真空鍍過程中金屬如何回用收集

㈠ 金屬真空電鍍，能不能比水鍍更不容易掉色

真空鍍是利用物理氣相抄沉積原理進行表面鍍覆，在高度真空條件下進行，不需要整流器、鍍槽、鍍液等；電鍍是利用電解原理，在一定電鍍溶液中，鍍件為陰極，需鍍的金屬為陽極，通以直流電，使該金屬離子在鍍件上沉積為鍍層。水鍍就是電鍍。不銹鋼真空鍍比別的材質容易，不銹鋼電鍍比鋼鐵件復雜，主要是結合力問題。

㈡ 什麼是真空鍍過程是什麼，真空可鍍什麼產品

真空鍍
真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是採用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。
真空蒸鍍：在高真空下，通過金屬細絲的蒸發和凝結，使金屬薄層附著在塑膠表面。
真空蒸鍍過程中金屬(最常用的鋁)的熔融，蒸發僅需幾秒鍾，整個周期一般不超過15mm，鍍層厚度為0.8-1.2um.
設計真空蒸鍍塑料製品應避免大的平坦表面，銳角和銳邊。凹凸圖案、紋理或拱形表面效果最佳。真空蒸鍍很難獲得光學平面樣製品表面。
不過鍍層附著力比水鍍差很多。
a9手機的面殼鍍銅後鍍lou，共10μ，鍍lou層0.18μ。真空電鍍相對於水電鍍來講，表面硬度較低，但污染較小。真空鍍不導電
目前水電鍍在重工業上應用較多（汽車等），而真空電鍍則廣泛應用於家用電器、化妝品包裝。
如果真空電鍍的硬度能達到水電鍍的等級，那麼水電鍍將要消失了。
目前很多手機上的金屬外觀件，都採用pvd真空離子鍍，不僅能夠提供漂亮的顏色而且耐磨性很好。不過比較貴，成本較高。

㈢ 真空鍍膜專用鉛絲，我想把金屬鉛用真空鍍鍍到薄膜上是不知道是否可以

鍍鉛是容易，因為它的蒸發溫度很低。但你想像和鍍鋁一樣的辦法很多人試過不會成功（一個是重金屬，一個是輕金屬）。鍍鉛要用中頻爐圓坩堝。

㈣ 真空電鍍的退鍍工藝是怎樣的

很復雜的，要用多種混合化合物來反應，單一一種的話很不理想，我試過很多種了，終於找到單一一種的退鍍方法，合金材料倒很難做到
再說了，這種配方都是保密的凡是知道的人都是賣退鍍液的，他們不會告訴你的

㈤ 電鍍和真空鍍有什麼區別

一、原理不同

1、電鍍：利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料製件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經電極反應還原成金屬原子，並在陰極上進行金屬沉積的過程。

2、真空鍍：採用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。

二、工藝特點不同

1、電鍍：起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性（硫酸銅等）及增進美觀等作用。

2、真空鍍：通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層。

三、應用不同

1、電鍍：電鍍在重工業上應用較多（汽車等）。

2、真空鍍：真空電鍍則廣泛應用於家用電器、化妝品包裝。

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電鍍方式的分類：

1、電鍍分為掛鍍、滾鍍、連續鍍和刷鍍等方式，主要與待鍍件的尺寸和批量有關。

2、掛鍍適用於一般尺寸的製品，如汽車的保險杠，自行車的車把等。滾鍍適用於小件，緊固件、墊圈、銷子等。連續鍍適用於成批生產的線材和帶材。

3、刷鍍適用於局部鍍或修復。電鍍液有酸性的、鹼性的和加有鉻合劑的酸性及中性溶液，無論採用何種鍍覆方式，與待鍍製品和鍍液接觸的鍍槽、吊掛具等應具有一定程度的通用性。

㈥ 真空電鍍的真空電鍍工藝

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。
在對塑料製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑料製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

㈦ 關於真空電鍍

原理和工藝不同，電鍍是基於電化學反應原理，在含有需鍍金屬離子的溶內液中通以直流電容，使該金屬離子在陰極（工件）獲得電子變成金屬，沉積在鍍件上，即為鍍層，真空鍍是基於物理氣相沉積原理，使需鍍金屬或氧化物或合金在高真空下高溫氣化，沉積在鍍件上；設備不同，電鍍主要設備是直流電源、鍍槽等，真空鍍主要設備真空鍍膜機（包括真空室、真空泵等）；所用原材料不同，電鍍主要原材料為各種化工材料和金屬材料，真空鍍主要原材料為金屬、金屬化合物及合金；適用范圍和用途不同，電鍍可以在幾乎所有金屬和非金屬上進行，主要用於金屬防護、裝飾和導電、耐磨等功能性電鍍，真空鍍加工對象有限制，例如不能直接在鋼鐵件上鍍，真空鍍膜很薄，不像電鍍那樣厚，但可以鍍得電鍍做不到的鍍層，如金黃色的氮化鈦、鋁等等，用於耐蝕、耐磨、裝飾等場合，真空鍍由於受真空室大小的限制，不能鍍大型零件，相比之下，電鍍受此限制小得多；在環保方面，真空鍍比電鍍污染小的多。

㈧ 真空離子電鍍是怎麼做的

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑料表面內形成金屬薄膜的方法。容常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。
在對塑料製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑料製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。

㈨ 在鍍膜的全過程中，金屬或金屬化合物發生了怎樣的狀態

玻璃鍍膜就是在玻璃表面塗渡一層或多層金屬膜或金屬化合物，以改變玻璃光學性能。
玻璃鍍膜的方法分為四類：化學沉積法、熱蒸發鍍、機械(包括噴塗和浸漬兩種方法)以及目前比較先進的磁控賤射鍍膜。這些技術的原理和設備都不一樣，也不能互換。
鍍膜玻璃生產方法都是在玻璃表面塗以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金屬，金屬氧化物或非金屬氧化物薄膜：或採用電浮法、等離子法，像玻璃表面層深入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成的陽光控制鍍膜。
鍍膜前清洗鍍膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰塵等。由於鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。分為有機溶劑清洗和半水基清洗。
有機溶劑清洗採用的清洗流程如下：
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉乾燥。
半水基清洗採用的清洗流程如下：
半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉乾燥
真空蒸發鍍膜是將被鍍零件和膜層材料，以一定的相對位置，放在一個真空空 間，採用一定的方法，使膜料氣化或升華，形成具有一定動能的分子(原子或離子)，離開蒸發器飛向被鍍零件表面，在表面上淀積形成薄膜。真空蒸發包括三個主要系統：真空系統、蒸發系統、膜厚監控系統。其中真空系統由真空室、機械泵、分子泵（油擴散泵）、管道、閥門、真空測量裝置等部分組成。蒸發系統採用電子槍蒸發，其主要由燈絲、高壓線圈、偏轉線圈、坩堝等組成。膜厚監控系統採用光電極值法，其主要由光源、比較片、單色儀、光電倍增管、膜厚控制儀及穩流穩壓電源組成。
磁濺射是先對玻璃進行清洗，在高真空倉室的靶材賤射區經過靶材離子賤射而鍍膜的。