㈠ 生产眼镜片的水污染吗
防治水体污染的主要措施有以下三条： （1）减少和消除污染物排放的废水量。首先可采用改革工艺，减少甚至不排废水，或者降低有毒废水的毒性。其次重复利用废水。尽量采用重复用水及循环用水系统，使废水排放减至最少或将生产废水经适当处理后循环利用。如电镀废水闭路循环，高炉煤气洗涤废水经沉淀、冷却后再用于洗涤。第三控制废水中污染物浓度，回收有用产品。尽量使流失在废水中的原料和产品与水分离，就地回收，这样既可减少上产成本，又可降低废水浓度。第四处理好城市垃圾与工业废渣，避免因降水或径流的冲刷、溶解而污染水体。 （2）全面规划，合理布局，进行区域性综合治理。第一在制定区域规划、城市建设规划、工业区规划时都要考虑水体污染问题，对可能出现的水体污染，要采取预防措施。第二对水体污染源进行全面规划和综合治理。第三杜绝工业废水和城市污水任意排放，规定标准。第四同行业废水应集中处理，以减少污染源的数目，便于管理。最后有计划治理已被污染的水体。 （3）加强监测管理，制定法律和控制标准。第一设立国家级、地方级的环境保护管理机构，执行有关环保法律和控制标准，协调和监督各部门和工厂保护环境、保护水源。第二颁布有关法规、制定保护水体、控制和管理水体污染的具体条例。
㈡ 干喷沙和湿喷沙区别有哪些该配多大的空压机急需
喷砂机是采用压缩空气为动力，以形成高速喷射束将喷料高速喷射到被需处理工件表面，使工件表面的外表面的机械性能发生变化的一种机器。
一、液体喷砂机
液体喷砂机相对于干式喷砂机来说，最大的特点就是很好地控制了喷砂加工过程中粉尘污染，改善了喷砂操作的工作环境。 1、一般组成 一个完整的液体喷砂机一般由五个系统组成，即结构系统、介质动力系统、管路系统、控制系统和辅助系统。 2．工作原理：液体喷砂机是以磨液泵作为磨液的供料动力，通过磨液泵将搅拌均匀的磨液（磨料和水的混合液）输送到喷枪内。压缩空气作为磨液的加速动力，通过输气管进入喷枪，在喷枪内，压缩空气对进入喷枪的磨液加速，并经喷嘴射出，喷射到被加工表面达到预期的加工目的。在液体喷砂机中，磨液泵为供料动力，压缩空气为加速动力。液体喷砂机将磨料置于水中，用磨液泵和压缩空气通过喷枪将磨液高速喷射到被加工的工件表面，达到对零件表面清理和光饰的效果。液体喷砂机喷砂工效高，磨料消耗少，能达到提高工件表面的光洁度和表面强度的目的。液体喷砂机由于采用湿式密封作业，磨液磨料采用自来水和自然砂（丸），又是循环工作，所以工作时不产生粉尘，不排放有毒废水，不会对环境的污染产生，设备的安装方便简单，不需要单独的工作间。天津百通的箱式液体喷砂机，在对机械零部件进行喷砂后，可以使机械零部件的表面在原来的基础上提高0.5~2.0级光洁度，如果采用不同的丸料也可使机械零部件达到光亮或亚光的效果。液体喷砂是物体表面抛光、光饰最理想的方法之一。液体喷砂机能完成清理不锈钢焊接件、热处理件、冲压件及机械加工件的粗糙表面、去残盐和毛刺、用于喷涂、电镀前的预处理工序；液体喷砂机还作用喷玻璃丸、强化光饰零件表面；液体喷砂机适用于中、中零件单件小批量生产、高质高效；液体喷砂机适合表带厂、眼镜厂、首饰厂、电子厂等。
二、干喷砂机
对于压入式干喷砂机主要以压入式喷砂工作单元，即由压力罐和喷枪组成的基本工作单元。可根据客户的要求订制各种不同型号的干式喷砂机
（一）、吸入式干喷砂机
1．一般组成：一个完整的吸入式干喷砂机一般由六个系统组成，即结构系统、介质动力系统、管路系统、除尘系统、控制系统和辅助系统。 2. 工作原理： 吸入式干喷砂机是以压缩空气为动力，通过气流的高速运动在喷枪内形成的负压，将磨料通过输砂管吸入喷枪并经喷嘴射出，喷射到被加工表面，达到预期的加工目。在吸入式干喷砂机中，压缩空气既是供料动力又是射流的加速动力。
（二）、压入式干喷砂机
对于压入式干喷砂机我们重点介绍压入式喷砂工作单元，即由压力罐和喷枪组成的基本工作单元。 1．一般组成：一个完整的压入式干喷砂机工作单元一般由四个系统组成，即压力罐、介质动力系统、管路系统、控制系统。 2．压入式干喷砂机的工作原理：压入式干喷砂机是以压缩空气为动力，通过压缩空气在压力罐内建立的工作压力，将磨料通过出砂阀压入输砂管并经喷嘴射出，喷射到被加工表面达到预期的加工目。在压入式干喷砂机中，压缩空气既是供料动力又是射流的加速动力。
干湿式喷砂机亦分为手动干湿喷砂机、自动干、湿喷砂机，根据客户产品定格而订制。
喷砂机怎样选择空气压缩机？
1.对于活量比较少的单位（且加工的零件比较小，喷砂机用气量在1m³以下的企业，）选择活塞式比较划算。坏掉了可以再买一台，给企业节约了生产成本。
2.对于稍大的企业选择螺杆式空压机比较好。螺杆式空压机性能稳定噪音小，螺杆空压机开机后无需专人管理，螺杆机大多数都是智能控制的，在PLC控制面板设定好压力温度等参数后，就不用管了，空气压缩机就会按照设定好的参数24小时运行，自动停机开机，即使空压机出现故障它也会自动停机并且在控制面板上显示记录故障，维护人员可以在极短的时间内解决问题。
缺点：螺杆式空气压缩机制造成本高，比活塞式空气压缩机贵，且体积大，如果长期随工程地点变换，搬运不太方便。
3. 解决方法?
我公司销售的替代活塞机的无罩式螺杆空气压缩机，性能跟螺杆式空压机一样，都是按照螺杆式空压机设计的，保留螺杆空压机的所有内部配置。只是去除螺杆空压机的外壳，把零部件更紧密的连接在一起，控制系统集中在一个独立的控制箱内。散热方式采用：自然散热和风机散热，没有上部机壳，可以把空压机放在任何狭小空间，维修保养空压机不受空间的限制。
无罩式螺杆空压机和前面说的有罩螺杆空压机没有本质的区别，只是把两者按照使用环境和工矿要求从新组装起来的。使螺杆空气压缩机的性能更好发挥出来为。
价格： 由于无罩式螺杆机，为了适应用户的工矿要求，比在工厂里使用空压机减小了体积，去掉上部外壳，合理分布了控制系统，节省了成本，所以它的价位介于活塞机和螺杆之间，是一部分用户的理想选择！
㈢ 哪家的眼镜厂清洗超纯水设备好，谢谢！
LTLD眼镜厂清洗超纯水设备优势
LTLD眼镜厂清洗超纯水设备将国际上正规成熟的回超纯水制备工艺结合一体答运用，眼镜厂清洗超纯水设备的结构式开放设计非常易于维护以及保养。
LTLD眼镜厂清洗超纯水设备安装
1、眼镜厂清洗超纯水设备安装位置必须处于水平，设备必须在电源、水源附近，但是需要注意千万不能靠近火源及任何发热体。
2、在环境较冷的地区不可以把设备放在室外，避免眼镜厂清洗超纯水设备配件冻结，出现损坏状况。
3、眼镜厂清洗超纯水设备安装附近必须排水方便，防止设备的废水没有地方排放。
4、针对那些进水水压以及进水流量都不到标准的地区，必须在眼镜厂清洗超纯水设备前预置原水罐。
5、系统原水泵提供的压力必须保持在1.0-1.2兆帕之间，保障原水泵在规定的扬程范围内运行。
㈣ 光学镜片生产工厂主要产生哪些废水，一般选择怎样的处理工艺处理这些废水、请大虾们指教
光学镜片生产工厂废水一般含大量悬浮颗粒物，洗涤剂等有机物
可选择沉淀+生化处理工艺
㈤ 纯水和超纯水的区别及纯水仪的工作原理
纯水：
纯水指的是不含杂质的H2O，纯水主要是使用反渗透进行过滤，从而达到纯水的要求，纯水的水质清澈，没有任何的杂质，能够有效的避免细菌的入侵，能够安全、有效的为人体补充水分，有促进新陈代谢的作用。
超纯水：
超纯水指的是水中的离子几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。需要经过预处理、反渗透、EDI、树脂、杀菌器等多层工艺才能够制成，超纯水的电阻率能够达到18兆欧·CM，最高能够达到18.25兆欧·CM。
有什么区别？
1.制造工艺不同：
纯水一般是使用反渗透或者蒸馏等方式即可制得。
超纯水一般需要经过预处理、反渗透、EDI、树脂、杀菌器等多层工艺才能够制成。
2.用途不同：
纯水一般用于化工、冶金、宇航、电力、电子工业、生物、化学等领域。
超纯水的应用非常广泛，一般应用于生产显示器、硬盘、CD-ROM等用水，极端超纯水用终端精处理混床、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
3.电导率不同：
纯水电导率在 2-10us/cm 之间。
超纯水的电导率为 0.056us/cm。
4.水中杂质指标不同：
纯水的杂质含量为ppm级别的，ppm就是百万分率或百万分之几。
而超纯水一般除了水分子之外，几乎没有杂质，也没有细菌、病毒等物质，也没有人体所需要的矿物质，所以一般用于工业。
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㈥ 生产眼镜片的水污染吗
咨询记录 · 回答于2021-09-03
㈦ EDI纯水到底是什么东西啊
EDI纯水应该是使用EDI模块制成的纯水。
EDI制备纯水的原理：
EDI连续电除盐水内处理设备（电解式连续去容离子）为模块式设备，可根据需要任意组合，该系统不需要停机再生，无需酸碱，因此废水排放问题也得到解决，更符合环保要求。可将水的电阻值由0.05-
0.1MQ/cM提升至15-18MQ/cM。EDI装置现已应用在半导体、电厂、电子、制药、实验室等领域制备高纯水；阴阳离子及混床离子交换水处理设备是利用阴阳离子树脂与水中溶解性盐类离子进行离子交换的水处理技术；
根据最终去除水中阴阳离子及混床离子交换除盐水系统的交换特性，可将系统分为：单床式离子交换除盐系统、双床式离子交换除盐系统和混床式离子交换除盐系统。
㈧ 抛光粉(国内外市场、投资、工艺技术、生产成本、环保影响)
稀土抛光粉的发展现状及应用
铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如 Fe2O3 红粉）的使用效果佳，而被人们称为 “ 抛光粉之王 ” 。目前该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛增，发展前景看好。铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如 Fe2O3 红粉）的使用效果佳，而被人们称为 “ 抛光粉之王 ” 。目前该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛增，发展前景看好。
我国具有丰富的铈资源，据测算，其工业储量约为 1800 万吨（以 CeO2 计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1、稀土抛光粉的发展过程
红粉（氧化铁）是历史上最早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪 30 年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中，一个在伊利诺斯州罗克福德的 W F 和 Barnes J 公司工作的雇员，于 1943 年提出了一种叫做巴林士粉（ Barnesite ）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点，激起了美国等国家的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。
国外于 60 年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪 90 年代已形成各种标准化、系列化的产品达 30 多种规格牌号。
目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有 15 家（年生产能力为 200 吨以上者）。其中，法国罗地亚公司年生产能力为 2200 多吨。是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达 1500 吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。 1968 年，我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。随后西北光学仪器厂、云南光学仪器厂相继采用独居石为原料，研制成功不同类型稀土抛光粉。北京有色金属研究总院、北京工业学院等单位于 1976 年研制并推广了 739 型稀土抛光粉， 1977 年又研制成功了 771 型稀土抛光粉。 1979 年甘肃稀土公司研制成功了 797 型稀土抛光粉。目前国内已有 14 个稀土抛光粉生产厂家（年生产能力达 30 吨以上者），最大的一家年生产能力为 2220 吨（包头天骄清美稀土抛光粉有限公司）。但与国外相比仍有较大差距，主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定，未能达到标准化、系列化，还不能完全满足各种工业领域的抛光要求，因此必须迎头赶上。
2 稀土抛光粉的种类
2.1 以稀土抛光粉中C e O 2 量来划分
稀土抛光粉的主要成分是 CeO2 ，据其 CeO2 量的高低可将铈抛光粉分为两大类 : 一类是 CeO2 含量高的价高质优的高铈抛光粉 ，一般 CeO2/TREO≥ 80% ，另一类是 CeO2 含量低的廉价的低铈抛光粉，其铈含量在 50% 左右，或者低于 50% ，其余由 La2O3 ， Nd2O3 ， Pr6O11 组成。
对于高铈抛光粉来讲 ，氧化铈的品位越高 ，抛光能力越大 ，使用寿命也增加 ，特别是硬质玻璃长时间循环抛光时 ( 石英、光学镜头等 ) ，以使用高品位的铈抛光粉为宜。
低铈抛光粉一般含有 50% 左右的 CeO2 ， 其余 50% 为 La2O3?SO3 ， Nd2O3?SO3 ， Pr6O11?SO3 等碱性无水硫酸盐或 LaOF 、 NdOF 、 PrOF 等碱性氟化物 ，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高铈抛光粉比几乎没有两样 ，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高铈抛光粉低。
2.2 以稀土抛光粉的大小及粒度分布来划分
稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。对于一定组分和加工工艺的抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下，颗粒尺寸约为 4μm 的抛光粉磨削速度最大。相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度较小，则磨削量减少 ，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术， 稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分 3 种：纳米级 (1nm ～ 100nm); 亚微米级 ( 100nm ～ 1μ m ) ; 微米级 ( 1μm ～ 100μ m ) ，据此分类方法，稀土抛光粉可以分为： 纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉 3 类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在 1μ m～ 10μ m之间 ，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的最后工序，进行精磨 ，因此其粒度分布一般不大于 10μ m，粒度大于 10μ m的抛光粉 ( 包括稀土抛光粉 ) 大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于 1μ m的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
3、稀土抛光粉生产工艺概述
3.1 生产原料
目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种 :(1) 氧化铈 (CeO2) ，由混合稀土盐类经分离后所得 (w(CeO2)=99%); (2) 混合稀土氢氧化物 (RE(OH)3) ，为稀土精矿 (w(REO)≥50%) 化学处理后的中间原料 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%);(3) 混合氯化稀土 (RECl3) ，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土 ( 主要含 La ， Ce ， Pr 和 Nd ， w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥50%); (4) 高品位稀土精矿 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) ，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。以上原料中除第 1 种外，第 2 ， 3 ， 4 种均含轻稀土 (w(REO)≈98%) ，且以 CeO2 为主， w(CeO2) 为 48% ～ 50% 。这些原料均供应充足，这是我国大力发展铈系稀土抛光粉的物质基础和优势。
3.2 生产工艺及设备
3.2.1 高铈系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化铈为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为 :
原料 → 高温 → 煅烧 → 水淬 → 水力分级 → 过滤 → 烘干 → 高级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。
主要指标 : 产品中 w(REO)=99% ， w(CeO2)=99%; 稀土回收率约 95%; 平均粒经 1μ m～ 6μm( 或粒度为 200 目～ 300 目 ) ，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化铁粉（红粉）。
3.2.2 中铈系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%) 为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体 ( 沉淀剂 ) 使转化成 w(CeO2)=80% ～ 85% 的中级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为 :
原料 → 氧化 → 优溶 → 过滤 → 酸溶 → 沉淀 → 洗涤过滤 → 高温煅烧 → 细磨筛分 → 中级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
主要指标 : 产品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土回收率约 95% ; 平均粒度 0.4μ m～ 1.3μm 。该产品适用于高速抛光，比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。
3.2.3 低铈系稀土抛光粉的制备
以少铕氯化稀土 (w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥48%) 为原料，以合成中间体 ( 沉淀剂 ) 进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为 :
原料 → 溶解 → 复盐沉淀 → 过滤洗涤 → 高温煅烧 → 粉碎 → 细磨筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。
主要指标 : 产品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率约 95%; 平均粒径 0.5μ m～ 1.5μm( 或粒度 320 目～ 400 目 ) 。该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。
用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 为原料，直接用化学和物理的方法加工处理，如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为 :
原料 → 干法细磨 → 配料 → 混粉 → 焙烧 → 磨细筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。 主要指标 : 产品中 w(REO)≥95% ， w(CeO2)≥50%; 稀土回收率 ≥95%; 产品粒度为 1.5μ m～ 2.5μm 。该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。
目前，国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多，约占总产量的 90% 以上。
4、稀土抛光粉的应用
在工业上用于制品的抛光粉应具有一定纯度和化学活性；有固定的晶形结构；颗粒均匀和有棱角；有较高的硬度和比重。工业上曾用过的抛光粉有铝、锌、铬、锰、钛、锆、硅、铁和稀土等十多种金属氧化物。在这些抛光粉中铈系稀土抛光粉的抛光效果最佳，它已取代了其它抛光粉（如 SiO2 ， ZrO2 和 Fe2O3 ）的应用，故目前将铈系稀土抛光粉称为 “ 抛光粉之王 ” 。
由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。
我国已有的三大品级共 11 种牌号的铈系稀土抛光粉（见表 1 ），它们的具体使用状况为：
我国具有丰富的铈资源，据测算，其工业储量约为 1800 万吨（以 CeO2 计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
级别 牌号 化学成份 /% 平均粒度 / μm 物理性能
( 粒度 / 筛目 ) 比重
㈨ 眼镜厂清洗的超纯水设备，谁知道啊！！！
眼镜厂清洗用超纯水设备（YB-EDI-001）工艺要求：
郑州友邦水处理工艺：原水——原水箱——原水增压泵——多介质过滤器——活性炭过滤器——阳树脂软化器——精密过滤器——一级RO反渗透系统——二级RO反渗透系统——紫外线杀菌系统——电去离子（EDI）——纯水箱——纯水泵——后置精密过滤器——用水点
超纯水设备（YB-EDI-001）介绍：
电去离子（ electrodeionization ，简称 EDI ）技术是由电渗析和离子交换有机结合形成的一种新型膜分离技术。借助离子交换树脂的离子交换作用与阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择性透过作用，在直流电场的作用下，实现离子定向迁移，从而完成水的深度除盐。由于离子交换、离子传递及离子交换树脂的电再生相伴发生，犹如一个边工作边再生的混床离子交换树脂柱，可以连续不断地制取高质量的纯水、高纯水，因而又称连续去离子（ continuous deionization ，简称 CDI ）。