生產半導體用的超純水

A. 超純水水質標准

超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

制備
在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

應用
超純水可以在以下領域使用：

（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

（4）高壓變電器的清洗等

B. 半導體行業超純水質量會有哪些要求

超純水的應用領域涵蓋了整個電子行業，還有許多新能源行業也有涉獵，比如我們常說的晶元、半導體、光伏等等。今天我們主要來說一下半導體領域中超純水的應用。
在半導體生產中，超純水都會被應用在哪裡?答案是在晶圓沖洗、化學品稀釋、化學機械研磨、潔凈室環境中都會應用到。那麼，質量會有哪些要求?雖然每個行業都使用所謂的「超純水」，但質量標准卻各不相同。半導體所用的超純水需要達到的水質標准為：我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

C. 半導體廠超純水Cl含量如何控制

摘要 純水中，電阻率，微粒子，氣泡(溶解氧，溶解氮)和TOC是非常重要的指標，略微差異，可能導致元器件生產過程的產品質量和合格率的下降，所以超純水的制備技術在半導體工業的發展中是非常重要的一環。近年半導體工業，超純水的部分指標可能更加嚴格於表1中ITRS浸沒式超純水的要求。目前掌握最尖端的超純水製造工藝主要還是國外的企業為主，如日本的栗田工業和美國的英特爾公司等等。

D. 在半導體生產中,超純水都會被應用在哪裡

• 超純水的應用領域涵蓋了整個電子行業，還有許多新能源行業也有涉獵，比如我們常說的晶元、半導體、光伏等等。今天我們主要來說一下半導體領域中超純水的應用。在半導體生產中，超純水都會被應用在哪裡?答案是在晶圓沖洗、化學品稀釋、化學機械...

E. 超純水說的是什麼水

超純水（Ultrapure water）又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。

這種水中除了水分子外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

超純水可以用於超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。

應用

超純水可以在以下領域使用：

1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

3、單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

4、高壓變電器的清洗等。

F. 生產半導體晶元過程中為什麼需要潔凈水

在半導體晶元製造中，很小的面積內就可製造幾百萬可光學顯微鏡無法辨認的器件，各種污染，如顆粒、金屬離子污染、有機物污染、薄膜污染等，時刻影響著晶元的存活。
所以在生產過程中使用超純水，避免帶來污染和不必要的蝕刻。

G. 超純水是什麼水

既將水中的導抄電介質襲幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大於18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。

超純水,是一般工藝很難達到的程度，採用預處理、反滲透技術、超純化處理以及後級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm

超純水是美國科技界為了研製超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會吸出人體中很多離子。

H. 光伏行業晶體管，半導體集成電路為什麼一定要用純水

半導體工業就是通過在本徵半導體（比如純硅）里摻雜質來調節半導體材料導內電性和其它容物理化學性能的，極微量雜質就會劇烈改變半導體材料的性能，所以整個生產過程必須用去離子水，以減少非必要雜質的引入。去離子水是高純水，自來水乃至蒸餾水都達不到去離子水的純度。

I. 電子工業超純水設備的組成

電子、半導體、液晶顯示等工業在生產過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到後續工藝的處理效果和使用壽命，因此水的質量相當重要。超純水設備在凈化水質方面具有很好的效果，是很多企業都會選擇的水處理設備。
超純水設備一般包括預處理系統、反滲透裝置、後處理系統、清洗系統和電氣控制系統等。

預處理系統一般包括原水泵、加葯裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。預處理系統的設備配置應該根據原水的具體情況而定。
反滲透裝置主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使產水水質滿足使用要求。
後處理系統是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。後處理系統能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。
清洗系統主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。
電氣控制系統是用來控制整個反滲透系統正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制櫃等。
以上這些系統共同組成了一套完整的超純水設備，通過超純水設備制備出來的工業純水，其純度可達到18MΩ·CM，且系統穩定，使用壽命長，且生產過程所產生的廢水又可回用再生，節能環保。

J. 想知道超純水是什麼水

超純水是電阻率達到18 MΩ*cm的水。

超純水水中除了水分子外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。可以用於超純材料，應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。

超純水的應用：

1、超純水用於電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2、超純水用於化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

3、超純水用於單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

4、超純水用於高壓變電器的清洗等。