铜箔生产废水处理

❻ 在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（主要含有FeCl2和CuCl2）处理和资源回收的工业流程如图：

（1）铜和氯化铁反应能生成氯化亚铁和氯化铜，反应的化学方程式为：2FeCl₃+Cu=CuCl₂++2FeCl₂．版
故填：2FeCl₃+Cu=CuCl₂++2FeCl₂．
铁和氯权化铁反应能生成氯化亚铁，属于化合反应；铁和氯化铜反应能生成铜和氯化亚铁，属于置换反应，反应的化学方程式为：Fe+CuCl₂=Cu+FeCl₂．
故填：Fe+CuCl₂=Cu+FeCl₂．
（2）步骤②得到滤渣的成分是反应生成的铜和剩余的铁，步骤③的操作是过滤、洗涤、干燥等．
故填：铁和铜；洗涤．
（3）Fe（OH）₂与O₂和H₂O反应生成Fe（OH）₃的化学方程式为：4Fe（OH）₂+O₂+2H₂O=4Fe（OH）₃，氢氧化铁是红褐色的固体．
故填：红褐；4Fe（OH）₂+O₂+2H₂O=4Fe（OH）₃．

❼ 铜箔生产过程中产生的废水怎么处理

之前给铜箔生产企业设计过一次，可以分类收集，含铜废水一路、含镍锌废水一路回、含铬废答水一路，含铜废水用CH-90螯合树脂回收铜，并达到排放标准，可加一混床处理后回用；含镍锌废水也是用CH-90螯合树脂处理回收镍锌，也加一个混床树脂处理后回用；含铬废水可以用A-21S树脂回收六价铬，加混床处理后回用，洗脱液经阳树脂除钠后回收铬酸。
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❽ 在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液处理和资源回收的过程简述如下：（己知：Ksp[Fe（OH）3]=4.

（1）FeCl₃蚀刻铜箔反应是三价铁离子具有氧化性和铜反应生成亚铁离子和铜离子，反应的离子方程式为：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故答案为：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺；
（2）向废液中投入过量铁屑，铁会和三氯化铁溶液反应生成氯化亚铁，和氯化铜反应生成铜和氯化亚铁，所以加入铁粉是为了得到铜，过滤得到固体是过量的铁和铜，用盐酸溶解铁反应，铜不反应过滤得到铜，
故答案为：回收铜；Cu和Fe；加入盐酸反应后过滤；
（3）滤液成分为氯化亚铁溶液，加入石灰水反应生成氢氧化亚铁沉淀，在空气中迅速氧化为氢氧化铁；反应的化学方程式为：FeCl₂+Ca（OH）₂=Fe（OH）₂↓+CaCl₂、4Fe（OH）₂+O₂+2H₂O=4Fe（OH）₃，
故答案为：FeCl₂+Ca（OH）₂=Fe（OH）₂↓+CaCl₂ 、4Fe（OH）₂+O₂+2H₂O=4Fe（OH）₃；
（4）过程Ⅱ中调节溶液的pH为5，常温下溶液中氢氧根离子浓度为10^-9mol/L，依据溶度积常数计算铁离子浓度，Fe（OH）₃（s）?Fe³⁺+3OH^-；Ksp=c（Fe³⁺）×c³（OH^-）；
c（Fe³⁺）=

❾ FeCl3可用于腐蚀有铜箔的绝缘胶板,用电解法处理反应后的废液,阴阳极反应式以及现象

阴极有金属铜产生,Cu2++2e=Cu
阳极有氯气产生,2Cl--2e=Cl2