cmp抛光废水处理

『壹』 cmp光学机械加工是啥意思

cmp光学机械加工是种机械化学抛光加工方法，对光学终点检测模块的安装标定方式主要有两种，其中一种是根据CMP(化学机械抛光)抛光盘的窗口位置、光学终点检测模块的安装位置以及高度等尺寸计算出理论的光学终点检测模块的出射角度，从而安装到CMP抛光盘内进行后续检测标定，机械加工精确度和误差控制的要求高，加工成本高，加工周期长；另一种是直接安装到CMP抛光盘内，根据出光情况，拆下CMP抛光盘内的光学终点检测模块进行调节，直到达到要求后再放入抛光盘内，对操作人员的专业技能要求高，对模块做调整需要多次拆卸抛光盘，效率低，费时费力。

『贰』 "CMP"是什么意思

cmp是比较指令， cmp的功能相当于减法指令，只是不保存结果。cmp指令执行后，将对标志寄存器产生影响。其他相关指令通过识别这些被影响的标志寄存器位来得知比较结果。
比如：mov ax,8
mov bx,3
cmp ax,bx
执行后：ax=8,ZF=0,PF=1,SF=0,CF=0,OF=0.
通过cmp指令执行后，相关标志位的值就可以看出比较的结果。

『叁』 抛光的CMP

CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括：抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。
CMP技术的概念是1965年由Monsanto首次提出。该技术最初是用于获取高质量的玻璃表面，如军用望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。 CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。

『肆』 芯片生产废水如何分类处理

芯片产生废水的话，应该做好一个有害物质分类，然后拿去回收。

『伍』 CMP是什么

CMP 现在缩写词汇急剧增多,很多缩写都有很多完全不同的意思,CMP也不例外.
计算机:Chip multiprocessors,单芯片多处理器,也指多核心
电子:Chemical Mechanical Planarization,化学机械平坦化
综合布线：Plenum Cable，天花板隔层电缆
晨风音乐：CenFun Music Player 晨风免费在线音乐播放器
计算机:
CMP是由美国斯坦福大学提出的，其思想是将大规模并行处理器中的SMP（对称多处理器）集成到同一芯片内，各个处理器并行执行不同的进程。与CMP比较， SMT处理器结构的灵活性比较突出。但是，当半导体工艺进入0.18微米以后，线延时已经超过了门延迟，要求微处理器的设计通过划分许多规模更小、局部性更好的基本单元结构来进行。相比之下，由于CMP结构已经被划分成多个处理器核来设计，每个核都比较简单，有利于优化设计，因此更有发展前途。目前，IBM 的Power 4芯片和Sun的 MAJC5200芯片都采用了CMP结构。多核处理器可以在处理器内部共享缓存，提高缓存利用率，同时简化多处理器系统设计的复杂度。
发展史片断:
2000年IBM、HP、Sun 推出了用于RISC的多核概念，并且成功推出了拥有双内核的HP PA8800和IBM Power4处理器。此类处理器已经成功应用不同领域的服务器产品中，像IBM eServer pSeries 690或HP 9000此类服务器上仍可以看到它们的身影。由于它们相当昂贵的，因此从来没得到广泛应用
05年四月，INTEL推出了第一款供个人使用的双核处理器，打开了处理器历史新的一页
06年底:第一款四核极致版CPU:QX6700(Quad eXtreme 6700)
06年底:第一款四核非极致版CPU:Q6600(Intel Core 2 Quad 6600)
07年五月:第二款四核极致版CPU:QX6800(Quad eXtreme 6800)
电子:
化学机械平坦化是半导体工艺的一个步骤，该技术于90年代前期开始被引入半导体硅晶片工序，从氧化膜等层间绝缘膜开始，推广到聚合硅电极、导通用的钨插塞（W-Plug）、STI（元件分离），而在与器件的高性能画同时引进的铜布线工艺技术方面，现在已经成为关键技术之一。虽然目前有多种平坦化技术，同时很多更为先进的平坦化技术也在研究当中崭露头角，但是化学机械抛光已经被证明是目前最佳也是唯一能够实现全局平坦化的技术。进入深亚微米以后，摆在CMP面前的代表性课题之一就是对于低介电常数材料的全局平坦化。
综合布线：
根据全美防火协会（ NFPA）的规定，进入大楼的数据通信电缆必须满足安全要求，其中CMP为最高等级，即Plenum Cable（天花板隔层电缆），应满足UL―910试验规定的阻燃、低发烟等特殊要求，这种电缆必须采用FEP介质绝缘以及Flamarrest之类的高阻燃PVC护套，对于防止大楼火焰的伤害十分有利。
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Linux命令
cmp 命令
用途
比较两个文件。
语法
cmp [ -l | -s ] File1 File2
描述
cmp 命令比较 File1 和 File2 参数指定的文件，并将结果写到标准输出。如果为 File1 或 File2 参数指定 -（减号），则 cmp 命令读取该文件的标准输入。只可以从标准输入读取一个文件。在缺省条件下，如果文件相同，则 cmp 命令不显示任何内容。如果它们不同，则 cmp 命令显示发生不同的第一个字节数和行数。如果指定了 -l 标志，并且如果一个文件是另一文件的初始后继（即，如果在查找任何差别之前，cmp 命令读取文件中的文件结束符），则 cmp 命令记下它。通常，使用 cmp 命令比较非文本文件，使用 diff 命令比较文本文件。
标志
-l 对于每个不同，（小写字母 L）显示十进制的字节数和八进制的不同字节。
-s 只返回退出值。值 0 指示相同的文件；值 1 指示不同的文件；值 2 指示不可访问的文件或缺少选项。
退出状态
该命令返回以下出口值：
0 文件相同。
1 文件不同。即使一个文件是另一个文件的初始后继（一个文件与另一个文件的第一个部分相同），也给出该值。
>1 发生错误。
示例
1. 要确定两个文件是否相同，请输入：
cmp prog.o.bak prog.o
这比较 prog.o.bak 和 prog.o。如果文件相同，则不显示消息。如果文件不同，则显示第一个不同的位置；例如：
prog.o.bak prog.o differ: char 4, line 1
如果显示消息 cmp: EOF on prog.o.bak，则 prog.o 的第一部分与 prog.o.bak 相同，但在 prog.o 中还有其它数据。
2. 要显示不同字节的每个对，请输入：
cmp -l prog.o.bak prog.o
这比较文件，然后显示字节数（使用十进制格式）和每个不同的不同字节（使用八进制格式）。例如，如果第五个字节在 prog.o.bak 中是八进制 101，在 prog.o 中是141，则 cmp 命令显示：
5 101 141
3. 要比较两个文件，而不写任何消息，请输入：
cmp -s prog.c.bak prog.c
这样，如果文件相同，则给出值 0，如果不同，则给出值 1，或者如果发生错误，则给出值 2。该命令形式通常用在 shell 步骤中。例如：
if cmp -s prog.c.bak prog.c
then
echo No change
fi
如果两个文件相同，则该部分的 shell 步骤显示 No change。
文件
/usr/bin/cmp 包含 cmp 命令。
晨风音乐：
CenFun Music Player是由晨风（CenFun）自主开发的一款免费在线音乐播放器程序。
CMP是一款免费的在线音乐播放器，采用Flash开发。支持的音频视频格式主要有MP3,FLV,MP4,并可以通过网页JS接口实现WMP(Windows Media Player)所支持的格式播放，如wma,wmv,wav,mid等。主要功能特色有列表式播放(自定义音乐专辑和列表)，MP3可视化效果(SoundMixer混音器)，同步歌词，高清视频(h264)，自定义皮肤，加载各种插件，自定义传参，以及加载开场动画等等。
早期的CMP2.X以他出色的性能在网络上广为流传，最新的CMP3.0已与2008年5月20日发布。现在已经基本完善并且仍在强化中，同时CenFun还自主开发了 CMP在线音乐系统多用户版。以更加简便甚至傻瓜式的操作轻松实现多用户注册，配置编辑，皮肤引用，插件添加，歌词上传等诸多功能。
皮肤制作可谓CMP的一大亮点。下面介绍一下皮肤制作基本要点：
皮肤制作对于初学者将比较困难，如有千千静听等软件皮肤制作经验的，相信会极易上手
其实皮肤包中的皮肤配置文件skin.xml中已经有详细注释，附带皮肤可当作参照模板
压缩时注意用zip格式（winRAR软件压缩时可以选择压缩成zip格式），rar格式将不能读取
必须将皮肤配置文件skin.xml压缩在顶级，不能放在下级目录中
其实在皮肤配置文件中，可以配置成任意宽度，任意位置，窗口可以锁定，可以隐藏，可以分组，大小位置宽高都可以自定义，各个窗口也可以重叠(叠放层次按配置文件层次)，也可以不用皮肤(使用空皮肤)，等等
稍作修改，也可以实现v2.1版怀旧皮肤，也可做成一个长条，只留住进度条和播放按钮(隐藏所有其他窗口)，方便放入任何网站，任何风格 更多请访问其官方论坛：http://bbs.cenfun.com
插件 顾名思义就是一种扩展，他允许用户自行扩展更个性化的内容
插件模块的好处，轻松实现第三方程序的整合播放，如，
1，放入计数器对播放器进行统计
2，放一个北京2008倒计时flash到右上角，或者加个flash留言簿
3，加载个动画背景，可设置前置，如同v2.1时的场景
4，放一个falsh闹钟到左上角，或者flash天气预报
5，放一个广告插件，浏览听歌同时，挣点外快
6，自作一个友情链接放左下角，什么博客地址，空间地址等
7，写上自己签名，头像到右下角
等等
以上布局只是随意放的，有了皮肤和插件坐标系统，可以轻松实现您想要的任意布局。
您大可将其视为一个平台，满足自己一些特别的需求。但是也不要太贪心哦！会拖网速的。
普通用户的福音，自定义传参
对于一般的CMP用户来说，能满足自己的要求那是再好不过了。
现在，CMP的自定义传参就以一种大众化的方式来让普通用户更好的定制自己的个性需求，只要在地址后跟一个参数就可以实现自己的要求。他能让用户自己指定默认专辑，默认曲目，默认皮肤，默认语言，默认背景颜色，开场动画，是否自动播放，是否最大化视频等等。。。甚至允许用户指定自己添加一首歌曲。
网络电台支持
CMP3通过调用JS可以实现WMP类音乐的播放，但需在浏览器网页环境中，故不能直接调用cmp.swf播放，只能通过网页如index.htm间接调用才能播放电台
CAT插件库文件后缀：CMP
SOFTIMAGE|CAT即人物动画制作系统、3DS MAX角色动画插件的预置运动文件：CAT Motion Preset,该文件后缀为*.cmp

『陆』 CMP 是什么意思

不知道你问的是哪方面，CMP（chemical mechanical polishing）是一种 运用化学反应，和机械研磨作用，对半导体材料的抛光手法
是现在半导体加工不可缺少的一道工序

『柒』 CMP的介绍

现在缩写词汇急剧增多，很多缩写都有很多完全不同的意思，CMP也不例外。 计算机：Chip multiprocessors,单芯片多处理器,也指多核心； 电子：Chemical Mechanical polishing,化学机械抛光； 物理：Condensed Matter Physics,凝聚态物理；综合布线：Plenum Cable，天花板隔层电缆； 晨风音乐：CenFun Music Player 晨风免费在线音乐播放器；稀疏信号重建：Complementary Matching Pursuit，补空间匹配追踪算法

『捌』 关于含氟废水和CMP废水的处理

根据bod cod ph 金属危害来实际分析

『玖』 用于大规模集成电路化学机械抛光的新材料制备及应用

杨华明 宋晓岚 邱冠周

（中南大学无机材料系，湖南长沙 410083）

本项目是科技部国际合作重点项目。

一、内容简介

（一）目的与意义

世界半导体产业进入大尺寸晶圆时代后，要求IC元件有最优的表面平整度，以满足微米及亚微米集成电路的制造工艺。化学机械抛光（CMP）是目前全局平坦化中最好的技术，也是解决多层绝缘介质层和多层金属布线全程平坦化的唯一有效的办法，加工工艺简单、成本低。

CMPA光液和微米级磨料全球仅有少数供货商，国内半导体厂之需求皆仰赖进口，相对于国外进口的CMPA光液产品，国产的CMPA光液产品除新鲜外，还有价格适宜、送货迅速、配套服务与专业的技术支持及时等优点。

（二）关键技术

1.锆英砂-Al₂O₃体系的高温熔盐相平衡规律及颗粒分级技术的研究

锆英砂-Al₂O₃体系的高温熔盐相平衡的测定，利用XRD技术研究平衡物种的组成，确定形成高性能的ZrSiO₄-α-Al₂O₃磨料的条件；研究超细粉碎与控制分级技术，确定得到粒度分布均匀、分散性良好且具有一定规律棱角的研磨料的工艺条件；开发出一种天然资源的高价值利用的途径，利用天然的锆英砂生产高附加值的电子器件研磨料。

2.复合纳米颗粒的制备与稳定分散技术

研究内容包括：通过纳米SiO₂-Al₂O₃、SiO₂-CeO₂、Al₂O₃-CeO₂的控制生长基础研究，确定球状纳米复合颗粒的形成条件，以及Na^＋的脱除工艺条件；研究纳米复合粉体的表面化学性质和溶液化学性质；研究复合颗粒体系的悬浮液在不同离子强度、pH值及溶液性质条件下的颗粒表面电荷变化规律；研究浆料体系的动力性质、电学性质以及浆料聚沉作用机理和聚沉动力学，确定抛光液的稳定化工艺条件。在SiO₂系、SiO₂-Al₂O₃系、SiO₂-CeO₂系纳米粗抛和精抛液理论的基础上，开发具有国际先进水平的多种用途的CMP抛光浆料产品。

3.分子模拟技术研究抛光液的配方

以计算化学为基础，利用cerius2.0和gaussian 98等软件在SGI工作站上进行模拟抛光液中各组分和硅晶圆表面的相互作用，指导抛光液配方的设计。

二、推广应用

在国内外首次由天然锆英砂制备微米级研磨料及纳米颗粒的均一稳定化技术，其技术关键为均一的ZrSiO₄-α-Al₂O₃相形成及合适的破碎分级技术和纳米颗粒的制备及均一稳定化技术和工艺。在高温熔盐相图方面，成功地采用神经网络技术预测多元熔盐体系的相图，并在KBr-MnSO₄-CsCl体系中得到应用；在细粒分级技术研究方面，能在实验室得到平均粒径为7.21μm且粒径分布集中的ZrSiO₄-α-Al₂O₃颗粒，说明以锆英砂为原料完全可以制备高档次的研磨料，但是该产品的核心技术还在于相图的控制以得到组分均匀的产品。其思路是先通过实验得到二元相图，然后通过神经网络技术模拟锆英砂中的主要杂质Fe₂O₃、MgO、CaO、TiO₂的影响及熔化类型进行预测，确定平衡固相物种及组成，从而达到分离杂质得到均一的ZrSiO₄-α-Al₂O₃产品的目的。

三、鉴定、获奖、专利情况

本项目已申请国家发明专利4项，相关产品已在国内一些单位进行了试用，效果较为理想，在半导体领域具有重大的推广价值。