磁過濾陰極弧原理

A. 請問pvd是什麼工藝

1、PVD(Physical Vapor Deposition)是物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸發、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

2、PVD(Programmable Voltage Detector)，即可編程電壓監測器。應用於STM32ARM晶元中，作用是監視供電電壓，在供電電壓下降到給定的閥值以下時，產生一個中斷，通知軟體做緊急處理。當供電電壓又恢復到給定的閥值以上時，也會產生一個中斷，通知軟體供電恢復。

(1)磁過濾陰極弧原理擴展閱讀：

PVD技術出現於，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層；PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。當前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。

B. 磁性分離器的工作原理是什麼

磁性分離器主要針對於磨削加工中鐵末、鐵屑的分離，將切削液中的鐵屑吸附出來，達到分離凈化的目的

磁性分離器分為兩種，一種是膠輥磁性分離器，另一種是梳齒磁性分離器，兩則在不同領域都有著顯著的效果

磨床下來的屑無非兩種，一是鐵屑粉末，二是砂輪粉末，那麼如果只用紙帶過濾機，完全可以達到過濾效果，過濾精度一般為25-30微米左右。

過濾機上的無紡布可以隔離掉幾乎所有的雜質，從而達到過濾、凈化的效果。這是我們從過濾方面來講的。但紙帶過濾機是依靠無紡布過濾的，這種過濾機使用的無紡布是一種耗材，一次性的消耗品，所以我們再從消耗品的方面來看下。

如果在磨削液進入紙帶過濾機之前加上一套磁性分離器，那麼磁性分離器利用鐵氧體磁鐵可以吸附磨削液里60%的鐵末和少量的砂輪末，這些被吸附的雜質會直接由磁性分離器的刮屑板掛掉，這樣一來，在進入紙帶過濾機進行過濾的磨削液所含的雜質很大大減少，無紡布的消耗也會大幅度減少，一般不配磁性分離器的磨床消耗一卷無紡布大概需要1個月左右，而配套磁性分離器的過濾機所消耗無紡布的時間大概在3-5個月（當然，這也要看磨床所加工工件的精細度和雜質含量）。加之磁性分離器無任何耗材，使用壽命也很長，很多機床廠液很青睞於選用磁性過濾機組合。

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C. 請問PVD的工藝是 什麼

1.
PVD簡介
PVD是英文Physical
Vapor
Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
2.
PVD技術的發展
PVD技術出現於二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層；PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。目前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合塗層。
3.
星弧塗層的PVD技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA
)配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒，
因此制備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。

D. pvd鍍膜工藝怎麼樣

PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是「物理氣相沉積」，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。
離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。
採用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。
PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，並能夠維持工件尺寸基本不變，鍍後不需再加工。
ABS、PC、ABS+PC塑料底材UV真空鍍膜表面出現油點、油窩問題的解決方法：
UV真空鍍膜為什麼要除油？
1.塑料注塑成型使用脫模劑等導致塑料表面沾有油污，是電鍍不良缺陷主要的原因。在塑料表面電鍍罩UV光油的表面處理工藝中，塑料注塑成型工藝中脫模劑殘留在塑料表面導致電鍍不良是較為常見的.
2.脫模劑能夠對塑料模具成型的塑料提供快捷有效的脫模作用，而殘留在塑料製品表面的脫模劑油污，會在材質表面形成分布不均勻的油花或者油點。
靜川化工UV真空鍍膜處理劑的應用：
白電油浸泡除油方法，安全性能成為較大的隱患，除油效果不穩定，施工工藝繁瑣，造成影響電鍍效果的因素增多，沒有足夠的市場經驗和實驗基礎，且無法達到環保標准需求。但是靜川化工UV真空鍍膜處理劑則只需噴塗的電鍍除油劑，操作工藝簡單，能夠配合線體進行施工，遮蓋油污能力強，無鹵通過RoHS檢測，已通過大量的市場應用證明，除油效果穩定，效率高，無鹵環保，提升良率幅度大。

E. 真空永磁過濾機工作原理

主要用途:

真空永磁過濾機是選礦行業的專用選礦設備，我所生產的真空永磁過濾機GYW系列產品，運轉性能穩定、操作簡單、濾布更換方便、脫水效果好；自投放市場來深受各地用戶信賴！

真空永磁過濾機技術性能：

·精礦粉含水率7％～10％

·過濾礦粉厚度20mm～30mm

·真空度450～600mm/Hg

·抽氣量1m³（單位過濾面積）

·鼓風量0.2～0.4m³（單位過濾面積）

適用范圍：

主要適用於粗顆粒的強磁性物料的脫水，同時提高精礦粉的品位。

工作原理：

真空永磁過濾機的工作是由給料、吹礦和吸附成餅、脫水、卸料、清洗等部分連續動作完成的。真空永磁過濾機主要依靠圓筒內部的由永久磁鐵排列成的開路磁系作用形成濾餅，當磁性物料進入盛產箱之後，其中的固相磁性物料在磁力和顆粒本身重力的作用下呈磁簇狀迅速地被吸附在筒體的濾布上，由於上部給料，使得濾餅中礦物按粒度分層的效果更加明顯，故構成濾餅厚而且透氣性好。隨著圓筒的轉動，進入脫水區，在真空的作用下濾餅中的殘存水分透過濾布並經過濾室和分配頭上的兩個真空管路而被抽出，已徑脫水的物料在卸料區被壓縮空氣吹落，卸料後濾布進入清洗區。清洗是用鼓風和水交替進行的，壓縮空氣強制地將水由筒里向外吹出，形成較好的清洗過程，防止濾濾布孔隙的堵塞，為下次進行物料的脫水工作準備了良好的條件。

真空永磁過濾機主要技術參數：

型號過濾面積（m2）筒體尺寸（mm）筒體轉數（r/min）給料濃度（％）筒表磁感應強度（mT）濾並水份％處理能力（t/h）外形尺寸

（長×寬

×高）mm重量(t)

GYW-55Ф2000×9000.5～2＞60827～1014～182100×2755×25003.94

GYW-88Ф2000×14000.5～2＞60827～1022～432610×2905×25004.76

GYW-1212Ф2000×20000.5～2＞60877～1033～653210×2905×25005.42

註：技術參數以隨機供圖為准

F. 什麼是pvd電鍍

VD簡介
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
[編輯本段]
PVD技術的發展
PVD技術出現於二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層； PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。目前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合塗層。
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塗層的PVD技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。
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補充
物理氣向沉積技術 * PVD 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點，
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 PVD 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。
Ionbond 陰極電弧 PVD 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。
工藝溫度
典型的 PVD 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間，但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量， PVD 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。
塗層適用的典型零件
PVD 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層，應用領域包括刀具和成型模具，耐磨部件，醫療裝置和裝飾產品。
材料包括鋼質，硬質合金和經電鍍的塑料。
典型塗層類型
塗層類型有 TiN, ALTIN,TiALN,CrN,CrCN,TiCN 和 ZrN, 復合塗層包括 TiALYN 或 W — C ： H/DLC
塗層厚度一般 2~5um ，但在有些情況下，塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。
塗層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時。
加工過程優點
適合多種材質，塗層多樣化
減少工藝時間，提高生產率
較低的塗層溫度，零件尺寸變形小
對工藝環境無污染

G. 磁性分離器的工作原理，組成部份有哪些

1. 磁性分離器又稱為壓輥式磁性分離器，主要是依靠永磁型磁鐵：鐵氧體、汝鐵硼，按照一定的規則排版成一個大型磁塊，然後將這些磁塊放入不銹鋼的密閉空間內，利用磁鐵吸附鐵屑。

2.一般磁性分離器分為兩種型號：膠輥磁性分離器和梳齒磁性分離器；膠輥磁性分離器主要適用於液體中雜質顆粒較小，粉末狀顆粒，例如大多數磨床。梳齒型磁性分離器主要應用於液體有大顆粒物質，例如旋壓機配套、冷軋廢水處理等。並且小流量的一般應用膠輥磁性分離器

3.選型標准主要是依靠流量來確定意思是分離流量50L/min，100是流量100L/min，這個流量就是機床泵循環流量，這個參數一定要配合要才有很好的分離效果。

H. 磁分離法的基本原理是什麼

一切宏觀的物體，在某種程度上都具有磁性，但按其在外磁場作用下的特性，可分為以下三類。
(1)鐵磁性物質
這些物質在外磁場作用下能迅速到達磁飽和，磁化率大於零並和外磁場強度成復雜的函數關系離開磁場後有剩磁。
(2)順磁場物質
磁化率大於零，但磁化強度小於鐵磁性物質，在外磁場作用下，表現出較弱的磁性，磁化強度和外磁場強度呈線性關系，只有在溫度低於4k時，才可能出現磁飽和現象。
(3)反磁性物質
磁化率效率零，在外磁場作用下，逆磁場磁化，使磁場減弱。
各種物質磁性差異正式磁分離技術的基礎。水中顆粒狀物質在磁場里要受磁力、重力、慣性力、粘滯力以及顆粒間互相作用力的作用。磁分離技術就是有效地利用磁力，克服與其抗衡的重力、慣性力、粘滯力(磁過濾、磁碟)或利用磁力和重力，使顆粒凝聚後沉降分離(磁凝聚)。
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I. 兩種pvd技術分別是什麼各自的特點是什麼

VD簡介
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
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PVD技術的發展
PVD技術出現於二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層； PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。目前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合塗層。
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塗層的PVD技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。
[編輯本段]
補充
物理氣向沉積技術 * PVD 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點，
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 PVD 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。
Ionbond 陰極電弧 PVD 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。
工藝溫度
典型的 PVD 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間，但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量， PVD 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。
塗層適用的典型零件
PVD 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層，應用領域包括刀具和成型模具，耐磨部件，醫療裝置和裝飾產品。
材料包括鋼質，硬質合金和經電鍍的塑料。
典型塗層類型
塗層類型有 TiN, ALTIN,TiALN,CrN,CrCN,TiCN 和 ZrN, 復合塗層包括 TiALYN 或 W — C ： H/DLC
塗層厚度一般 2~5um ，但在有些情況下，塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。
塗層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時。
加工過程優點
適合多種材質，塗層多樣化
減少工藝時間，提高生產率
較低的塗層溫度，零件尺寸變形小
對工藝環境無污染

J. pvd與電鍍的區別是什麼

PVD基本方法:真空蒸發、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

電鍍(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料製件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如銹蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。