❶ 反渗透产水二氧化硅高是什么原因
楼主你好，反渗透产水出现细菌主要有以下几种可能：
1、反渗透出现生物内污染，生物污染主要发生在一段，容主要体现为一段进水压力的增加，段间压差增大，膜生物污染会引起产水生物污染。
2、产水箱要定期杀菌，因为反渗透产水中已没有余氯，所以只要产水箱中有少量细菌，极易快速繁殖形成二次污染，因此要及时对产水箱进行杀菌作业。
3、浓水窜入产水，造成产水中含有细菌，这主要发生在膜元件连接密封漏水情况下，同时伴有产水电导率升高。
4、要排除取样端口污染及取样器材污染可能性，取样时要在反渗透近点取水，取样时要多排放，将取样管中的残水排出，取新鲜产水。取样瓶要做杀菌处理，水样不要长时间存放，这些都要注意的。
希望对你有所帮助，有疑问可以继续追问，呵呵。
❷ 什么叫反渗透膜的颗粒污染、化学污染和颗粒污染
颗粒来污染显然就是固体颗粒堵自塞膜表面，国体颗粒有细小的沙粒等等 化学污染就是指膜表面结垢比较严重 像钙镁离子等等 胶体污染就是水中的胶状体含量过多 建议加絮凝剂 最后就是微生物污染 这个比较难根治 最好是消毒
❸ 如何确定反渗透膜已经污染，何时最适合清洗
在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)、微生物 (藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的，如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是在长期停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。
已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。海德能公司建议，正常的清洗周期是每3-12个月一次
清洗反渗透膜元件的一般步骤：
一、用泵将干净、无游离氯的反渗透产品水从清洗箱(或相应水源)打入压力容器中并排放几分钟。
二、用干净的产品水在清洗箱中配制清洗液。
三、将清洗液在压力容器中循环1小时或预先设定的时间。
四、清洗完成以后，排净清洗箱并进行冲洗，然后向清洗箱中充满干净的产品水以备下一步冲洗。
五、用泵将干净、无游离氯的产品水从清洗箱(或相应水源)打入压力容器中并排放几分钟。
六、在冲洗反渗透系统后，在产品水排放阀打开状态下运行反渗透系统，直到产品水清洁、无泡沫或无清洗剂(通常15~30分钟)。
详细信息请参看海德能的公司主页。
❹ 在反渗透系统中，如何预防硅垢
过饱和二氧化硅（SiO2)能够自动聚合形成不溶性的胶体硅或胶状硅，引起膜污染，影响反渗透系统的正常运行。而大多数水源溶解性二氧化硅（SiO2)的含量在1~100mg/L。浓水中的最大允许SiO2浓度取决于SiO2的溶解度。
浓水中硅的结垢倾向与进水中的情形不同，这是因为SiO2浓度增加的同时，浓水的pH值也在变化，这样SiO2的结垢计算要根据原水水质分析和反渗透的操作参数（回收率）而定。
如果出现一定量的金属，如Al3+的话，可能会通过形成金属硅酸盐改变SiO2的溶解度。硅结垢的发生大多数为水中存在 铝或铁。因此，如果存在硅的话，应保证水中没有铝或铁，并且推荐使用1^m的保安滤器滤芯，同时采取预防性的酸性清洗措施。
❖为了提高回收率，进行石灰一纯碱软化预处理时，应添加氧化镁或铝酸钠以减少进水中的SiO2浓度，同时确保软化过程有效运转十分重要，以防止反渗透系统会出现难溶金属硅酸盐；
❖由于pH值低于7或pH值高于7.8,可以增加硅的溶解度，就防止硅的结垢而言，加酸或加碱可以提高水的回收率，但在高pH条件下，要防止CaCO3的沉淀；
❖当采用热交换器增加进水温度时，就二氧化硅的结垢而言，可以显著地提高水的回收率，但膜系统的最高允许温度为45oC;
❖高分子量的聚丙烯酸脂阻垢剂可以用于增加二氧化硅的溶解度。
❺ RO反渗透系统常见污染除垢方法有哪些
需要的，反渗透膜的清洗是很重要的，对反渗透膜的使用寿命有很大的影响专。对于设备中反渗属透膜主要是用来将原水中的污染物质尽最大可能的去除掉，但是原水中的杂质会积留在反渗透膜的表面，导致反渗透膜的堵塞，一直污染。对于反渗透膜的清洗主要是通过化学方法进行处理，它的清洗剂一般采用的是酸碱剂，PH一般在2-12之间，对于清洗剂的最佳使用温度应该是45摄氏度，而且污染物有的甚至是粘泥类的，随着时间的积累还会被压缩增厚，清洗起来难度很大。对于反渗透膜的清洗过程主要是循环清洗，把浓水的出水管道直接放在清洗药箱中。
❻ 反渗透膜有机物污染原因分析:主要污染物SEM+EDX灰分分析K、Si、Ca；预处理采用多介质过滤器及超滤过滤。
钾盐应该来是你们采样水中含有的自，钾盐不会导致结垢。
硅结垢就是二氧化硅形成的结晶，钙可能是碳酸钙沉积、氟化钙结垢，也可能是硫酸钙结晶。
从此状况分析应该是以二氧化硅结晶体为主，碳酸钙沉积次之。当然水中硫酸根很高的话也可能会是硫酸钙结晶。
如果是陶氏膜的话，建议先pH13下碱洗，再pH1或者2下酸洗。
如果其他厂家的膜，请参阅厂家手册确定清洗允许的pH。
❼ 如何鉴别工业反渗透膜的污染类型
如何鉴别工业反渗透膜的污染类型？
鉴别工业反渗透膜污染类型要综合原水水质、版设计参数、污染指数权、运行记录、设备性能变化及微生物指标等加以判断。
1.胶体污染：发生胶体污染时，通常伴随着以下两个特性：
（1）前处理中微滤器堵塞得很快，尤其是压差增大很快。
（2）SDI值通常在2.5以上。
2.微生物污染：发生微生物污染时，RO设备的透过水和浓缩水中的细菌总数都比较高，平时一定没有按要求进行保养和消毒。
3.钙垢：可依据原水水质及设计参数进行判断。对碳酸盐型水而言，如果回收率为75%时，设计时投加了阻垢剂，浓缩液的LSI应小于1;不投加阻垢剂时浓缩液的LSI应小于零，一般不会产生钙垢。
4.可用1/4英寸的PVC塑料管插入组件中测试组件不同部位的性能变化进行判断。
5.根据设备性能的变化判断污染的类型。
6.可用酸洗，根据清洗的效果和清洗液判断钙垢，通过清洗液成分分析进一步证实。
在使用过程中，除了性能的正常衰减外，由于污染而引起工业反渗透膜性能的衰减更为严重。通常的污染主要有化学垢，有机物及胶体污染，微生物污染等。
❽ 反渗透膜污染物成分是什么
膜污染是指被处理深液中的微粒、胶体粒子或溶质与膜发生相互作用，或因浓差极化使某些物质在膜表面浓度而引起这些物质在水流通道、膜表面或膜孔内吸附、沉积，造成孔道或水流通道变小或堵塞的现象。
污染物类型：水源不同，污染物类型不同，污染物类型不同，则清除污染物的方法也不一样。
一、悬浮固体
悬浮固体普通存在于地表水中，颗料直径>1um，如砂、粘泥、SIO2颗料等，水流处理于停止状态时可以沉积下来，它很容易被反渗透系统设置的细砂过滤器或多介质过滤器滤除，经过预处理后，下列指标必须符合：浊度<1NTU，15分钟SDI值<5。
二、胶体污染物
胶体物普遍存在于地表水中，主要是铝类的粘土，如硅酸化合物，铁铝氧化物、硫化物、单宁酸、腐殖质等，这类胶体颗料大小在0.3~1.0um范围,带负电荷，单用过滤无法除去，帮采用凝聚，过滤或直流混凝方法，使胶体颗料增大至10-20um过滤除去，当悬浮物胶体含量过多时，还需凝聚、澄清、过滤。
三、有机物污染
有机物对膜污染是复杂的，其主要为腐殖类物质，凝聚澄清和活性碳过滤都仅能除去都分有机物;也可以采用超滤除去有机物。
四、生物污染
该类污染通常为细菌、生物膜、藻类和真菌。细菌会以醋酸纤维为食物，因而醋酸膜易受细菌的侵蚀;对于复合膜，虽不易被细菌侵害，但细菌粘膜会造成膜的污堵。进行反渗透工艺系统设计时，必须控制生物活性，原水细菌含量在10000CFU/CM以上时就必须考虑去除措施。膜污染通常为混合型，污染物是多种成分的混合物。
一般从被污染的膜元件的浓水隔网和膜表面取样分析污染物成分，浓水隔网的低流速区最易沉积体积较大的污染物，包括CACO3晶粒、生物膜、网状有机薄膜、微粒、胶体和絮凝剂。这些污物将导致系统压力升高和产水量降低。
膜表面上的污染物通常为紧密附着的硅酸化合物、硫酸盐、聚合物、有机物、金属氧化物和氢氧化物等污染物。这些污堵导致产水率降低和脱盐率的下降。
❾ 都有哪些原因导致超纯水设备反渗透膜受污染呢
超纯水设备在使用过程中，除了性能的正常衰减外，由于污染而引起设备性能的衰减更为回严重，其中最容答易污染的是反渗透膜。通常的污染主要有化学垢，有机物及胶体污染，微生物污染等。
反渗透膜污染往往不是单一的，其表现的症状也有一定的差别，使得污染的鉴别更困难。鉴别污染类型要综合原水水质，设计参数，污染指数，运行记录，设备性能变化及微生物指标等加以判断。超纯水设备污染常见有：胶体污染、微生物污染、钙垢污染。
❿ 反渗透如何反洗
反渗透膜正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)微生物藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是临时停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：正常给水压力下，产水量较正常值下降10-15%,为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10-15%,产水水质降低10-15%,透盐率增加10-15%,给水压力增加1015%,系统各段之间压差明显增加。
已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。
清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在复杂情况，清洗方法是采用低PH和高PH清洗液交替清洗（应先低PH后高PH值清洗）
污染物情况分析:1碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3-5运行1-2小时的方法去除。对于堆积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。2硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。3金属氧化物/氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处置过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。4聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，已在一些项目上得到胜利的使用，但使用时须考虑此方法的操作危害和对设备的损坏，加以防护措施。5胶体污染：胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝、硅、硫或有机物。6非溶性的天然有机物污染(NOM),非溶性天然有机物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用发生，渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。7微生物堆积：有机堆积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的这种污染物较难去除，尤其是给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的不只要清洁和维护RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，使用认可的杀菌剂。
清楚污染物惯例清洗液介绍1.[溶液1]2.0%W柠檬酸(C6H8O7低pH)pH值为3-4清洗液。以于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
2.[溶液2]0.5%W盐酸低pH清洗液(pH为2.5)主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些，因为盐酸(HCl)为强酸。3[溶液3]0.1%W氢氧化钠高pH清洗液(pH为11.5）用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。4.[溶液4]氢氧化钠-EDTA四钠-六偏磷酸钠清洗液。
清洗步骤：先用杀菌剂如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最后用水冲洗至中性，所用水应为反渗透产水。