芯片厂纯水系统相关资料

1. 无锡工业超纯水设备原理是什么涉及到哪个行业

超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。
工作原理：
1. 水进入纯化系统，主要部分流入树脂 / 膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。
2. 树脂截留水中的溶存离子。
3. 被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。
4. 阳离子透过阳离子膜，排出树脂 / 膜之外。
5. 阴离子透过阴离子膜，排出树脂 / 膜之外。
6. 浓缩了的离子从废水流路中排出。
7. 去离子水从树脂 / 膜内流出。
主要用途：
1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。
2、电子产品的生产和清洗。
3、电池产品的生产。
4、半导体产品的生产和清洗。
5、电路板的生产和清洗。
6、其他高科技精细产品的生产。
涉及行业：
EDI超纯水设备应用于电池行业领域，超纯水设备在工业行业中的应该领域很是广泛。电池行业用超纯水包括蓄电池生产用纯水，锂电池生产用纯水，太阳能电池生产用纯水，蓄电池格板用纯水。电池中电解液的配备对纯水要求十分严格, 通常要求水的电导率在0.1us/cm(电阻值在10兆欧姆)以上，传统用来制备电池用超纯水的工艺是常采用阴阳树脂交换设备，该工艺的缺点在于树脂在使用一段时间以后要经常再生。
1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
3.单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
4.食品工业用水:饮用纯净水、矿泉水、资料、啤酒、乳业等。
5.海水、苦咸水淡化：海岛、舰船、高盐碱地区生活用水改善。
6.楼宇、社区优质供水:星级宾馆、机场、房产物业纯水网络系统等。
7.化工行业工艺用水：化工冷却、化肥、化学药剂制造。
8.工业产品制造用水：汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等。
9.电力行业锅炉补给水:热力、火力发电锅炉、中、低压锅炉动力系统 精细化工、精尖学科用水。

2. 莱特莱德的超纯水设备由哪些系统构成

超纯水系统设备应用领域
1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
3、单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
4、食品工业用水、饮用纯净水、矿泉水、资料、啤酒、乳业等。
5、海水、苦咸水淡化：海岛、舰船、高盐碱地区生活用水改善。
6、楼宇、社区优质供水:星级宾馆、机场、房产物业纯水网络系统等。
7、化工行业工艺用水：化工冷却、化肥、化学药剂制造。
8、工业产品制造用水：汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等。
9、电力行业锅炉补给水、热力、火力发电锅炉、中、低压锅炉动力系统、精细化工、精尖学科用水。

3. 纯水设备的设计参数主要有哪些

纯水设备膜系统设计领域中除工程用户给定的三项设计依据，以及设计导则建议的膜均通量参数以外，根据参数的技术属性，膜系统中的其余设计参数分为设各参数与系统参数两大类别。

(1)纯水设备参数

纯水设备主要包括膜元仵、膜容器与给水泵三组参数。膜元件数中包括膜元件的品种、数量及排列方式，膜容器参数中包括膜容器的规格与数量，给水泵参数包括给水泵的额定流量及额定压力。

(2)纯水设备系统参数

纯水设备膜系统的设计参数还可以根据主从关系划分为独立参数与附属参数。作为独立参数的系统回收率、元件数量、元件品种、元件排列四项参数决定了其余多项附属参数。例如，在给定三大设计依据及膜均通量的前提下：

①膜元件的数量与排列形式决定了膜容器的数量与规格。

②膜元件品种的压力特性决定了系统的给水压力即给水泵的额定压力。

③系统的回收率决定了系统的给水流量即给水泵的额定流量。

④膜元件、膜容器、给水泵的规格与数量决定了系统的设各成本。

⑤给水泵的压力与流量决定了系统的水耗与电耗即决定系统的运行成本。

⑥纯水设备元件的品种、数量、排列与系统回收率决定了浓差极化度、通量均衡度等系统参数。正是由于元件数量、元件品种、元件排列与纯水设备回收率具有的主导作用，这四项独立参数就代表了一整套的膜系统设计方案。

4. 纯化水系统生产需要什么物料

一般需要的化学原料有NaClO（原水杀菌）；NaOH（反渗透系统除CO2）；专NaHSO3（防止反渗透膜被氧化）；另外还属有软化柱反洗用的NaCl盐液，反渗透、CDI系统反洗用的HCL、NaOH等。
这还要取决于你前处理系统是什么了。
一些各种规格的滤芯滤材也是必须的。
还有一些设备内耗材，比如石英砂、活性炭、软化树脂等等

5. 超纯水系统设备的主要用途有哪些

超纯抄水系统设备应用领域

1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。

3、单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。

4、食品工业用水、饮用纯净水、矿泉水、资料、啤酒、乳业等。

5、海水、苦咸水淡化：海岛、舰船、高盐碱地区生活用水改善。

6、楼宇、社区优质供水:星级宾馆、机场、房产物业纯水网络系统等。

7、化工行业工艺用水：化工冷却、化肥、化学药剂制造。

8、工业产品制造用水：汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等。

9、电力行业锅炉补给水、热力、火力发电锅炉、中、低压锅炉动力系统、精细化工、精尖学科用水。

6. 工厂超纯水设备主要用途有哪些

工厂超纯水设备主要用途：

1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、单回晶硅半导体、绫答路板、液晶显示器、计算器硬盘和集成电路芯片等工艺所需的超纯水。

2、制取电力行业发电锅炉和厂矿企业中、低压锅炉给水所需的软化水、除盐水。

3、制取医药行业所需的医用大输液、药剂、注射剂、生化制品纯水、医用无菌水和人工肾透析用纯水。

4、制取饮料(含酒类)行业的饮用纯净水、蒸馏水、酒类生产勾兑用纯水以及啤酒糖化投料用水和纯生啤酒过滤等。

5、制取化工行业制造过程所需的工艺纯水。

6、制造纺织印染工艺所需的除硬度除盐水。

7、制取光学玻璃镀膜前清洗用纯水、超纯水。

8、制取电镀工艺用去离子水、电池生产工艺用纯水以及汽车、家电、建材产品表面涂装和清洗用纯水。

9、海水、苦咸水制取生活用水和饮用水。

10、宾馆、楼宇、社区、机场房产屋业的优质供水网络系统和泳池循环水处理系统。

11、制取实验室用蒸馏水。

7. 超纯水系统的超纯水系统

超纯水系统是指系统从原水至超纯水完整产生的生产系统。 一般超纯水系统是经由多重过滤，离子交换，除气，逆渗透，紫外线，超滤，纳米率，离子吸附过滤所产生的超纯水。

8. 半导体行业超纯水质量会有哪些要求

超纯水的应用领域涵盖了整个电子行业，还有许多新能源行业也有涉猎，比如我们常说的芯片、半导体、光伏等等。今天我们主要来说一下半导体领域中超纯水的应用。
在半导体生产中，超纯水都会被应用在哪里?答案是在晶圆冲洗、化学品稀释、化学机械研磨、洁净室环境中都会应用到。那么，质量会有哪些要求?虽然每个行业都使用所谓的“超纯水”，但质量标准却各不相同。半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

9. 半导体制造对去离子水的要求

可以饮用，但必须确保是去离子水而不是无色无味的化学药液。

带RO反渗膜的家用净水机和超市卖的不添加氯化镁/钙的纯净水其实就是去离子水。半导体工厂的去离子水和超市里的纯净水都是经过反渗膜过滤的去离子水，不过半导体工厂的去离子水杂质和离子去除率更高。

长期大量喝纯净水/去离子水会导致矿物质缺乏，如缺钙，但不是很严重，食物里还是含有很多矿物质。

据说很多实验室会用某哈哈纯净水代替去离子水，效果不错，杂质少离子少，价格比专门买去离子水便宜很多。
半导体从业者对芯片都有一定程度的了解，但我相信除了在晶圆厂的人外，很少有人对工艺流程有深入的了解。在这里我来给大家做一个科普。首先要做一些基本常识科普：半导体元件制造过程可分为前段制程（包括晶圆处理制程、晶圆针测制程）；还有后段（包括封装、测试制程）。

零、概念理解 所谓晶圆处理制程，主要工作为在硅晶圆上制作电路与电子元件（如电晶体、电容体、逻辑闸等），为上述各制程中所需技术最复杂且资金投入最多的过程 ，以微处理器（Microprocessor）为例，其所需处理步骤可达数百道，而其所需加工机台先进且昂贵，动辄数千万一台，其所需制造环境为为一温度、湿度与 含尘（Particle）均需控制的无尘室（Clean-Room），虽然详细的处理程序是随著产品种类与所使用的技术有关；不过其基本处理步骤通常是晶圆先经过适 当的清洗（Cleaning）之後，接著进行氧化（Oxidation）及沈积，最後进行微影、蚀刻及离子植入等反覆步骤，以完成晶圆上电路的加工与制作。

晶圆针测制程则是在制造好晶圆之后，晶圆上即形成一格格的小格 ，我们称之为晶方或是晶粒（Die），在一般情形下，同一片晶圆上皆制作相同的晶片，但是也有可能在同一片晶圆 上制作不同规格的产品；这些晶圆必须通过晶片允收测试，晶粒将会一一经过针测（Probe）仪器以测试其电气特性， 而不合格的的晶粒将会被标上记号（Ink Dot），此程序即 称之为晶圆针测制程（Wafer Probe）。然後晶圆将依晶粒 为单位分割成一粒粒独立的晶粒。

IC封装制程（Packaging）：利用塑胶或陶瓷包装晶粒与配线以成集成电路；目的是为了制造出所生产的电路的保护层，避免电路受到机械性刮伤或是高温破坏。而后段的测试则是对封装好的芯片进行测试，以保证其良率。

10. 纯水设备技术参数

纯化水设备是用于满足各行业需求制取纯化水的设备，多用于医药、生物化学化工、医院版等行业权，整个系统都由SUS304L或SUS316L全不锈钢材质组合而成，而且在用水点之前都必须装备紫外线及臭氧杀菌装置（部分国家不允许使用臭氧，故而系统采用巴氏消毒）。纯化水设备核心技术采用反渗透、EDI等最新工艺。具体参数可参照厂家说明书。