第三方半导体纯水检测

1. 纯水和超纯水的pH值该如何检测

1、搅拌速度：PH值反映的是H+的活度，(H+)而不是H+的浓度[H+]，其关系为(H+)=f×[H+]。F为H+的活度系数。它是由溶液中所有离子的总浓度决定而不只决定于被测离子的浓度。在理论纯水中活度系数f等于1，但只要有其它离子存在，活度系数就要改变，PH值也就会改变。即PH值受溶液中总的离子浓度的影响，总离子浓度变化，PH值就要改变。由于复合电极液接界很靠近PH敏感玻璃球泡，从液接界渗漏出的盐桥溶液首先聚集在敏感球泡周围，改变了其附近的总离子浓度，由上述原因可知，使用测量值只是敏感球泡附近的被改变了PH值，不能反映其真实的PH值。虽然采用搅拌或摇动烧杯的方法可以改变这种情况，但实践证明，搅拌速度不同，测试的值也会不一样，同时搅拌或摇动又会加速CO2的溶解，所以也不可取。 2、高浓度3mol/L的Kcl：由于纯水中离子浓度非常低，而参比电极盐桥溶液选中高浓度3mol/L的Kcl，相互之间的浓度差较大，与它在普通溶液中的情况差别很大。在纯水会加大盐桥溶液的渗透速度，促使盐桥的损耗，从而加速了K+和CL-的浓度的降低。引起液接界电位的变化和不稳定，而Ag/AgCl参比电极本身的电位取决于CL-的浓度。CL-浓度发生了变化，其参比电极自身电位也会随之变化，于是就使得示值漂移，特别是不能补充内参比液的复合电极更会如此。 3、Kcl浓度的降低：为了保证复合电极的pH零电位，盐桥必须采用高浓度的Kcl，同时为了防止Ag/AgCl镀层被高浓度的Kcl溶解，在盐桥中又必须添加粉末状的AgCl，使盐桥溶液被AgCl饱和。但是根据上述第1条所述，由于盐桥溶液中Kcl浓度的降低，又使原本溶解在其中的AgCl过饱和而沉淀，从而堵塞液接界。 4、易受污染：纯水很容易受到污染，在烧杯中敞开测量，很容易受到CO2吸收的影响，PH值会不停地往下降，有关国际标准规定测量必须在一个特殊的装置中密闭中进行，但在一般实验室中难于实行。

2. 半导体超纯水设备生锈应该如何解决

1、维护膜复有些决裂或涂料有些制掉落，这些决裂或掉落涂料的地方会遭到腐蚀。
2、保证防腐涂料具有良好的附着力、柔韧性以及耐长期冲刷的性能。
3、保证防腐涂料在运输、安装及使用中有良好耐紫外线照射及防水防冻的性能。
4、半导体超纯水设备管道内外喷漆防腐，金属外表所触摸的水溶液中，氧的浓度不一样，构成氧的浓差电池，富氧有些为阴极，而缺氧有些则成阳极遭到腐蚀。

3. 半导体纯水为什么对硅含量有要求

1)
本征半导体是来一种完全纯净的自、结构完整的半导体晶体。绝对零度时价带被价电子填满，导带是空的。
2)
随着温度的升高，本征载流子浓度迅速地增加，在本征时器件不能稳定工作。而对于掺杂半导体，室温附近载流子主要来源于杂质电离，在杂质全部电离的情况下，载流子浓度一定，器件就能稳定工作。所以，制造半导体器件一般都会用含有何当杂志的半导体材料，而且每一种半导体材料制成的器件都有一定的极限工作温度，超过这一温度后，器件就会失效。
3)
杂质在元素半导体
Si和Ge中的作用：是半导体Si\Ge的导电性能发生显著的改变。
复制别人的
呵呵
还是希望能帮助你

4. 超纯水指标

这是我们超纯水检测机构给半导体厂和药厂检测的项目，不知道能否解答你的问题？

电阻率（实测电导） GB 11446.4

全硅 GB 11446.6分光光度

微粒数 GB 11446.9

细菌个数 GB 11446.10（滤膜培养

铜 GB 11446.5原子吸收分光光度法

锌 GB 11446.5

镍 GB 11446.5

钠 GB 11446.5

钾 GB 11446.5

氯化物 GB 11446.7离子色谱

硝酸根 GB 11446.7

磷酸根 GB 11446.7

硫酸根 GB 11446.7

总有机碳 GB 11446.8

5. 各行业使用纯水的标准是什么

电导率≤10μS/CM 动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水等。

电导率≤专4μS/CM 电镀化属学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化纯水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、普通化妆品生产用纯水、血透纯纯水机用纯水。

电阻率5~10MΩ.CM 锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水等。

电阻率>17 ML2 CM 磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防

老化材料实验室用纯水、有色金属; 贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池

生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水;

5、电阻率>18 ML2 C ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水。

6. 超纯水水质标准

超纯水是为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，其电阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm极限值（25℃）。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。这样的水是一般工艺很难达到的程度，理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理，但是交换树脂的再生不便，质量难以保证。

制备
在原子光谱、高效液相色谱、超纯物质分析、痕量物质等的某些实验中，需要用超纯水，超纯水的制备如下：

（1）加入少量高锰酸钾的水源，用玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏，再以全石英蒸馏器进行蒸馏，收集于石英容器中，可得超纯水。

（2）使用强酸型阳离子和强碱型阴离子交换树脂柱的混合床或串联柱。可充分除去水中的阳、阴离子，其电阻率达10 Q·cm的水，俗称去离子水，再用全石英蒸馏器进行蒸馏，收集可得超纯水。

应用
超纯水可以在以下领域使用：

（1）电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

（2）化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

（3）单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

（4）高压变电器的清洗等

7. 纯水的标准是什么是超纯净水的标准是什么

纯水和超纯来水一般都没有源统一的标准。是根据用户的需求来规定。
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水，即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业，根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样，其超纯水的水质指标如下：
电阻率大于18.2兆欧（25摄氏度）；TOC（总有机碳）小于1到10ppb，DO（溶解氧）小于1到10ppb；Particle（颗粒）：0.05微米小于200个/升；离子含量大部分是小于20到50ppt；细菌检测：无。