反渗透产水二氧化硅高怎么回事

Ⅰ 反渗透产水硬度增高有哪些原因

一、反渗透产水硬度增高可能产生的原因大体有以下几种：
1、原水硬度的增高；
2、反渗透膜出现了结垢污染、重金属污染导致脱盐率差或者高价离子透过率增加会；
3、反渗透膜性能下降如氧化破坏等；
4、出现了产水泄漏；
5、水温上升引起盐透过率增加；
二、解决办法
对应于上述5种情况，大体可采用如下方法判断解决：
1、检测原水的硬度是否与原先原水水质不同，比如硬度指标，如果是增高的，则可以进行产水硬度和原水硬度比值来分析，如果差不多则属于正常现象，不需要担忧；
2、看反渗透的压差（特别是二段的压差）是否增加了，也可以打开膜端盖看看是否有结垢或者铁锈红等现象，如果有，则对反渗透膜进行必要的、可靠的化学清洗以去除膜污染；
3、通过产水量、脱盐率等数据来判断膜性能的好坏，如果脱盐率有很大的偏差且系统没有出现较为明显的压差等现象，则有可能是膜性能下降，那只有更换膜元件；
4、如果产水电导比较高，则需要对每支压力容器的产水进行检测，如果查出有突出的压力容器则可能有泄漏的地方，找到并修复；
5、有时候水温的上升会引起脱盐率下降（前提是产水量也上升，或者产水量不变而进水压力降低），这时侯可以通过调节参数比如提高操作压力、降低回收率等来弥补；
希望能有用！
谢谢！

Ⅱ 混床更换树脂后，除盐水二氧化硅高，而未更换树脂的混床产水正常，二氧化硅高怎么处理

混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐回. 由于 RO 为物理答除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。

Ⅲ 为什么混床更换树脂后，除盐水中二氧化硅含量超标

混床出来水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系自统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐. 由于 RO 为物理除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。

Ⅳ 反渗透进水的二氧化硅指的是什么

二氧化硅是水质分析的重要指标之一,锅炉炉水、给水,除盐水中的二氧化硅都要回进行准确测定。反渗透答系统最大允许二氧化硅的浓度取决于温度、pH值以及阻垢剂，通常在不加阻垢剂时浓水端最高允许浓度为100ppm，某些阻垢剂能允许浓水中的二氧化硅浓度最高为240ppm，请咨询阻垢剂供应商。

Ⅳ 反渗透产水二氧化硅高是什么原因

一、膜堵老化、堵塞等，需要更换或者药洗
二、降低硅可以将PH调制碱性

Ⅵ 锅炉的炉水二氧化硅超表是什么原因及相应的解决办法

二氧化硅是自然界常见的矿物质，这种物质在锅炉水中，会在锅炉内生成难以清洗的硅酸盐内水容垢。对锅炉的性能寿命都有很严重的影响，

解决办法，最好使用专业的锅炉水缓释阻垢剂，进行中和。最好还是改进净水装置，用离子交换反渗透等办法，净化锅炉水，这样保证锅炉正常运行。

(6)反渗透产水二氧化硅高怎么回事扩展阅读：

二氧化硅在日常生活、生产和科研等方面有着重要的用途，但有时也会对人体造成危害。二氧化硅的粉尘极细，比表面积达到100m2/g以上可以悬浮在空气中，如果人长期吸入含有二氧化硅的粉尘，就会患硅肺病（因硅旧称为矽，硅肺旧称为矽肺）。

硅肺是一种职业病，它的发生及严重程度，取决于空气中粉尘的含量和粉尘中二氧化硅的含量，以及与人的接触时间等。长期在二氧化硅粉尘含量较高的地方，如采矿、翻砂、喷砂、制陶瓷、制耐火材料等场所工作的人易患此病。

因此，在这些粉尘较多的工作场所，应采取严格的劳动保护措施，采用多种技术和设备控制工作场所的粉尘含量，以保证工作人员的身体健康。

Ⅶ 混床二氧化硅高,电导率低的原因是什么

阴离子交换树脂失效。二氧化硅太高往往是阴离子交换树脂失效造成的，多出现在ro+离子交换的工艺中，由于ro脱除了水中大部分的盐份，而ro对二氧化硅的脱除率相对较低。阴离子失效电导率自然下降。

Ⅷ 化验室检测中造成二氧化硅高的原因是什么

咨询记录 · 回答于2021-12-04

Ⅸ 混床再生处理后为什么二氧化硅超标，比进水还要大

混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐. 由于 RO 为物理除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。

Ⅹ 制氧循环水含二氧化硅高怎么处理

制氧循环水含二氧化硅高，二氧化硅是非常容易处理的。
如果是固体的二氧化硅结晶，直接过滤就可以了。如果是溶于水的硅酸盐，调整pH值至中性，硅酸就会沉淀出来，过滤除去。如果要求更高，可以采用阴离子交换树脂，把硅酸根撤掉交换掉。