㈠ 反渗透阻垢剂的原理是什么啊
反渗透阻垢剂是专门用于反渗透(RO)系统及纳滤(NF)和超滤(UF)系统的阻垢剂，可防止膜面结垢，能提高产水量和产水质量，降低运行费用。
反渗透阻垢剂
1简介
反渗透阻垢剂是专门用于反渗透(RO)系统及纳滤(NF)和超滤(UF)系统的阻垢剂，可防止膜面结垢，能提高产水量和产水质量，降低运行费用。
2特点
①在很大的浓度范围内有效的控制无机物结垢
②不与铁铝氧化物及硅化合物凝聚形成不溶物
③能有效地抑制硅的聚合与沉积，浓水侧SiO2浓度可达290
④可用于反渗透CA及TFC膜、纳滤膜和超滤膜
⑤极佳的溶解性及稳定性
⑥给水PH值在5-10范围内均有效
3功能特性
1.可适用于各种膜管的材质
2.可适用于各种不同的水质中，仍有高功效的阻垢能力，减少膜管的清洗频率
3.可取代加酸的需求，防止加酸所造成可能的腐蚀问题
4.
添加量极低，同时具有极佳的门限作用，可获得最佳经济效益的阻垢控制
5.
对铁、锰等金属离子均有良好的螯合稳定的功效，防止其产生污垢于膜管上
6.产品功效与安定性均远优于六偏磷酸钠或纯聚合物型的阻垢剂
7.
可允许反渗透膜系统操作在较高的产水率
㈡ 在反渗透系统中，如何预防硅垢
过饱和二氧化硅（SiO2)能够自动聚合形成不溶性的胶体硅或胶状硅，引起膜污染，影响反渗透系统的正常运行。而大多数水源溶解性二氧化硅（SiO2)的含量在1~100mg/L。浓水中的最大允许SiO2浓度取决于SiO2的溶解度。
浓水中硅的结垢倾向与进水中的情形不同，这是因为SiO2浓度增加的同时，浓水的pH值也在变化，这样SiO2的结垢计算要根据原水水质分析和反渗透的操作参数（回收率）而定。
如果出现一定量的金属，如Al3+的话，可能会通过形成金属硅酸盐改变SiO2的溶解度。硅结垢的发生大多数为水中存在 铝或铁。因此，如果存在硅的话，应保证水中没有铝或铁，并且推荐使用1^m的保安滤器滤芯，同时采取预防性的酸性清洗措施。
❖为了提高回收率，进行石灰一纯碱软化预处理时，应添加氧化镁或铝酸钠以减少进水中的SiO2浓度，同时确保软化过程有效运转十分重要，以防止反渗透系统会出现难溶金属硅酸盐；
❖由于pH值低于7或pH值高于7.8,可以增加硅的溶解度，就防止硅的结垢而言，加酸或加碱可以提高水的回收率，但在高pH条件下，要防止CaCO3的沉淀；
❖当采用热交换器增加进水温度时，就二氧化硅的结垢而言，可以显著地提高水的回收率，但膜系统的最高允许温度为45oC;
❖高分子量的聚丙烯酸脂阻垢剂可以用于增加二氧化硅的溶解度。
㈢ RO反渗透系统常见污染除垢方法有哪些
需要的，反渗透膜的清洗是很重要的，对反渗透膜的使用寿命有很大的影响专。对于设备中反渗属透膜主要是用来将原水中的污染物质尽最大可能的去除掉，但是原水中的杂质会积留在反渗透膜的表面，导致反渗透膜的堵塞，一直污染。对于反渗透膜的清洗主要是通过化学方法进行处理，它的清洗剂一般采用的是酸碱剂，PH一般在2-12之间，对于清洗剂的最佳使用温度应该是45摄氏度，而且污染物有的甚至是粘泥类的，随着时间的积累还会被压缩增厚，清洗起来难度很大。对于反渗透膜的清洗过程主要是循环清洗，把浓水的出水管道直接放在清洗药箱中。
㈣ 都有哪些原因导致超纯水设备反渗透膜受污染呢
超纯水设备在使用过程中，除了性能的正常衰减外，由于污染而引起设备性能的衰减更为回严重，其中最容答易污染的是反渗透膜。通常的污染主要有化学垢，有机物及胶体污染，微生物污染等。
反渗透膜污染往往不是单一的，其表现的症状也有一定的差别，使得污染的鉴别更困难。鉴别污染类型要综合原水水质，设计参数，污染指数，运行记录，设备性能变化及微生物指标等加以判断。超纯水设备污染常见有：胶体污染、微生物污染、钙垢污染。
㈤ 反渗透膜结垢的原因是什么如何防止
在系统正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在内的悬浮物或容难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀、金属（铁、锰、铜、镍、铝等）氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物（如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质）、微生物（藻类、霉菌、真菌）等。
物理清洗膜元件：低压力、高流速的将反渗透产水来冲刷膜元件，可以把短期内在膜表面附着的污染物和堆积物清洗掉的一种有效方法。一般物理清洗频率较高。
化学清洗膜元件：有些结垢情况通过物理清洗很难去除附着在膜元件表面的污染物和堆积物。这个时候就需要通过化学药剂来对结垢进行去除。为了能够达到最佳的清洗效果一般都是通过多种化学清洗药剂进行组合清洗。而且药剂的选择以及清洗顺序也是有严格要求的。
详细预防方法可见官网：网页链接
㈥ 反渗透水处理的原理
一、工作原理：
反渗透设备的系统除盐率一般为98-99%.这样的除盐率在大部分情况下是可以满足要求的.在电子工业、超高压锅炉补给水、个别的制药行业对纯水的要求可能更高。此时单级反渗透设备就不能满足要求。
渗透现象在自然界是常见的，比如将一根黄瓜放入盐水中，黄瓜就会因失水而变小。黄瓜中的水分子进入盐水溶液的过程就是渗透过程。如果用一个只有水分子才能透过的薄膜将一个水池隔断成两部分,在隔膜两边分别注入纯水和盐水到同一高度。过一段时间就可以发现纯水液面降低了，而盐水的液面升高了。我们把水分子透过这个隔膜迁移到盐水中的现象叫做渗透现象。盐水液面升高不是无止境的，到了一定高度就会达到一个平衡点。这时隔膜两端液面差所代表的压力被称为渗透压。渗透压的大小与盐水的浓度直接相关。
在以上装置达到平衡后,如果在盐水端液面上施加一定压力，此时，水分子就会由盐水端向纯水端迁移。液剂分子在压力作用下由稀溶液向浓溶液迁移的过程这一现象被称为反渗透现象。如果将盐水加入以上设施的一端，并在该端施加超过该盐水渗透压的压力，我们就可以在另一端得到纯水。这就是反渗透净水的原理。反渗透设施生产纯水的关键有两个，一是一个有选择性的膜，我们称之为半透膜，二是一定的压力。简单地说，反渗透半透膜上有众多的孔，这些孔的大小与水分子的大小相当，由于细菌、病毒、大部分有机污染物和水合离子均比水分子大得多，因此不能透过反渗透半透膜而与透过反渗透膜的水相分离。在水中众多种杂质中,溶解性盐类是最难清除的.因此,经常根据除盐率的高低来确定反渗透的净水效果.反渗透除盐率的高低主要决定于反渗透半透膜的选择性。目前，较高选择性的反渗透膜元件除盐率可以高达99.7%
二、反渗透优点:
连续运行，产品水水质稳定
无须用酸碱再生
不会因再生而停机
节省了反冲和清洗用水
以高产率产生超纯水(产率可以高达95%)
无再生污水，不须污水处理设施
无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施
减小车间建筑面积
使用安全可靠，避免工人接触酸碱
减低运行及维修成本
安装简单、安装费用低廉
㈦ 硅磷晶用多了会影响反渗透膜的寿命吗
归零经用多了会影响反渗透膜的寿命，所以必须要注意这个应该是不能够让他使用时间太长，如果使用时间太长会影响他的生长的。
㈧ 反渗透产水二氧化硅高是什么原因
楼主你好，反渗透产水出现细菌主要有以下几种可能：
1、反渗透出现生物内污染，生物污染主要发生在一段，容主要体现为一段进水压力的增加，段间压差增大，膜生物污染会引起产水生物污染。
2、产水箱要定期杀菌，因为反渗透产水中已没有余氯，所以只要产水箱中有少量细菌，极易快速繁殖形成二次污染，因此要及时对产水箱进行杀菌作业。
3、浓水窜入产水，造成产水中含有细菌，这主要发生在膜元件连接密封漏水情况下，同时伴有产水电导率升高。
4、要排除取样端口污染及取样器材污染可能性，取样时要在反渗透近点取水，取样时要多排放，将取样管中的残水排出，取新鲜产水。取样瓶要做杀菌处理，水样不要长时间存放，这些都要注意的。
希望对你有所帮助，有疑问可以继续追问，呵呵。
㈨ 反渗透如何反洗
反渗透膜正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)微生物藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是临时停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：正常给水压力下，产水量较正常值下降10-15%,为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10-15%,产水水质降低10-15%,透盐率增加10-15%,给水压力增加1015%,系统各段之间压差明显增加。
已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。
清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在复杂情况，清洗方法是采用低PH和高PH清洗液交替清洗（应先低PH后高PH值清洗）
污染物情况分析:1碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3-5运行1-2小时的方法去除。对于堆积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。2硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。3金属氧化物/氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处置过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。4聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，已在一些项目上得到胜利的使用，但使用时须考虑此方法的操作危害和对设备的损坏，加以防护措施。5胶体污染：胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝、硅、硫或有机物。6非溶性的天然有机物污染(NOM),非溶性天然有机物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用发生，渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。7微生物堆积：有机堆积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的这种污染物较难去除，尤其是给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的不只要清洁和维护RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，使用认可的杀菌剂。
清楚污染物惯例清洗液介绍1.[溶液1]2.0%W柠檬酸(C6H8O7低pH)pH值为3-4清洗液。以于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
2.[溶液2]0.5%W盐酸低pH清洗液(pH为2.5)主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些，因为盐酸(HCl)为强酸。3[溶液3]0.1%W氢氧化钠高pH清洗液(pH为11.5）用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。4.[溶液4]氢氧化钠-EDTA四钠-六偏磷酸钠清洗液。
清洗步骤：先用杀菌剂如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最后用水冲洗至中性，所用水应为反渗透产水。