A. 去離子水濃水的處理方法
將去離子水排放的濃水，引入涼水塔不好，鹽含量太高將導致結垢！
濃水合理利用方法是做生活沖洗用水或工廠沖洗用水。
B. EDI設備電去離子（EDI）系統的工作原理
電去離子（EDI）系統是一種水處理技術，其核心原理是利用直流電場作用下的離子定向移動和交換膜的選擇透過性來凈化水質。系統中，電滲析器通過陰膜、陽膜和隔板構成淡室（主要為淡水）和濃室（主要為濃水）。在直流電場下，淡室中的陽離子向負極移動並被濃室陰膜截留，陰離子則向正極移動被濃室陽膜攔截，這樣淡室中的離子濃度逐漸降低，形成淡水，而濃室中的離子濃度增加，形成濃水，從而實現水的淡化和提純。
自來水通常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽等溶解鹽，由正負離子組成。反滲透技術可以去除大部分離子，但可能仍有微量金屬、溶解氣體和弱離子化的化合物需要進一步處理，如硅和硼。在EDIM系統中，交換反應在純化學室進行，陰離子交換樹脂用氫氧根離子與氯離子交換，陽離子交換樹脂用氫離子與鈉離子交換。
在電極之間施加直流電場時，交換到樹脂上的離子會因電勢差移動並通過膜，陽離子被吸引到濃水流，陰離子則留在濃水流中。純水室的樹脂會因電化學反應產生H+和OH-，無需額外添加化學葯品就能持續再生。EDI膜堆由多個單元構成，每個單元包含淡水室和濃水室，其中混有陽、陰離子交換樹脂，利用電場驅動離子遷移和再生過程，而雜質離子則被攔截在濃水室中排出。
EDI超純水設備
C. 半導體超純水設備電去離子（EDI）系統的工作原理
電去離子（EDI）系統，一種利用直流電場與隔板結合，對水質進行凈化的技術。這一過程在一對電極之間進行，以陰陽膜和隔板組成濃室與淡室，通過膜的選擇性滲透實現離子的定向移動。淡室中，陽離子移動至負極透過陽膜，被濃室中陰膜截留；陰離子移動至正極透過陰膜，同樣被濃室中陽膜截留。隨著淡水在淡室中離子逐漸減少，濃度提升，而濃水中離子濃度不斷上升，成為濃縮水，以此方式達到水凈化的目的。
EDI系統通過陽膜和陰膜的特性，實現對水中離子的高效分離。陽膜允許陽離子通過，而陰膜則允許陰離子通過，通過這一機制，系統能夠將水中的離子逐一篩選，從而實現水質的提純。在EDI系統中，離子在電場作用下發生定向遷移，通過膜的選擇性滲透作用，實現了對水中離子的分離，進而實現水的凈化。
這一技術的核心在於其能夠實現水的連續凈化，無需添加化學葯劑，減少能耗，同時，能夠有效地去除水中的離子，達到高純度水的生產。通過EDI系統，可以實現水的深度凈化，適用於半導體行業、醫葯、生物技術等領域對水質要求極高的應用。
綜上所述，電去離子（EDI）系統通過直流電場與隔板、膜的結合，實現對水中的離子進行高效、選擇性地分離，從而實現水的提純與凈化，滿足不同行業對水質的高要求。這一技術不僅環保，而且在工業應用中展現出其高效、節能的特點，成為現代水處理技術的重要發展方向。
半導體(semiconctor)，指常溫下導電性能介於導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是最常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。[1]