超純水的有機物含量多少合格

『壹』 超純水基本概況

超純水是一種具有極高純度的水，它在眾多高科技領域中扮演著重要角色。集成電路工業中，它被用於半導體材料的清洗、光刻掩模版的制備，以及矽片氧化過程中的水汽源等關鍵環節。其他如固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製造過程中，超純水也是不可或缺的組成部分。

超純水的定義是其雜質含量極低，具體包括無機電離雜質如Ca、Mg、Na等離子，以及有機物、顆粒（如塵埃、氧化鐵等）、微生物和溶解氣體（如N2、CO2等）。其電離雜質的純度通過電阻率衡量，通常在25℃時，電阻率高達18.3兆歐·厘米，一般維持在15至18兆歐·厘米之間。

有機物含量的控制是通過測定碳含量來實現的，電子工業中的超純水規定有機物含量在50至200微克/升，同時對大於1微米的顆粒和微生物含量有嚴格限制。現代技術如預處理（砂濾、活性炭過濾等）、電滲析、反滲透、離子交換、超濾等方法被廣泛應用，以確保超純水的電阻率達到18兆歐·厘米，達到高純度標准。

超純水的制備工藝分為預處理、脫鹽和精處理三個步驟。預處理涉及砂濾、軟化、pH調節、活性炭過濾、脫氣等步驟，以去除顆粒、防止膜結垢、殺菌和清除有機物。脫鹽階段採用電滲析和反滲透技術，前者利用離子選擇性透過性，後者通過壓力使溶劑逆向滲透，能有效脫鹽和去除微生物。離子交換則用於進一步去除剩餘的離子。精處理階段包括紫外線殺菌、終端膜過濾和超濾，紫外線能破壞微生物核酸結構，膜過濾則能過濾掉大於0.2微米的粒子。

總之，超純水的高純度使其在眾多精密科學和工業應用中發揮著核心作用，嚴格的制備過程確保了其卓越的品質和純凈度。

純度極高的水。集成電路工業中用於半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和矽片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製作也都要使用超純水。

『貳』 超純水的toc值是多少

標准

眾所周知，不同的行業對各項生產用水水質標准都有相應的要求。一般來說，純水、超純水在各行業的水質標准都有一定的規律范圍。

1.電導率≤10μS/CM 動物飲用純水(醫葯)、普通化工原料配料用純水、食品行業配料用純水。

2.普通電鍍行業沖洗用去離子純水、紡織印染用除硬脫鹽純純水、聚酯切片用純純水、精細化工用純水、民用飲用純凈純水用純水、其它有相同純水質要求的用純水。

純水設備

3.電導率≤4μS/CM 電鍍化學品生產用純水、化工行業表面活性劑生產用純水、醫用純化純水。

4.白酒生產用純水、啤酒生產用純水、民用飲用純凈水用純水、普通化妝品生產用純水、血透純純水機用純水、其它有相同純水質要求的用純水。

5.電阻率5~10MΩ.CM 鋰電池生產用純水、蓄電池生產用純水、化妝品生產用純水、電廠鍋爐用純純水、化工廠配料用純水、其它有相同純水質要求的用純水。

6.電阻率:10~15MΩ.CM 動物實驗室用純水、玻殼鍍膜沖洗用純水、電鍍用純純水、鍍膜玻簡激璃用純水、其它有相同純水質要求的用純水。

超純水設備

7.電阻率≥15 MΩ.CM 醫葯生產用無菌純水、口服液用純水、高級化妝品生產用去離子純水、電子行業鍍膜用純水、光學材料清洗用純水、電子陶瓷行業用純水、尖端磁性材料用純水、其它有相同純水質要求的用純水。

8.電阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料鍋禪宴爐用軟化純水、敏感新材料用純水、半導體材料生產用純水、尖端金屬材料用純水、防老化材料實驗室用純水、有色金屬，貴金屬冶煉用純賀咐銀水、鈉米級新材料生產用純水、航空新材料生產用純水、太陽能電池生產用純水、純水晶片生產用純水、超純化學試劑生產用純水、實驗室用高純純水、其它有相同純水質要求的用純水。

9.電阻率≥18 MΩ.CM ITO導電玻璃製造用純水、化驗室用純水、電子級無塵布生產用純水等其它有相同純水質要求的用純水。

『叄』 超純水各元素的含量

既然是超純水，那就不考慮其他雜質元素。就只考慮組成水的兩種元素。分別是氫元素和氧元素。然後由於水的化學式是H2O佔比就是1:8

『肆』 超純水是什麼

超純水（ultrapure water）又稱高純水，是指將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。超純水的含鹽量在0.1mg/L以下，電導率小於0.1μs/cm。

超純水作為所有的實驗用水都可以，特別是高靈敏度ICP/MS、ppt級分析、同位素分析、疾控中心、葯檢所、質檢所、環監站、高校科研等標准實驗室及各種高端精密儀器用水。

物質介紹

超純水：既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大於18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值（25℃）。

超純水，是一般工藝很難達到的程度，採用預處理、反滲透技術、超純化處理以及後級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm（25℃）。

超純水是美國科技界為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。

製作流程

超純水是指下列雜質含量極低的水：①無機電離雜質，如 Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等；②有機物，如烷基苯磺酸、油、有機鐵、有機鋁以及其他碳氫化合物等；③顆粒，如塵埃、氧化鐵、鋁、膠體硅等；④微生物，如細菌、浮游生物和藻類等；⑤溶解氣體，如N2、O2、CO2、H2S等。超純水中電離雜質的含量用水的電阻率數值來衡量。理論上，純水中只有H離子和OH離子參加導電。在25℃時超純水的電阻率為 18.3（兆歐·厘米），一般約為15～18（兆歐·厘米）。

超純水中有機物含量由測定有機物碳含量而定，電子工業超純水中規定含量為50～200微克/升，並要求直徑大於1微米的顆粒性物質每1毫升內含量為1～2個，微生物每1毫升為0～10個。現代採用預處理、電滲析、紫外線殺菌、反滲透、離子交換、超濾和各種膜過濾技術等，使超純水的電阻率在25℃時達到18（兆歐·厘米）。

依各種原水水質和用戶要求的不同，超純水的制備工藝大體可分為預處理、脫鹽和精處理三步。

應用領域

1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等用純水。

3.單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。

4、高壓變電器的清洗等。

區別介紹

純水是指既將水中易去除的強電介質去除，又將水中難以除去的硅酸及二氧化碳等弱電解質去除至一定程度的水。純水的含鹽量在1.0mg/L以下，電導率小於50μs/cm。

超純水（高純水）是指將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導率小於0. 2μs/cm。