『壹』 超純水各元素的含量
既然是超純水，那就不考慮其他雜質元素。就只考慮組成水的兩種元素。分別是氫元素和氧元素。然後由於水的化學式是H2O佔比就是1:8
『貳』 超純水水質標准
超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。
制備
在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：
（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。
（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。
應用
超純水可以在以下領域使用：
（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。
（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。
（4）高壓變電器的清洗等
『叄』 水中的氧含量是多少 氧氣會溶解在水中,一般常溫常壓下,100L水中會含有多少升氧氣
在20℃、100kPa下,純水裡大約溶解氧9mg／L.
『肆』 純水中含氧量正常情況下是多少
一公升水中的含氧量應該在5毫克以上
這個是純凈水公司的宣傳
『伍』 水中的氧含量是多少
在20℃、100kPa下，純水裡大約溶解氧9mg／L。
『陸』 純水和超純凈水的標准各是什麼
純水和超抄純水一般都沒有統一襲的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。
『柒』 水的含氧量是多少ppm
水中通常含有1～10 ppm的溶解氧.水池的含氧濃度通常是最低的，而小溪和河流的濃度通常是最高的，大中城市自來水中含有的溶解氧通常為5～7 ppm。