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清洗矽片用純水設備

發布時間:2022-08-06 16:18:10

❶ 在哪些行業可以用到超純水設備

在哪些行業可以復用到超純水制設備?

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用於清洗矽片,另有少量用於葯液配製

集成電路生產中高純水清洗矽片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電、建材產品表面塗裝等其它要求的表面處理用純水

光電產品、其他高科技精微產品

電鍍(鍍金、鍍銀、塑料電鍍、鍍鉻、鍍鋅等)用水

玻璃鍍膜用高純水

超聲波清洗用純水,電泳用純水

❷ 矽片清洗超純水設備用的儀表,有什麼

給水電導率表可設置報警,從給水電導率和產品水電導率可估計出RO的脫鹽率。
3、壓力表
出水壓力表、給水壓力表、排水壓力表用於計算設備的每一段壓降,對產水量和鹽透率維持穩定起到重要作用。

❸ 誰知道什麼是純水設備

隨著生來活質量的不斷提升源,凈水行業隨之迅速崛起,各個行業凈水處理日益劇增。純水設備是一種生產純凈水的設備,它是凈化水質的核心技術。現在被我們廣泛應用於各大工業以及電力行業中。其設備主要是採用反滲透原理。反滲透亦稱逆滲透(RO),是用一定的壓力使溶液中的溶劑通過反滲透膜分離出來。因為它和自然滲透的方向相反,故稱反滲透。根據各種物料的不同滲透壓,就可以使大於滲透壓的反滲透法達到分離、提取、純化和濃縮的目的。

❹ 半導體超純水設備的價格為何會有很大的差別

當前國內半導體行業應用的超純水設備一般有前端預處理及RO、回EDI提純等工序。

1.根據超純水設答備的材質不同,選用的RO膜的品牌不同以及EDI模塊的噸位及品牌區別,價格上也有很大的差距。

2.其中價格中膜元件及設備材質因素會極大地影響整體設備的價格。

3.具體的加工工藝以及廠家報價也會對價格有所影響。

詳情可見官網:網頁鏈接

❺ 光學行業水處理設備

杭州永潔達凈化科技有限公司光學行業水處理設備 導體、集成電路晶元及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高。
光學行業水處理設備的工藝流程:

光學行業水處理設備的工藝大致分成以下幾種:
A.採用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點
B.採用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(復床)→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點
C.採用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式,這是一種製取超純水的最新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點

光學行業水處理設備水處理技術的發展史:

第一階段:預處理—— > 陽床 ——> 陰床 ——> 混合床

第二階段:預處理—— > 反滲透 ——> 混合床

第三階段:預處理—— > 反滲透 ——>EDI 裝置

❻ 矽片清洗超純水設備廠家,哪家質量好

LTLD矽片清洗超來純水設源備性能優勢:
1、矽片清洗超純水設備中反滲透系統採用全自動方式控制,主要元件採用進口元件,穩定性高,操作簡單方便。
2、矽片清洗超純水設備使用專用濃水調節閥,操作方便。
3、矽片清洗超純水設備配備有紫外線及膜濾器,防止細菌對EDI及水質的影響。
4、矽片清洗超純水設備通過專業技術,確保EDI系統短時停機或長時間停機時水質保持穩定。
5、矽片清洗超純水設備採用原裝進口EDI膜堆,性能穩定,使用壽命長,連續出水水質穩定無波動,專利「全填充」濃水室,不需加鹽和濃水循環。
6、矽片清洗超純水設備中的EDI流量計採用帶磁感應浮子流量計,可預防因濃水通道堵塞或其他設備故障引起的無濃水產水而對膜堆造成的損壞。
7、矽片清洗超純水設備具有無水保護和高、低壓力保護等多種裝置安全功能。
8、矽片清洗超純水設備所有控制採用全自動方式,主要元件採用進口元件,穩定性高,操作簡單方便。

❼ 工業生產中為什麼要用純水清洗材料

edi水處理模塊是超純水裝置中重要組成部分,制水純度的高低直接受到離子水設備edi膜塊運行狀態的影響,所以必須對EDI膜塊進行定期維護清洗,確保設備長期穩定運行。
超純水edi清洗操作流程概述
獨立循環清洗程序
1、排空清洗系統。
2、若是使用直通清洗方法,則不能在開始清洗之前或在清洗步驟之間排空 EDI系統(如果已工作超過一個步驟)。若是使用再循環清洗方法,則在開始清洗之前或在清洗過程中排空EDI系統(如果已工作超過一個步驟)。
3、通過關閉 EDI系統淡水進口,淡水出口,淡水沖洗出口,濃水排放,及極水出口閥將 EDI系統與上游及下游隔離開。
4、通過關閉濃水進口隔離閥來將濃水管線與淡水和極水管線隔離開。
edi超純水處理設備清洗程序
清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒。
清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、首選清洗模式:直通,逆流(低及 高 pH值都可);再循環(氧化劑)。
2、可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可)。
注意: 由於硬度結垢幾乎完全發生在濃水室和極水室,淡水室的低PH清洗並不常用。在極端嚴重結垢或十分混亂的條件下,需要保留淡水室的低PH清洗。
清洗程序 3: 極水管線清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、直通逆流(低及 高 pH值都可)再循環(氧化劑)。
2、可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可。

❽ 電子工業超純水設備的應用范圍

凈得瑞為您解答:
超純水設備的應用范圍有
1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
2、電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液,顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
3、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
4、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液 ☆晶體管生產中主要用於清洗矽片,另有少量用於葯液配製
4、集成電路生產中高純水清洗矽片
5、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
6、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏 ☆高品質顯像管、螢光粉生產
7、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
8、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

❾ 超純水系統設備的主要用途有哪些

超純抄水系統設備應用領域

1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等用純水。

3、單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。

4、食品工業用水、飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業等。

5、海水、苦鹹水淡化:海島、艦船、高鹽鹼地區生活用水改善。

6、樓宇、社區優質供水:星級賓館、機場、房產物業純水網路系統等。

7、化工行業工藝用水:化工冷卻、化肥、化學葯劑製造。

8、工業產品製造用水:汽車、家電塗裝、塗料、油漆、精細加工清洗等。

9、電力行業鍋爐補給水、熱力、火力發電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統、精細化工、精尖學科用水。

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