟動階段，應當注意瞬間流量過大時，會造成膜的穿孔。由於模塊中的電子流主要通過填充樹脂傳遞的，所以濃水電流在一定程度上，成了影響模塊中的電子流遷移的關鍵。在實際的試驗中可以發現，減少濃水的流量可以提高系統的電流，並且在一定程度上提高水質。但是濃水流量也並非越小越好，當濃水流量過小時會導致膜兩側濃度差更大，而形成濃差擴散，影響水質。另一方面，由於弱電離子Si及其離子態化合物的溶解度很小，所以容易在低流量的濃水中形成飽和，從而影響弱電離子的去除。根據現場試驗可以大致得到濃水流量一般為進水的5%—10%為宜。電極水的作用主要是給電極降溫和帶走電極表面產生的氣體。一般電極水的流量是進水的1%左右。當電極水過小時，不能及時帶走電極表面的氣體，會影響整個模塊的運行。

3、電壓和電流的影響：電壓的確定和模塊的設計有關，電壓是使離子遷移的動力，它使得離子從進水中遷移到濃水中，同時電壓也是電解水用於再生樹脂的關鍵。在規定范圍內如果電壓過低，會導致電解水減少，產生的H+和OH-離子不足以再生填充樹脂，同時電壓太低使得離子的遷移動力減弱，最終使模塊的工作區間下產水水質變差。如果電壓過高，就會電解出過剩的H+和OH-，使電流升高的同時也使離子極化和擴散加劇，導致產品水水質變差。電壓是否過高可以從電極出水中的氣泡多少加以判斷。最佳電壓范圍的確定主要由進水電導和濃水的流量決定，比如當進水電導變大，濃水的濃度也變大的情況下由於系統的電阻減少，所以系統的電壓也應當相應的下調。

8. EDI高純水設備的進水要求

項 目 技 術 要 求 給水 RO產水,電導率≤20μs/cm ( 建議<10μs/cm ) PH值 6.0 ~ 9.0 (建議7.0 ~ 9.0 ) 水溫 5 ~ 35℃ 硬度(以CaCO3計內) < 0.5 ppm 有機物 < 0.5 ppm，TOC建議值為容零 氧化物 ≤0.05 ppm (Cl2) , 0.02ppm (O3),兩者為零最優 Fe、Mn ≤0.01ppm 二氧化硅 < 0.5 ppm 二氧化碳 < 5 ppm 油和油脂 檢不出

9. 導致西門子EDI模塊損壞原因是什麼

引起西門子EDI模塊故障的主要原因有哪些？

1、EDI模塊長期在大電流，小流量運行，積聚的熱量得不到散發，造成EDI接近兩極的膜片發熱變形,EDI濃水壓差增大，水質和水量都不同程度的下降；

2、EDI模塊長期沒有清洗保養或是EDI模塊進水鈣鎂超標，EDI的膜片和通道結鈣鎂垢，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節，最終無法使用；

3、EDI模塊長期沒有清洗保養或長期停機沒有保護，EDI的膜片和通道滋生有機物，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節，最終無法使用；

4、採用不合理的清洗和消毒葯劑，直接導致EDI樹脂損壞和破碎，進出水壓差增大，造成產水水質和水量全部下降；

5、EDI系統手動運行時，在缺水狀態下加電，直接導致膜片、樹脂以及EDI膜塊硬體燒毀，清洗無效，無法使用；

6、EDI進水前無保安濾器，直接導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產水水量嚴重下降，清洗無效；

7、前處理不佳（軟化器，亞硫酸添加系統，RO等）、控制系統故障/失靈（安全聯鎖裝置，低流量保護的問題） 、不適當的系統設計（RO 初期產水未排放）等；

8、預處理活性炭失效，EDI膜塊進水余氯超標，造成EDI模塊樹脂氧化，進出水壓差增大，電阻率下降、出水量下降。

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10. edi進水為什麼需要濃水進去

edi進水需要濃水是因為濃水可以帶走淡水側遷移過來的陰陽離子，防止結垢。

edi中淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留，水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少，成為淡水。

而濃室的水中，由於濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化、提純、濃縮或精製的目的。

濃水在EDI中的應用

EDI裝置的回收率是90-95%，按此回收率計算，濃水通常的比例是5-10%，市面上進口的EDI有IONPURE和E-CELL兩大品牌，具體都有最低濃水量的控制要求，這個最低濃水量是必須要保證的，否則EDI模塊將面臨被燒毀的可能。

在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水。