㈠ 在哪些行业可以用到超纯水设备
在哪些行业可以复用到超纯水制设备?
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
集成电路生产中高纯水清洗硅片
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
高品质显像管、萤光粉生产
晶元材料生产、加工、清洗
超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
实验室和中试车间
汽车、家电、建材产品表面涂装等其它要求的表面处理用纯水
光电产品、其他高科技精微产品
电镀(镀金、镀银、塑料电镀、镀铬、镀锌等)用水
玻璃镀膜用高纯水
超声波清洗用纯水，电泳用纯水
㈡ 纯化水系统回水循环是多少
GMP要求纯水系统的管道回水流速要大于1米/秒。
高纯水，一般是指阳离子浓度小于0.02ppb的纯水。
反渗透水一般是指反渗透装置的出水，一般电导率从0.5us/cm到50us/cm@25℃左右。
去离子水一般是经过反渗透或树脂交换，去除水中阴阳离子后的水，水质一般没有加以区分，可以是高纯水，也可以是反渗透产水。
一般根据行业要求，同样是高纯水，对水质细分，水质要求还是有差异的。例如：基因工程，电子工程，医药，化工等水质侧重点有很大差异。同样是电子，加工材料的特性对水质要求也完全不同，例如，硅材料，有些需求对纯水硅含量的要求可能没有那么高，有些工艺过程，对水中硅含量的要求非常高。
㈣ 如何去除反渗透纯水设备的硅酸盐
硅在原水中以晶体颗粒和胶体形态存在,并且硅的存在形式与水的pH值有关.当给水版pH8时,硅酸会权转化成硅酸根离子,它可与高价阳离子,如钙、镁、铁、铝等,形成不溶的硅酸盐,在反渗透后段析出沉积而污堵.
反渗透膜中的硅酸盐的清除方法:①0.4%二氯化铵清洗;②0.1%氢氟酸+0.4%Hcl清洗
同时水处理设备使用厂家应该控制控制二氧化硅浓度以保障反渗透设备系统的运行安全。因为，当PH小于9时，二氧化硅在水中的溶解度为125mg/l，随温度的升高而升高。所以控制二氧化硅浓度小于100mg/l，当进水中浓度小于20mg/l时不会发生结垢。
㈤ 半导体纯水为什么对硅含量有要求
1)
本征半导体是一种完全纯净的、结构完整的半导体晶体。绝对零度时价带被价版电子填满，权导带是空的。
2)
随着温度的升高，本征载流子浓度迅速地增加，在本征时器件不能稳定工作。而对于掺杂半导体，室温附近载流子主要来源于杂质电离，在杂质全部电离的情况下，载流子浓度一定，器件就能稳定工作。所以，制造半导体器件一般都会用含有何当杂志的半导体材料，而且每一种半导体材料制成的器件都有一定的极限工作温度，超过这一温度后，器件就会失效。
3)
杂质在元素半导体
Si和Ge中的作用：是半导体Si\Ge的导电性能发生显著的改变。
复制别人的
呵呵
还是希望能帮助你