❶ 反滲透產水二氧化硅高是什麼原因
樓主你好，反滲透產水出現細菌主要有以下幾種可能：
1、反滲透出現生物內污染，生物污染主要發生在一段，容主要體現為一段進水壓力的增加，段間壓差增大，膜生物污染會引起產水生物污染。
2、產水箱要定期殺菌，因為反滲透產水中已沒有餘氯，所以只要產水箱中有少量細菌，極易快速繁殖形成二次污染，因此要及時對產水箱進行殺菌作業。
3、濃水竄入產水，造成產水中含有細菌，這主要發生在膜元件連接密封漏水情況下，同時伴有產水電導率升高。
4、要排除取樣埠污染及取樣器材污染可能性，取樣時要在反滲透近點取水，取樣時要多排放，將取樣管中的殘水排出，取新鮮產水。取樣瓶要做殺菌處理，水樣不要長時間存放，這些都要注意的。
希望對你有所幫助，有疑問可以繼續追問，呵呵。
❷ 什麼叫反滲透膜的顆粒污染、化學污染和顆粒污染
顆粒來污染顯然就是固體顆粒堵自塞膜表面，國體顆粒有細小的沙粒等等 化學污染就是指膜表面結垢比較嚴重 像鈣鎂離子等等 膠體污染就是水中的膠狀體含量過多 建議加絮凝劑 最後就是微生物污染 這個比較難根治 最好是消毒
❸ 如何確定反滲透膜已經污染，何時最適合清洗
在正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)、微生物 (藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的，如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是在長期停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。海德能公司建議，正常的清洗周期是每3-12個月一次
清洗反滲透膜元件的一般步驟：
一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
二、用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。
三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。
四、清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。
五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
六、在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。
詳細信息請參看海德能的公司主頁。
❹ 在反滲透系統中，如何預防硅垢
過飽和二氧化硅（SiO2)能夠自動聚合形成不溶性的膠體硅或膠狀硅，引起膜污染，影響反滲透系統的正常運行。而大多數水源溶解性二氧化硅（SiO2)的含量在1~100mg/L。濃水中的最大允許SiO2濃度取決於SiO2的溶解度。
濃水中硅的結垢傾向與進水中的情形不同，這是因為SiO2濃度增加的同時，濃水的pH值也在變化，這樣SiO2的結垢計算要根據原水水質分析和反滲透的操作參數（回收率）而定。
如果出現一定量的金屬，如Al3+的話，可能會通過形成金屬硅酸鹽改變SiO2的溶解度。硅結垢的發生大多數為水中存在 鋁或鐵。因此，如果存在硅的話，應保證水中沒有鋁或鐵，並且推薦使用1^m的保安濾器濾芯，同時採取預防性的酸性清洗措施。
❖為了提高回收率，進行石灰一純鹼軟化預處理時，應添加氧化鎂或鋁酸鈉以減少進水中的SiO2濃度，同時確保軟化過程有效運轉十分重要，以防止反滲透系統會出現難溶金屬硅酸鹽；
❖由於pH值低於7或pH值高於7.8,可以增加硅的溶解度，就防止硅的結垢而言，加酸或加鹼可以提高水的回收率，但在高pH條件下，要防止CaCO3的沉澱；
❖當採用熱交換器增加進水溫度時，就二氧化硅的結垢而言，可以顯著地提高水的回收率，但膜系統的最高允許溫度為45oC;
❖高分子量的聚丙烯酸脂阻垢劑可以用於增加二氧化硅的溶解度。
❺ RO反滲透系統常見污染除垢方法有哪些
需要的，反滲透膜的清洗是很重要的，對反滲透膜的使用壽命有很大的影響專。對於設備中反滲屬透膜主要是用來將原水中的污染物質盡最大可能的去除掉，但是原水中的雜質會積留在反滲透膜的表面，導致反滲透膜的堵塞，一直污染。對於反滲透膜的清洗主要是通過化學方法進行處理，它的清洗劑一般採用的是酸鹼劑，PH一般在2-12之間，對於清洗劑的最佳使用溫度應該是45攝氏度，而且污染物有的甚至是粘泥類的，隨著時間的積累還會被壓縮增厚，清洗起來難度很大。對於反滲透膜的清洗過程主要是循環清洗，把濃水的出水管道直接放在清洗葯箱中。
❻ 反滲透膜有機物污染原因分析:主要污染物SEM+EDX灰分分析K、Si、Ca；預處理採用多介質過濾器及超濾過濾。
鉀鹽應該來是你們采樣水中含有的自，鉀鹽不會導致結垢。
硅結垢就是二氧化硅形成的結晶，鈣可能是碳酸鈣沉積、氟化鈣結垢，也可能是硫酸鈣結晶。
從此狀況分析應該是以二氧化硅結晶體為主，碳酸鈣沉積次之。當然水中硫酸根很高的話也可能會是硫酸鈣結晶。
如果是陶氏膜的話，建議先pH13下鹼洗，再pH1或者2下酸洗。
如果其他廠家的膜，請參閱廠家手冊確定清洗允許的pH。
❼ 如何鑒別工業反滲透膜的污染類型
如何鑒別工業反滲透膜的污染類型？
鑒別工業反滲透膜污染類型要綜合原水水質、版設計參數、污染指數權、運行記錄、設備性能變化及微生物指標等加以判斷。
1.膠體污染：發生膠體污染時，通常伴隨著以下兩個特性：
（1）前處理中微濾器堵塞得很快，尤其是壓差增大很快。
（2）SDI值通常在2.5以上。
2.微生物污染：發生微生物污染時，RO設備的透過水和濃縮水中的細菌總數都比較高，平時一定沒有按要求進行保養和消毒。
3.鈣垢：可依據原水水質及設計參數進行判斷。對碳酸鹽型水而言，如果回收率為75%時，設計時投加了阻垢劑，濃縮液的LSI應小於1;不投加阻垢劑時濃縮液的LSI應小於零，一般不會產生鈣垢。
4.可用1/4英寸的PVC塑料管插入組件中測試組件不同部位的性能變化進行判斷。
5.根據設備性能的變化判斷污染的類型。
6.可用酸洗，根據清洗的效果和清洗液判斷鈣垢，通過清洗液成分分析進一步證實。
在使用過程中，除了性能的正常衰減外，由於污染而引起工業反滲透膜性能的衰減更為嚴重。通常的污染主要有化學垢，有機物及膠體污染，微生物污染等。
❽ 反滲透膜污染物成分是什麼
膜污染是指被處理深液中的微粒、膠體粒子或溶質與膜發生相互作用，或因濃差極化使某些物質在膜表面濃度而引起這些物質在水流通道、膜表面或膜孔內吸附、沉積，造成孔道或水流通道變小或堵塞的現象。
污染物類型：水源不同，污染物類型不同，污染物類型不同，則清除污染物的方法也不一樣。
一、懸浮固體
懸浮固體普通存在於地表水中，顆料直徑>1um，如砂、粘泥、SIO2顆料等，水流處理於停止狀態時可以沉積下來，它很容易被反滲透系統設置的細砂過濾器或多介質過濾器濾除，經過預處理後，下列指標必須符合：濁度<1NTU，15分鍾SDI值<5。
二、膠體污染物
膠體物普遍存在於地表水中，主要是鋁類的粘土，如硅酸化合物，鐵鋁氧化物、硫化物、單寧酸、腐殖質等，這類膠體顆料大小在0.3~1.0um范圍,帶負電荷，單用過濾無法除去，幫採用凝聚，過濾或直流混凝方法，使膠體顆料增大至10-20um過濾除去，當懸浮物膠體含量過多時，還需凝聚、澄清、過濾。
三、有機物污染
有機物對膜污染是復雜的，其主要為腐殖類物質，凝聚澄清和活性碳過濾都僅能除去都分有機物;也可以採用超濾除去有機物。
四、生物污染
該類污染通常為細菌、生物膜、藻類和真菌。細菌會以醋酸纖維為食物，因而醋酸膜易受細菌的侵蝕;對於復合膜，雖不易被細菌侵害，但細菌粘膜會造成膜的污堵。進行反滲透工藝系統設計時，必須控制生物活性，原水細菌含量在10000CFU/CM以上時就必須考慮去除措施。膜污染通常為混合型，污染物是多種成分的混合物。
一般從被污染的膜元件的濃水隔網和膜表面取樣分析污染物成分，濃水隔網的低流速區最易沉積體積較大的污染物，包括CACO3晶粒、生物膜、網狀有機薄膜、微粒、膠體和絮凝劑。這些污物將導致系統壓力升高和產水量降低。
膜表面上的污染物通常為緊密附著的硅酸化合物、硫酸鹽、聚合物、有機物、金屬氧化物和氫氧化物等污染物。這些污堵導致產水率降低和脫鹽率的下降。
❾ 都有哪些原因導致超純水設備反滲透膜受污染呢
超純水設備在使用過程中，除了性能的正常衰減外，由於污染而引起設備性能的衰減更為回嚴重，其中最容答易污染的是反滲透膜。通常的污染主要有化學垢，有機物及膠體污染，微生物污染等。
反滲透膜污染往往不是單一的，其表現的症狀也有一定的差別，使得污染的鑒別更困難。鑒別污染類型要綜合原水水質，設計參數，污染指數，運行記錄，設備性能變化及微生物指標等加以判斷。超純水設備污染常見有：膠體污染、微生物污染、鈣垢污染。
❿ 反滲透如何反洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。