EDI模塊可以反沖洗嗎

⑴ EDⅠ設備如何清洗

EDI設備清洗方法：

根據EDI的運行狀態，EDI的清洗採用酸洗——消毒——鹼洗的方法來清洗EDI模塊。

清洗時，EDI的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。

即清洗液從「原水進」和」濃水進」清洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。

酸洗：清洗水箱中配製2.0%鹽酸溶液，循環30分鍾。

沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉後，將水箱中水沖洗至中性，然後將清洗進和迴流管清洗到迴流水至中性。

消毒：清洗水箱中配製0.2%的H2O2溶液(約用25%H2O2的濃10kg)循環50分鍾。清洗水箱中加入1200LRO產水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配製0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環10分鍾，使溶液混合均勻。

沖洗：清洗水箱中消毒液放掉後，清洗EDI至水箱中迴流水至電導率降至100μs/cm以下。

鹼洗：水箱中配製1.2%NaOH+5.0%NaCL的溶液，循環50分鍾。將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，並攪拌均勻使其完全溶解(可啟動清洗泵循環攪拌)。最後沖洗。

清洗前關閉EDI，停止EDI運行，確定EDI模塊的電源已被切斷並把整流器轉換鈕轉到「關閉」位置。關閉下列閥門：原水進水閥、淡水產水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環泵進出口閥。將清洗水箱和相關的清洗管道清洗干凈。

⑵ 超純水系統的EDI系統怎麼清洗

1、清洗時，EDI系統的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從原水進和濃水回進清答洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。(正洗)
2、第一步 酸洗：清洗水箱中配製2.0%鹽酸溶液，循環30分鍾。
沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉後，將水箱中水沖洗至中性，然後將清洗進和迴流管清洗到迴流水至中性。
第二步 消毒：清洗水箱中配製0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環50分鍾。
沖洗：清洗水箱中消毒液放掉後，清洗EDI至水箱中迴流水至電導率降至100μs/cm以下。
第三步：鹼洗：水箱中配製1.2%NaOH+5.0%NaCL的溶液，循環50分鍾。

⑶ EDI 產水流量變小了怎麼辦整套系統運行都沒有做變動，突然就有個模塊流量變小了。

EDI 產水流量變小了怎麼辦？整套系統運行都沒有做變動，突然就有個模塊流量變小了。EDI 產水流量變小了怎麼辦？整套系統運行都沒有做變動，突然就有個模塊流量變小了。

⑷ 請問美國Ionpure EDI模塊清洗和消毒的方法有那些

清洗
隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure
EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
-
硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；
-
在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；
-
在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；
-
EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢；
-
以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure
EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。
例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用於例行的消毒，只適用於嚴重的生物污堵的消毒,
消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。
安全
1)
避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學物質，過氧化氫是氧化劑。
2)
將整個管線降壓以避免高壓化學葯劑噴濺。
3)
EDI系統在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電並鎖定。
清洗化學品規范
所有化學品應必須達到推薦使用的等級或者更好。
氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%),
ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%:
ACS級,或達到水系統清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)
ACS或技術級氫氧化鈉(NaOH):
球狀,
NF,
ACS或凈化級;
或50%
w/w
溶液。

⑸ 請問西門子EDI模塊是如何清洗的

根據西門子EDI模塊系統的運行狀態，EDI系統的清洗採用酸洗—消毒—鹼洗版的方法來清洗EDI模塊。清洗時，EDI系統的淡水室、權濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從「原水進」和」濃水進」清洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。

⑹ 超純水設備如何應用

EDI超純水設備應用於電池行業領域，超純水設備在工業行業中的應該領域很是廣泛。電池行業用超純水包括蓄電池生產用純水，鋰電池生產用純水，太陽能電池生產用純水，蓄電池格板用純水。電池中電解液的配備對純水要求十分嚴格,
通常要求水的電導率在0.1us/cm(電阻值在10兆歐姆)以上，傳統用來制備電池用超純水的工藝是常採用陰陽樹脂交換設備，該工藝的缺點在於樹脂在使用一段時間以後要經常再生。1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。2、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等用純水。3.單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝
、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件
、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。4.食品工業用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業等。5.海水、苦鹹水淡化：海島、艦船、高鹽鹼地區生活用水改善。6.樓宇、社區優質供水:星級賓館、機場、房產物業純水網路系統等。7.化工行業工藝用水：化工冷卻、化肥、化學葯劑製造。8.工業產品製造用水：汽車、家電塗裝、塗料、油漆、精細加工清洗等。9.電力行業鍋爐補給水:熱力、火力發電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統
精細化工、精尖學科用水。具體的准確的操作方式，建議採用供應商提供的說明書進行操作，避免操作不當對設備造成傷害。

⑺ 我們EDI設備是GE MK-3型號，請問怎麼反洗

復進水電導率低時， EDI模塊的制電流較小，這樣會影響產品水水質。這時可以選擇加鹽裝置，來提高濃水電導率。濃水加鹽有兩個作用，一個是提高電流，一個是抑制膜的生物滋生，如果進水水質較好，進水電導率比較低（≤2μS/cm），可以不用加鹽。

⑻ 什麼是EDI水處理裝置

EDI水處理裝置是指的EDI模塊：

EDI，又稱連續電除鹽技術，它是將傳專統電滲析技術和離子交換技術相結合屬，在電場力的作用下，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過性作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，使水中離子作定向遷移，從而實現水的深度凈化除鹽。水電解產生的氫離子和氫氧根離子對樹脂進行連續再生，因此EDI模塊制水過程不需要酸鹼化學再生即可連續製取高品質超純水。

EDI模塊

EDI模塊有哪些特點？

1、產水穩定安全，可以進行隨時監測保證水質是一直合格的。

2、系統自動化程度高，操作控制簡單方便，可以無人化生產，減少了勞動力。

3、連續穩定產水，再生時不需要對設備停機，更加方便快捷。

4、無污染，在生時不需要對其投加化學試劑，因此減少了對環境的污染。

5、成本低。設備經過合理的設計，運行穩定並有效節約了成本。

6、裝置結構緊湊減少了佔地面積，節省了空間，間接的減少了運行成本。

7、原水利用率高，幾乎沒有廢水的排放。

⑼ 有人說在水處理行業中、有一種設施叫EDI，請問它對設備起到什麼作用

EDI技術可以用來代替傳統的混床離子交換樹脂來製取純水或超純水，與混專床不同的是EDI淡水室隔屬板中填充的離子交換樹脂在工作時能夠自動獲得再生而不會飽和，不需要化學再生，從而使產水程度及出水水質非常穩定。除此之外，EDI技術還具有很多優點，比如可以不間斷的出水，再生過程無需酸鹼試劑，並且可以做到無人看管的全自動運行裝置。

⑽ edi膜塊結垢的清洗方法

EDI設備的化學清洗及再生
膜塊堵塞的原因主要有下面幾種式：
o 顆粒/膠體污堵
o 無機物污堵
o 有機物污堵
o 微生物污堵
清洗方法時間（分） 備注
酸洗30-50
鹼洗30-50
鹽水清洗35-60
消毒25-40
沖洗≥50
再生≥120 根據系統的工藝要求直至達到出水電阻率要求指標
單個膜塊清洗時葯液配用量
型號葯液配用量（升） 備注
MX-50 50 1. 酸洗溫度15-25℃
2. 鹼洗溫度25-30℃
3. 配葯液用水必須是RO產水
或高於RO產水的去離子水
MX-100 80
MX-200 110
MX-300 150
• 對於膜塊數量大於1塊時，按表中配液的數量乘以膜塊數量
EDI膜塊的再生
o 確認EDI膜塊內沒有任何的化學葯品殘留存在。
o 使系統構建成一個閉路自循環管路。
o 按照正常運行的模式調節好所有的流量和壓力。
o 給EDI送電，調節電流從2A開始分步緩慢向EDI載入電流（最大不能超
過4A）。
o 直至產水電阻率達工藝要求到或者≥12MΩ.cm
o 提示：膜塊的再生是一個比較長的時間，有時可能會長達10-24小時甚
至更長的時間。

EDI運行維護注意事項
注意:試車、操作及維護前,請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊. 本注意事項僅提醒使用者於試車、操作及維護時需要特別注意之事項,詳細操作維護內容請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊.
一、 進流水質要求與必要之附屬設備
(一)進流水質要求: 前處理系統一定要有 RO 系統,且要確保 RO 系統操作正常. 進流水質最低要求如下:
1 導電度(包括 SiO2 及CO2) μs/cm < 40
2 溫度 ℃ 5 - 45
3 壓力 Psi 20-100
4 自由余氯(Cl2) ppm < 0.02
5 鐵(Fe)、錳(Mn) ppm < 0.01
6 硫化物(S- ) ppm < 0.01
7 pH 4-11
8 總硬度(as CaCO3) ppm < 1.0
9 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.0
10 總有機碳(TOC) ppm < 0.5
備注: 1. 導電度計算方式=導電度計測量之導電度+2.66xCO2 濃度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)
2. 啟動初期應特別注意進流硬度、二氧化硅濃度,應避免超過1.0ppm.
(二)附屬設備： 為了保護模塊及便利後續系統監測,強烈建議 EDI 系統應至少包括下列附屬設備:
1. 穩定的電源供應設備：為了維持系統操作穩定,電源供應系統應供給穩定的直流電源給模塊,且系統能在定電流模式下操作(V=IR, 亦即設定電流(I)後,電流並不會隨進流水質改變,進流水質改變 僅會影響電阻(R)及電壓(V)).
2. 流量開關或流量控制設備：為了保護模塊,當沒有水進入模塊時, 模塊電源必須馬上被關閉,流量開關需與電源供應連動.
3. 壓力計：應至少於進流端與產水、濃縮水出水端設置壓力計,以監 測進出水壓力.
4. 進出水流量計：方便調整產水率.可使用附控制點之流量計(可作為流量開關使用).
5. 系統控制(PLC 控制)：系統除了控制沒水進入時之斷電裝置外,亦應控制在進流水進入一段時間後,若電源仍無供應,應停止進流(例 如泵啟動30 秒後(視泵至EDI 距離調整時間),若電源仍無供應, 則應關閉泵,並發出警報),以避免EDI 膜堆內樹脂飽和,影響後續產水水質。
二、 試車注意事項：
(一)試車前檢查
1. 試車前應檢查管路、配件及控制系統是否安裝完成,各項檢查前應先關閉電源,以維護人員安全.
2. 模塊扭矩檢查：依照操作手冊 3.2 節檢查並鎖緊. 聯接螺栓 扭矩 1-8 25 ft.lbs. 11-14 12.5 ft.lbs. 9, 10 10 ft.lbs. 工具：扭矩扳手(19mm)+活動扳手
3. 管路檢查：檢查配管路線及閥門開關.
4. 電源控制檢查(以Ionpure 原廠電源控制為例)：
1.)檢查整流器及顯示板 Jumper 的選擇是否正確：
甲、 ACV：例如 LX30,需要 660V,則選擇 660V(共有 440,550, 660 三個選項).
乙、 DC ：選擇最高電流限制,例如：LX 選擇10A(共有 2.5, 4, 6.5, 10A 四個選項).選擇之電流需與顯示板上之選擇相同.
丙、 頻率：選擇 60Hz 或50Hz.
2.)檢查變壓器至控製版接線(T1, T2)及至模塊接線.
3.)檢查接地線(DC-).
4.)選擇控制模式：選擇定電流控制(A)或定電壓(V)(建議選擇定電流控制).
5.)檢查流量開關.
5. 確認進流泵容量：進流泵之汲水流量需滿足系統所需之流量,同時其揚程需能克服各項設備及管路壓損(LX 模塊壓損約 1.5-2bar(與處理量相關)).
Ionpure 原廠顯示板背面 Jumper 調整 Ionpure 原廠控制板背面 Jumper 調整及接線
(二)試車所需注意事項
1. 確認 RO 系統操作是否正常?建議 RO 系統操作穩定後,才將進流水 切換至 EDI 系統,以避免 RO 啟動初期水質較差,影響模塊性能.
2. 檢測進流水水質：檢測進流水水質,以確認進流水質符合要求,檢測項目至少包括導電度、總硬度、二氧化硅、總氯及 CO2.若水質有任一項不符前述進流水質要求,即不可將水汲入 EDI 模塊,並需檢查 前處理是否有問題. 若進流水 CO2 濃度太高(超過 5ppm),即不建議將濃縮水迴流至 RO 系統前貯槽(除非先將 CO2 去除),以避免造成 CO2 累積,影響產水水質.
3. 清洗管路：注意：為避免管路中殘留管屑等污染物進入模塊造成堵塞,建議在未試車前(包括架台配管時),先不要將原廠所附進出口之紅色套頭取出(但試車前一定要將該物取出). 在水進入模塊前,需先確定其前處理管路中已無管屑等污染物.建議 於啟動前先將模塊進水接頭拆開,並以 RO 水沖洗管路.
4. 測試各項安全保護裝置：
1.)測試進流水泵浦與EDI 連動裝置：測試進流水泵浦與 EDI 連動裝置,使得 EDI 只有在進流泵浦啟 動時才開啟電源,且當 EDI 電源沒有開啟一段時間後要關閉進流 水泵浦.
2.)流量開關測試：啟動前需先測試流量開關是否會動作,亦即沒水時電源關閉,通水啟動流量開關後(迴路連通),直流電源才供應至模塊.
5. 系統啟動注意事項
1.)當上述安全保護測試完成後,再一次檢查管路閥門開關,確定閥門開關正確後,才啟動進流泵浦.
2.)進流泵浦啟動後,檢查電源供應是否正常啟動.例如,以Ionpure 原廠顯示板為例,顯示板上燈號會由 Standby 跳至 On,若無,先關閉進流泵浦,並檢查流量開關及各接線是否正常.
3.)進流泵浦啟動後,以手動閥(最好是用膜片閥,以方便調整)調整產水及濃縮水流量,初期產水率先調整為 90%.
4.)剛啟動時,先將電流調小(例如 0.5A),確定水流及電源沒問題後, 再將電流慢慢調整到軟體計算所需之電流值(與進流水質、水量相關),觀察電壓及出水水質. 啟動初期水質可能較差,切勿因水質不佳,即貿然調高電流至遠超 過軟體所計算之值. 例如:進流水質導電度– 10μs/cm, CO2 – 8mg/l, SiO2 – 0.2mg/l 時, 以計算軟體計算所需之電流為 2.43 安培,則設定電流在約 2.5 安培 即可(以水質最差時計算),切勿一開始即將電流調整超過該值(例如4.0 安培),以避免損壞模塊.
5.)觀察進出水壓力,並以手動閥調整,使產水水壓略高於濃縮水壓約 2-5psi(若產水出口壓力低於濃縮水壓力,會影響產水水質).
6.)為避免 EDI 啟動初期產水水質不佳,建議於產水端設置二隻自動控制閥,並以 PLC 控制:當產水水質低於要求時,將EDI 產水迴流至 EDI 前貯槽,當水質高過設定水質時,才切換至下一處理設 備.
7.)當系統在穩定狀態(水質符合要求且操作穩定)時,應依據操作手冊4.0 章最後所附的資料表上記錄操作資料(檢測項目至少需包括進水溫度、導電度、總硬度、CO2,產水電阻值,進出口流量及壓力(含濃縮端),操作電壓、電流),以利後續設備檢修.
三、 操作維護注意事項
1. 應每天填寫IP-LX 系統記錄表,以便及早發現是否有可能會使保修失效或對膜堆造成破壞的問題.
2. 應至少每六個月對膜堆進行一次膜塊外觀檢測,檢查是否有漏水或鹽類沈積;並定期旋緊所有電氣連接頭及按照 3.2 章節的規定,檢查膜堆螺栓的扭矩.
3. 在下述情況下,膜堆可能需要清洗:
溫度和流量不變,產水壓降增加50%;
溫度和流量不變,濃水壓降增加50%;
溫度、流量、或進水電導率不變,產水水質下降;
溫度不變,膜堆的電阻增加25%. 清洗方法請參考操作維護手冊.
4. 若模塊發生故障可參考原廠所附操作維護手冊內之膜堆故障檢測流程或聯絡當地en-link服務商.
四、 有助於 EDI 系統穩定及水質提升的前處理設計為增加EDI系統穩定度及提升產水水質,可於前處理增加下列設備
1. 去除 CO2 設備:一般 RO 產水皆含有一定量之CO2,若能將進流水CO2 濃度降低,將有助於產水水質提升及減少結垢可能性；
2. UV:於EDI 前增設紫外線殺菌器(UV)可減少模塊長菌可能；
3. 精密過濾器:於EDI 前增設精密過濾器可避免微細顆粒物進入模塊,造成堵塞；
4. Two pass RO:當原水硬度及二氧化矽濃度相對較高或變化較大時, 為避免原水水質變化大或軟化系統出問題時,RO 產水硬度、二氧化硅濃度超過EDI 進流水標准,或減少EDI 模塊結垢可能性,建議前處理採用 Two pass RO 系統。