超声波去离子水设备

1. 离心甩干式超声波清洗机它的系统结构有谁知道，谢谢

1.电源：380V 50HZ, 3相5线（3根火线及地线和零线），每相35A；
2.环境温度：27℃以下，维持良好通风；
3.水源：进水管2″，排水管2″；
4.供冷却水：温度范围：17～25摄氏度软化水（去离子水，防止结水垢）；
5.压力范围：约0.3～1MPa；
6.管路接口：外径约9.5毫米（3/8英寸），
7.塑料水管用于连接；
8.供水流量：约6升/分钟;单位换算：1MPa = 10kgf/cm2 = 145psi；
9. 3.5. 气源：空压机气源，经过滤干燥，压力达到8-10kgf/cm2；
希望对你有帮助！

2. 半导体行业有用到超声波清洗机吗

超声波清洗机已经在半导体行业广泛应用了，超声波清洗机能有效去除硅片、晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。

3. 芯片黑面暗痕如何清洗

预清洗、碱洗等
该芯片表面的清洗方法依次包括以下步骤：
预清洗：用去离子水利用超声波清洗机对芯片进行预清洗，去离子水的温度为50～60度，具体地，该超声波的功率为30W，频率为50KHz。
碱洗：芯片置于碱性溶液中利用超声波进行清洗，碱性溶液的温度为80～90度，较佳地，该碱性溶液可为氢氧化钠溶液，浓度为2％～5％，清洗时间为5～10分钟，在此步骤中，氢氧化钠溶液的温度不宜过高，如20～25度为佳。超声波的功率为20W，频率为40KHz。
有机溶剂清洗：芯片置于异丙醇和水的混合液中利用超声波进行清洗，时间为5～10分钟，超声波的功率在20～30W，频率为40KHz～50KHz。该步骤可有效溶剂去除芯片表面的有机残留物。
酸洗：配制柠檬酸和去离子水的混合液，混合液的pH值为5～6。芯片被置于到该酸性溶液中，借助超声波振荡清洗技术，使芯片表面快速进行中和反应。
去离子水漂洗：用去离子水漂洗该芯片，漂洗时间为20～30分钟，经过漂洗，芯片表面的酸液、碱液等清洗液残留被漂洗干净。

4. 什么是去离子水设备，去离子水采用的工艺有离子交换

去离子水设备，是离来子交换系统自。离子交换系统是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺，阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统，离子交换阴床系统及离子交换混床系统，而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水，高纯水的终端工艺，它是用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。
去离子水设备主要用途
1、化妆品行业：护肤品、洗发水、染发剂、牙膏、洗手液生产用水
2、电子工业：铝箔清洗、电子管喷涂配液、显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水
3、电池行业：蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水
4、混凝土外加剂配制用水
5、玻璃镀膜、玻璃制品清洗及灯具清洗用水
6、纺织印染工业：印染助剂配制、湿巾及面膜生产用水
7、超声波清洗用水
8、涂装行业：涂料配制、电镀配制清洗、电泳漆配制清洗用水

5. 超声波清洗机能清洗硅片吗

可以的。

随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺，使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入，使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此，硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资，针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上，在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下，利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗，超声波频率为40KHz，每5分钟将研磨硅片翻一个面，连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口，槽底部下方设有超声波振子，清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架，框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面，整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时，石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时，单晶硅片可以平置在石英棒上，将现有的竖超洗改成平超洗，消除了单晶硅片在竖超洗状态下，污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递，从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象，具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

采用超声波清洗机的优点

1、采用了真空脱气技术有效去除液体中气体，且运用抛动功能，增强超声对工件表面油污和污垢的清洗能力，缩短清洗时间;

2、洗篮设计转动机构重叠不可分拆的零件或形状复杂的零件，也可做到均匀完整的清洗;

3、减压真空系统能吸出盲孔、缝隙及叠加零件之间的空气，使超声波在减压的状态下产生

4、真空蒸汽清洗+真空干燥系统利用蒸汽洗净做养护，完美实现清洗效果;

5、蒸汽清洗、干燥及清洗液加热的全过程在减压真空中进行，更有效地确保了安全性;

6、防爆配件及简洁加热系统，进一步提高安全度;

7、加热温度自动可调;

8、设有安全保险装置;

9、超声输出频率可根据不同工作情况进行微调.

6. 太阳能玻璃用超声波清洗机吗

去离子水清洗机也可以啊

7. 离子色谱仪用的淋洗液和去离子水如何超声去气泡选择什么玻璃仪器

超声使用的玻璃仪器要厚实一些的，避免在超声过程中玻璃容器被超声波震碎掉，超声波清洗器的水槽要能放下你选用的玻璃容器，超声时间3~5分钟可以。

8. 去离子水设备的优点和用途是什么

去离子水设备主要用途
1、化妆品行业：护肤品、洗发水、染发剂、牙膏、内洗手液生产用容水
2、电子工业：铝箔清洗、电子管喷涂配液、显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水
3、电池行业：蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水
4、混凝土外加剂配制用水
5、玻璃镀膜、玻璃制品清洗及灯具清洗用水
6、纺织印染工业：印染助剂配制、湿巾及面膜生产用水
7、超声波清洗用水
8、涂装行业：涂料配制、电镀配制清洗、电泳漆配制清洗用水

9. 超声波加湿机的使用条件

超声波加湿机使用环境温、湿度：1～40℃≤90%RH
超声波加湿机给水水质：去离子水、纯净水、软化水。
超声波加湿机给水压力、温度：0.1～0.4Mpa1～35℃

10. 超声清洗，用酒精超声后为什么还要用去离子水超声

1、清洗剂必须抄盖过电路板袭2mm的高度
2、先在超声波清洗剂中静泡3分钟
3、超声波清洗时间大约在5-8分钟，这要根据你的清洗剂清洗效果和电路板锡膏型号适当调整时间。
4、清洗后的电路板先使用自来水冲洗，然后在使用去离子水或者蒸馏水在超声波里打5分钟即可。