A. 如何处理半导体(LED)废水
随着单个LED光通亮和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LED显示器背光源等市场广阔。 LED生产过程中绝大部分废水产生在原材料和芯片制造过程中，分为拉晶、切磨抛和芯片制造，主要含一般酸碱废水、含氟废水、有机废水、氨氮废水等几种水质，在黄绿光晶片制造过程中还会有含砷废水排出。 2、LED芯片加工废水特点：主要污染物为LED芯片生产过程中排放的大量有机废水和酸碱废水，另有少量含氟废水。有机废水主要污染物为醇、乙醇、双氧水;酸碱废水中主要污染物为无机酸、碱等。 3、LED切磨抛废水特点：主要污染物为大量清洗废水，主要成分为硅胶、弱酸、硫酸、盐酸、研磨砂等。 4、酸碱废水排放：主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水，采用化学中和法处理。 含砷废水：主要来自背面减薄及划片/分割工序，采用化学沉淀法处理。 一般废水：排放方式均为连续排放，主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类，采用生化法去除。 含氟废水：主要清洗废水中含有HF，使用混凝沉淀去除。 高氨氮废水：使用折点加氯法，将废水中的氨氮氧化成N2。投加过量氯或次氯酸钠，使废水中氨完全氧化为N2的方法，称为折点氯化法，其反应可表示为： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生产加工之蓝宝石拉晶废水 污水水质、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小时连续)废水水质：PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后进入有机废水调节池。人工收集到含氟废水收集池，加药剂进行沉淀。上清液达标排放，污泥排入污泥浓缩池处理。 利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能，向池内投加厌氧性水解菌，池内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质，为后继处理单元提供部分水解处理服务。 废水经过调节后经泵提升进入进入厌氧水解池。 厌氧水解池采用上向流布水形式，利用循环管网系统加强池底部的混流强度，提高反应器内的传质效果。利用微生物的水解酸化作用将废水中难降解的大分子有机物转化为易降解的小分子有机物，将复杂的有机物转变成简单的有机物，提高废水的可生化性，有利于后续的好氧生化处理。出水自流进入接触氧化池。接触氧化池的混合液进入二沉池进行泥水沉淀分离。为保证COD排放达标的处理要求，将二沉池出水导入BAF进行处理。生物曝气滤池的出水流入清水池，为生物曝气滤池提供滤料的反冲洗水，其余的清水达标排放。 5.2、LED生产加工之切磨抛废水 污水水质、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小时连续)废水水质：1PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺根据业主废水的水质情况，在吸取以往同类废水处理装置设计的成功经验和一些同类废水处理装置的实际运行经验，设计污水处理主体工艺路线如下： 格栅池+清洗废水调节池+反应池+物化沉淀池达标排放 污泥处理主体工艺采用工艺路线为： 污泥浓缩+污泥调理+板框压滤泥饼外运 5.3、LED生产加工之芯片废水 污水水质、水量： 有机废水水量：19.4t/h(24小时连续)水质：PH值6.0-8.0无量纲 酸碱废水水量：70t/h(24小时连续)水质：PH值4.0-11.0无量纲 含氟废水水量：4t/h(24小时连续)水质：PH值2.0-4.0无量纲 氟化物≤200mg/L处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后达标排放。含氟废水收集调节后与投加的药剂反应生成不溶性氟化物沉淀，上清液达标排放。
B. 办个污水处理厂都需要那些设备怎么规划和设施求专业人事帮帮忙！
首先，污水处理厂你得清楚都需要上的设备和仪器你有那鞋，厂房面积精确到心里，根据设备大小对现场进行调研勘察，然后设计图纸，最后施工。
C. 在一个地区的产业聚集区做一个污水处理厂的整体目标规划需要考虑哪些因素
做一个污水处理厂需要规划需要考虑的因素；
1，计算污染设计量，其中包括设计人口数量和污染流量统计分析以及其流量的确定。
2，污染指标；常用有（水中BOD、COD、SS悬浮物、TS蒸发残留物、灼烧减量、总氮、总磷、PH值、碱度等。空气中二氧化氮、二氧化硫、臭氧、一氧化碳等）。
3，污染负荷量和排放标准、处理程度的确定。
4、处理方法确定，处理流程组合原则和处理效率。
5，物理、生物、化学处理工艺设计流程与计算。
6，处理目标单位物料平衡、总体布置、总体流程规划。
7，污染物的消毒杀菌工艺流程与计算。
8，工程投资预算；设备采购，人工安装维护成本预算、污染处理成本预算、项目经济评价。
一个污染治理工程从项目计划到结束需要经历多个过程，历时漫长，其中的设备采购更是需要选择一个靠谱的设备生产单位，择优而用，不要通过中介、中间人。避免售后无人问，安装后无人管的场面，使整个项目陷入僵局。
D. 半导体芯片制造废水处理方法
芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交专叉，生产中使属用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般芯片制造废水处理系统有含氨废水处理系统+含氟废水处理系统+CMP研磨废水处理系统。具体方案可以咨询泽润环境科技（广东）有限公司网页链接
E. 工厂的污水怎么处理
化工厂污水处理方法主要有：
物理法(包括过滤法、重力沉淀法和气浮法等。)
化学法(化学混凝法、化学氧化法、电化学氧化法、)
生化法(活性污泥法、SBR法、接触氧化工艺、升流厌氧污泥床法等)
物理化学法(吸附法、萃取法、膜吸法等)
化工厂污水处理方法：1.化学方法处理
化学方法是利用化学反应的作用以去除水中的有机物、无机物杂质。主要有化学混凝法、化学氧化法、电化学氧化法等。化学混凝法作用对象主要是水中微小悬浮物和胶体物质，通过投加化学药剂产生的凝聚和絮凝作用，使胶体脱稳形成沉淀而去除。混凝法不但可以去除废水中的粒径为1O～10mm的细小悬浮颗粒，而且还能去除色度，微生物以及有机物等。该方法受pH值、水温、水质、水量等变化影响大，对某些可溶性好的有机、无机物质去除率低；化学氧化法通常是以氧化剂对化工污水中的有机污染物进行氧化去除的方法。废水经过化学氧化还原，可使废水中所含的有机和无机的有毒物质转变成无毒或毒性较小的物质，从而达到废水净化的目的。常用的有空气氧化，氯氧化和臭氧化法。空气氧化因其氧化能力弱，主要用于含还原性较强物质的废水处理，Cl是普通使用的氧化剂，主要用在含酚、含氰等有机废水的处理上，用臭氧处理废水，氧化能力强，无二次污染。臭氧氧化法、氯氧化法，其水处理效果好，但是能耗大，成本高，不适合处理水量大和浓度相对低的化工污水；电化学氧化法是在电解槽中，废水中的有机污染物在电极上由于发生氧化还原反应而去除，废水中污染物在电解槽的阳极失去电子被氧化外，水中的Cl-，OH-等也可在阳极放电而生成Cl2和氧而间接地氧化破坏污染物。实际上，为了强化阳极的氧化作用，减少电解槽的内阻，往往在废水电解槽中加一些氯化钠，进行所谓的电氯化，NaCl投加后在阳极可生成氯和次氯酸根，对水中的无机物和有机物也有较强的氧化作用。近年来在电氧化和电还原方面发现了一些新型电极材料，取得了一定成效，但仍存在能耗大、成本高，及存在副反应等问题。
化工厂污水处理方法2.物理处理法
化工污水常用的物理法包括过滤法、重力沉淀法和气浮法等。过滤法是以具有孔粒状粒料层截留水中杂质，主要是降低水中的悬浮物，在化工污水的过滤处理中，常用扳框过滤机和微孔过滤机，微孔管由聚乙烯制成，孔径大小可以进行调节，调换较方便；重力沉淀法是利用水中悬浮颗粒的可沉淀性能，在重力场的作用下自然沉降作用，以达到固液分离的一种过程；气浮法是通过生成吸附微小气泡附裹携带悬浮颗粒而带出水面的方法。这三种物理方法工艺简单，管理方便，但不能适用于可溶性废水成分的去除，具有很大的局限性。
化工厂污水处理方法3.光催化氧化技术
光催化氧化技术利用光激发氧化将O2、H2O2等氧化剂与光辐射相结合。所用光主要为紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工艺，可以用于处理污水中CHCl3、CCl4、多氯联苯等难降解物质。另外，在有紫外光的Feton体系中，紫外光与铁离子之间存在着协同效应，使H2O2分解产生羟基自由基的速率大大加快，促进有机物的氧化去除。
所谓光化学反应，就是只有在光的作用下才能进行的化学反应。该反应中分子吸收光能被激发到高能态，然后电子激发态分子进行化学反应。光化学反应的活化能来源于光子的能量。在太阳能利用中，光电转换以及光化学转换一直是光化学研究十分活跃的领域。 80年代初，开始研究光化学应用于环境保护，其中光化学降解治理污染尤受重视，包括无催化剂和有催化剂的光化学降解。前者多采用臭氧和过氧化氢等作为氧化剂，在紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又称光催化降解，一般可分为均相、多相两种类型。均相光催化降解主要以Fe2＋或Fe3＋及H2O2为介质，通过光助-芬顿(photo－Fenton）反应使污染物得到降解，此类反应能直接利用可见光；多相光催化降解就是在污染体系中投加一定量的光敏半导体材料，同时结合一定能量的光辐射，使光敏半导体在光的照射下激发产生电子空穴对，吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子空穴作用，产生•OH等氧化性极强的自由基，再通过与污染物之间的羟基加合、取代、电子转移等使污染物全部或接近全部矿质化，最终生成CO2、H2O及其它离子如NO3－、PO43－、S042-、Cl－等。与无催化剂的光化学降解相比，光催化降解在环境污染治理中的应用研究更为活跃。具体参见相关技术文档。
化工厂污水处理方法4.超声波技术
超声波技术，是通过控制超声波的频率和饱和气体，降解分离有机物质。
功率超声的空化效应为降解水中有害有机物提供了独特的物理化学环境从而导致超声波污水处理目的的实现。超声空化泡的崩溃所产生的高能量足以断裂化学键。在水溶液中，空化泡崩溃产生氢氧基和氢基，同有机物发生氧化反应。空化独特的物理化学环境开辟了新的化学反应途径，骤增化学反应速度，对有机物有很强的降解能力，经过持续超声可以将有害有机物降解为无机离子、水、二氧化碳或有机酸等无毒或低毒的物质。
化工厂污水处理方法5.磁分离法
磁分离法，是通过向化工污水中投加磁种和混凝剂，利用磁种的剩磁，在混凝剂同时作用下，使颗粒相互吸引而聚结长大，加速悬浮物的分离，然后用磁分离器除去有机污染物，国外高梯度磁分离技术已从实验室走向应用。
磁分离技术应用于废水处理有三种方法:直接磁分离法、间接磁分离法和微生物—磁分离法。利用磁技术处理废水主要利用污染物的凝聚性和对污染物的加种性。凝聚性是指具有铁磁性或顺磁性的污染物,在磁场作用下由于磁力作用凝聚成表面直径增大的粒子而后除去。加种性是指借助于外加磁性种子以增强弱顺磁性或非磁性污染物的磁性而便于用磁分离法除去；或借助外加微生物来吸附废水中顺磁性离子，再用磁分离法除去离子态顺磁性污染物。
废水高梯度磁分离处理法是废水物理处理法之一种。利用磁场中磁化基质的感应磁场和高梯度磁场所产生的磁力从废水中分离出颗粒状污染物或提取有用物质的方法。磁分离器可分为永磁分离器和电磁分离器两类，每类又有间歇式和连续式之分。高梯度磁分离技术用于处理废水中磁性物质，具有工艺简便、设备紧凑、效率高、速度快、成本低等优点。
F. 城市规划中，如何进行污水处理厂的选址工作
一，污水处理厂应设在地势较低处，便于城市污水自留入厂。
二，宜设在水体版附近，便于处理后的污权水就近排入水体。
三，设在城镇，工厂厂区及居住区的下游和夏季主导风向的下方。
四，不宜设在雨季易受水淹的低洼处。防止污染水体。
五，结合近远期城市发展问题，与城市总体规划一并考虑。
G. 污水处理厂 未来发展规划
一，污水处理厂应设在地势较低处，便于城市污水自留入厂。
二，宜设版在水体附近，便权于处理后的污水就近排入水体。
三，设在城镇，工厂厂区及居住区的下游和夏季主导风向的下方。
四，不宜设在雨季易受水淹的低洼处。防止污染水体。
五，结合近远期城市发展问题，与城市总体规划一并考虑。
H. 污水处理厂的规划
什么意思？污水处抄理厂袭怎么规划？只有城市排水系统的规划，没有污水处理厂的规划。污水处理厂只是城市排水系统的一个组成部分，东西相对太小了，不可能有单独规划。
如果一定要说，只能是污水处理厂的布置。
你所说的小型到底是多小？日处理规模是多少？一般城市污水处理厂，10万吨以下就算小的了。不过再小的污水处理厂，沉砂池、初沉池、二沉池、污泥池、滤池等构筑物总是要有的。另外，还要看你的处理工艺用的是哪一种。
唉，要说的太多了，你的问题也实在太大了。难啊！
I. 工厂里的污水怎么处理呀
第一步：工厂污水隔渣拦污处理
工业污水中一般都含有少量的固体污染物，即使生产过程中不含有固体杂质，也可能会有操作人员掉落的防护资料工具掉落到污水中（如口罩、手套、塑料袋以及管道中可能掉落的泥沙和树叶等），通过隔渣拦截后将其去除，防止堵塞后续处理水池和设备等。
第二步：工厂污水隔油及调节池处理
工厂排放污水一般都是间歇排放，有些是按照生产班次排放，但有的工厂污水集中在几小时甚至在几分钟内大量排出；因此，须根据污水的排放规律设计合理的调节池，以应对污水的不定时排放；这是工厂污水能够正常处理的前提。
第三步：工厂污水的中和处理
工厂所排污水，大部分废水pH值都是波动的，含有各种酸碱等；即使生产车间未加入酸碱，污水在排放过程中自身水解也会导致废水的pH值下降；这往往会影响污水站的加药处理和生化处理效果。因此为确保工厂污水处理系统稳定运行，建议工厂污水处理时，应建设完善的自动在线中和系统。
第四步：工厂污水的絮凝反应沉淀或气浮处理
工厂排放的污染物一般含有颗粒固体、胶体、重金属物质、溶解性污染物等，其中前三种污染物可通过加药絮凝去除，絮凝加药方法一般见效快、效果好（缺点为有固体废弃物产生）；对于中小型工厂，建议采用此方法进一步将废水中污染物浓度降低。
絮凝反应产生的絮体污染物，建议配套采用沉淀或气浮工艺从水中分离出来。
第五步：工厂污水的生化反应处理
通过上述步骤去除废水中各种固形物和胶体后，残留的污染物大部分为溶解性的有机污染物，溶解性的有机污染物可采用生化工艺将废水中有机物分解为甲烷、二氧化碳等气体，并从水中分离溢出而得以去除，从而实现污水达标排放。
第六步：工厂污水的深度处理
工厂污水经上述几个步骤处理后，对于排放标准要求不高的废水 可以达标排放；对于要求高的地方，废水还需进一步深度处理后才能排放或回收利用（回用），常用的工艺有催化氧化污水处理工艺，化学氧化污水处理工艺，膜过滤和膜分离污水处理工艺，污水的消毒处理工艺等；具体要根据工厂污水处理的程度选择适宜的深度处理方法。
J. 芯片厂二次配排水有哪些系统
(一)种类(1)给水系统可分为生活给水、消防给水、中水和热水系统。(2)排水系统可分为：1)污水系统，用于排放便溺用卫生器具排出的污水和人们日常生活中的洗涤用水。有的建筑物还分为粪便污水管道和生活废水管道，分别排出便溺用卫生器具的污水和洗涤用水。2)雨水系统，用于排除屋面雨、雪水。3)工业废水系统，用于排除工业企业生产过程中排出的生产废水和生产污水。