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清洗硅片用纯水设备

发布时间:2022-08-06 16:18:10

❶ 在哪些行业可以用到超纯水设备

在哪些行业可以复用到超纯水制设备?

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

集成电路生产中高纯水清洗硅片

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

高品质显像管、萤光粉生产

晶元材料生产、加工、清洗

超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

实验室和中试车间

汽车、家电、建材产品表面涂装等其它要求的表面处理用纯水

光电产品、其他高科技精微产品

电镀(镀金、镀银、塑料电镀、镀铬、镀锌等)用水

玻璃镀膜用高纯水

超声波清洗用纯水,电泳用纯水

❷ 硅片清洗超纯水设备用的仪表,有什么

给水电导率表可设置报警,从给水电导率和产品水电导率可估计出RO的脱盐率。
3、压力表
出水压力表、给水压力表、排水压力表用于计算设备的每一段压降,对产水量和盐透率维持稳定起到重要作用。

❸ 谁知道什么是纯水设备

随着生来活质量的不断提升源,净水行业随之迅速崛起,各个行业净水处理日益剧增。纯水设备是一种生产纯净水的设备,它是净化水质的核心技术。现在被我们广泛应用于各大工业以及电力行业中。其设备主要是采用反渗透原理。反渗透亦称逆渗透(RO),是用一定的压力使溶液中的溶剂通过反渗透膜分离出来。因为它和自然渗透的方向相反,故称反渗透。根据各种物料的不同渗透压,就可以使大于渗透压的反渗透法达到分离、提取、纯化和浓缩的目的。

❹ 半导体超纯水设备的价格为何会有很大的差别

当前国内半导体行业应用的超纯水设备一般有前端预处理及RO、回EDI提纯等工序。

1.根据超纯水设答备的材质不同,选用的RO膜的品牌不同以及EDI模块的吨位及品牌区别,价格上也有很大的差距。

2.其中价格中膜元件及设备材质因素会极大地影响整体设备的价格。

3.具体的加工工艺以及厂家报价也会对价格有所影响。

详情可见官网:网页链接

❺ 光学行业水处理设备

杭州永洁达净化科技有限公司光学行业水处理设备 导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。
光学行业水处理设备的工艺流程:

光学行业水处理设备的工艺大致分成以下几种:
A.采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
B.采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
C.采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

光学行业水处理设备水处理技术的发展史:

第一阶段:预处理—— > 阳床 ——> 阴床 ——> 混合床

第二阶段:预处理—— > 反渗透 ——> 混合床

第三阶段:预处理—— > 反渗透 ——>EDI 装置

❻ 硅片清洗超纯水设备厂家,哪家质量好

LTLD硅片清洗超来纯水设源备性能优势:
1、硅片清洗超纯水设备中反渗透系统采用全自动方式控制,主要元件采用进口元件,稳定性高,操作简单方便。
2、硅片清洗超纯水设备使用专用浓水调节阀,操作方便。
3、硅片清洗超纯水设备配备有紫外线及膜滤器,防止细菌对EDI及水质的影响。
4、硅片清洗超纯水设备通过专业技术,确保EDI系统短时停机或长时间停机时水质保持稳定。
5、硅片清洗超纯水设备采用原装进口EDI膜堆,性能稳定,使用寿命长,连续出水水质稳定无波动,专利“全填充”浓水室,不需加盐和浓水循环。
6、硅片清洗超纯水设备中的EDI流量计采用带磁感应浮子流量计,可预防因浓水通道堵塞或其他设备故障引起的无浓水产水而对膜堆造成的损坏。
7、硅片清洗超纯水设备具有无水保护和高、低压力保护等多种装置安全功能。
8、硅片清洗超纯水设备所有控制采用全自动方式,主要元件采用进口元件,稳定性高,操作简单方便。

❼ 工业生产中为什么要用纯水清洗材料

edi水处理模块是超纯水装置中重要组成部分,制水纯度的高低直接受到离子水设备edi膜块运行状态的影响,所以必须对EDI膜块进行定期维护清洗,确保设备长期稳定运行。
超纯水edi清洗操作流程概述
独立循环清洗程序
1、排空清洗系统。
2、若是使用直通清洗方法,则不能在开始清洗之前或在清洗步骤之间排空 EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。若是使用再循环清洗方法,则在开始清洗之前或在清洗过程中排空EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。
3、通过关闭 EDI系统淡水进口,淡水出口,淡水冲洗出口,浓水排放,及极水出口阀将 EDI系统与上游及下游隔离开。
4、通过关闭浓水进口隔离阀来将浓水管线与淡水和极水管线隔离开。
edi超纯水处理设备清洗程序
清洗程序 1: 浓水管线清洗及消毒。
清洗程序 2: 淡水管线清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、首选清洗模式:直通,逆流(低及 高 pH值都可);再循环(氧化剂)。
2、可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)。
注意: 由于硬度结垢几乎完全发生在浓水室和极水室,淡水室的低PH清洗并不常用。在极端严重结垢或十分混乱的条件下,需要保留淡水室的低PH清洗。
清洗程序 3: 极水管线清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、直通逆流(低及 高 pH值都可)再循环(氧化剂)。
2、可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可。

❽ 电子工业超纯水设备的应用范围

净得瑞为您解答:
超纯水设备的应用范围有
1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液,显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
3、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
4、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
4、集成电路生产中高纯水清洗硅片
5、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
6、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 ☆高品质显像管、萤光粉生产
7、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
8、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

❾ 超纯水系统设备的主要用途有哪些

超纯抄水系统设备应用领域

1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。

3、单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。

4、食品工业用水、饮用纯净水、矿泉水、资料、啤酒、乳业等。

5、海水、苦咸水淡化:海岛、舰船、高盐碱地区生活用水改善。

6、楼宇、社区优质供水:星级宾馆、机场、房产物业纯水网络系统等。

7、化工行业工艺用水:化工冷却、化肥、化学药剂制造。

8、工业产品制造用水:汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等。

9、电力行业锅炉补给水、热力、火力发电锅炉、中、低压锅炉动力系统、精细化工、精尖学科用水。

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