1. 如何處理半導體(LED)廢水
隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。
2. 矽片清洗廢水處理方法都有哪些優勢
優勢有1、水質分類，合理優化資源
根據多晶矽片製造過程中各用水環內節對水質的要求，將容用水環節分成高等水質用水環節、中等水質用水環節、和低等水質用水環節。將高等水質用水環節排出的廢水進行凈化處理，然後作為中等水質用水環節和低等水質用水環節的用水。
2、增加沉澱池和過濾器，對水要求進行劃分
根據本方法的另一個方面，還提供了一種廢水循環利用系統，應用於單多晶矽片製造，該系統包括：第一級沉澱池，第二級沉澱池，過濾器。
3、通過感測器增加靈敏度
本方法提供的系統，還包括控制器，濾後儲水槽內由高至低設置有第一高液位感測器、第一中液位感測器和第一低液位感測器三個液位感測器。
3. 半導體器件加工過程中產生的三廢如何處理
1.半導體工業廢水的處理方法，其特徵在於處理步驟如下：
(1)將半導體器件製造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，形成混 合廢水;
(2)混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾;
(3)將過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經過納濾膜過 濾裝置過濾的水即可直接回用。
4. 光伏行業含氟廢水回用處理技術是什麼樣子的
近年來我國光伏行業發展迅速，光伏廢水處理日益受到關注。含氟廢水是光專伏行業產生屬的主要廢水，大部分企業將含氟廢水經過除氟處理後排放，但隨著水資源日益匱乏，含氟廢水中水回用技術已經成為必然趨勢。
含氟廢水產自電池片生產環節，企業原有含氟廢水處理設施可以將含氟廢水通過化學沉澱法處理後排放，但企業為了減少水的使用和排放，將含氟廢水通過反滲透技術處理後部分回用於生產。
5. 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎
蘇州園區有一家荷蘭的環保公司
6. 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交專叉，生產中使屬用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接
7. 矽片清洗廢水處理方法有哪些
矽片清洗廢水可以使用極限分離系統來處理廢水，結合膜組件進行處理，建議使用陶氏反滲透膜+超濾膜的組合。