真空镀过程中金属如何回用收集

㈠ 金属真空电镀，能不能比水镀更不容易掉色

真空镀是利用物理气相抄沉积原理进行表面镀覆，在高度真空条件下进行，不需要整流器、镀槽、镀液等；电镀是利用电解原理，在一定电镀溶液中，镀件为阴极，需镀的金属为阳极，通以直流电，使该金属离子在镀件上沉积为镀层。水镀就是电镀。不锈钢真空镀比别的材质容易，不锈钢电镀比钢铁件复杂，主要是结合力问题。

㈡ 什么是真空镀过程是什么，真空可镀什么产品

真空镀
真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。
真空蒸镀：在高真空下，通过金属细丝的蒸发和凝结，使金属薄层附著在塑胶表面。
真空蒸镀过程中金属(最常用的铝)的熔融，蒸发仅需几秒钟，整个周期一般不超过15mm，镀层厚度为0.8-1.2um.
设计真空蒸镀塑料制品应避免大的平坦表面，锐角和锐边。凹凸图案、纹理或拱形表面效果最佳。真空蒸镀很难获得光学平面样制品表面。
不过镀层附着力比水镀差很多。
a9手机的面壳镀铜后镀lou，共10μ，镀lou层0.18μ。真空电镀相对于水电镀来讲，表面硬度较低，但污染较小。真空镀不导电
目前水电镀在重工业上应用较多（汽车等），而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。
如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级，那么水电镀将要消失了。
目前很多手机上的金属外观件，都采用pvd真空离子镀，不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵，成本较高。

㈢ 真空镀膜专用铅丝，我想把金属铅用真空镀镀到薄膜上是不知道是否可以

镀铅是容易，因为它的蒸发温度很低。但你想象和镀铝一样的办法很多人试过不会成功（一个是重金属，一个是轻金属）。镀铅要用中频炉圆坩埚。

㈣ 真空电镀的退镀工艺是怎样的

很复杂的，要用多种混合化合物来反应，单一一种的话很不理想，我试过很多种了，终于找到单一一种的退镀方法，合金材料倒很难做到
再说了，这种配方都是保密的凡是知道的人都是卖退镀液的，他们不会告诉你的

㈤ 电镀和真空镀有什么区别

一、原理不同

1、电镀：利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。

2、真空镀：采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。

二、工艺特点不同

1、电镀：起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性（硫酸铜等）及增进美观等作用。

2、真空镀：通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层。

三、应用不同

1、电镀：电镀在重工业上应用较多（汽车等）。

2、真空镀：真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。

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电镀方式的分类：

1、电镀分为挂镀、滚镀、连续镀和刷镀等方式，主要与待镀件的尺寸和批量有关。

2、挂镀适用于一般尺寸的制品，如汽车的保险杠，自行车的车把等。滚镀适用于小件，紧固件、垫圈、销子等。连续镀适用于成批生产的线材和带材。

3、刷镀适用于局部镀或修复。电镀液有酸性的、碱性的和加有铬合剂的酸性及中性溶液，无论采用何种镀覆方式，与待镀制品和镀液接触的镀槽、吊挂具等应具有一定程度的通用性。

㈥ 真空电镀的真空电镀工艺

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。
镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。

㈦ 关于真空电镀

原理和工艺不同，电镀是基于电化学反应原理，在含有需镀金属离子的溶内液中通以直流电容，使该金属离子在阴极（工件）获得电子变成金属，沉积在镀件上，即为镀层，真空镀是基于物理气相沉积原理，使需镀金属或氧化物或合金在高真空下高温气化，沉积在镀件上；设备不同，电镀主要设备是直流电源、镀槽等，真空镀主要设备真空镀膜机（包括真空室、真空泵等）；所用原材料不同，电镀主要原材料为各种化工材料和金属材料，真空镀主要原材料为金属、金属化合物及合金；适用范围和用途不同，电镀可以在几乎所有金属和非金属上进行，主要用于金属防护、装饰和导电、耐磨等功能性电镀，真空镀加工对象有限制，例如不能直接在钢铁件上镀，真空镀膜很薄，不像电镀那样厚，但可以镀得电镀做不到的镀层，如金黄色的氮化钛、铝等等，用于耐蚀、耐磨、装饰等场合，真空镀由于受真空室大小的限制，不能镀大型零件，相比之下，电镀受此限制小得多；在环保方面，真空镀比电镀污染小的多。

㈧ 真空离子电镀是怎么做的

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面内形成金属薄膜的方法。容常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。

㈨ 在镀膜的全过程中，金属或金属化合物发生了怎样的状态

玻璃镀膜就是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物，以改变玻璃光学性能。
玻璃镀膜的方法分为四类：化学沉积法、热蒸发镀、机械(包括喷涂和浸渍两种方法)以及目前比较先进的磁控贱射镀膜。这些技术的原理和设备都不一样，也不能互换。
镀膜玻璃生产方法都是在玻璃表面涂以金、银、铜、铝、镍、铁锡等金属，金属氧化物或非金属氧化物薄膜：或采用电浮法、等离子法，像玻璃表面层深入金属离子以置换玻璃表面层原有的离子而形成的阳光控制镀膜。
镀膜前清洗镀膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰尘等。由于镀膜工序对镜片洁净度的要求极为严格，因此清洗剂的选择是很重要的。在考虑某种清洗剂的清洗能力的同时，还要考虑到他的腐蚀性等方面的问题。分为有机溶剂清洗和半水基清洗。
有机溶剂清洗采用的清洗流程如下：
有机溶剂清洗剂（超声波）-水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-纯水漂洗-IPA（异丙醇）脱水-IPA慢拉干燥。
半水基清洗采用的清洗流程如下：
半水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥
真空蒸发镀膜是将被镀零件和膜层材料，以一定的相对位置，放在一个真空空 间，采用一定的方法，使膜料气化或升华，形成具有一定动能的分子(原子或离子)，离开蒸发器飞向被镀零件表面，在表面上淀积形成薄膜。真空蒸发包括三个主要系统：真空系统、蒸发系统、膜厚监控系统。其中真空系统由真空室、机械泵、分子泵（油扩散泵）、管道、阀门、真空测量装置等部分组成。蒸发系统采用电子枪蒸发，其主要由灯丝、高压线圈、偏转线圈、坩埚等组成。膜厚监控系统采用光电极值法，其主要由光源、比较片、单色仪、光电倍增管、膜厚控制仪及稳流稳压电源组成。
磁溅射是先对玻璃进行清洗，在高真空仓室的靶材贱射区经过靶材离子贱射而镀膜的。