反滲透清洗液怎麼處理

『壹』 純化水的反滲透膜用什麼清洗怎麼清洗

物理清洗方法：

1.停止裝置

慢慢的把操作壓力降低，逐步停止裝置。，因為如果一下子停止裝置會導致裝置中的壓力快速的下降形成水錘，沖擊對管道、壓力容器以及膜元件造成一定的損傷。

2.調節閥門

首先把濃溶液的水閥門全部打開；之後把進水的閥門關閉；接著把產水閥門打開到最大。如果把關閉閥門順序搞錯了，就可能會產生背壓對壓力容器中的後端的膜元件造成械性的損害

3.清洗作業

首先把低壓清洗泵打開；然後再慢慢的把進水閥打開，這時候一定要注意觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門一直調到流量和壓力都達到預先設計好的值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。

化學清洗方法：

化學清洗方法是利用化學葯劑進行清洗的，針對不同的污染物要選用不同的化學葯劑，下面也會給大家介紹什麼污染物選用什麼化學葯劑。

檸檬酸清洗

在採用檸檬酸溶液進行清洗之前，先用軟化水或者 RO 產品水對膜元件進行沖洗。向清洗水箱中添加檸檬酸（白色粉末），對溶液進行連續的攪動，使檸檬酸迅速和充分溶解，使檸檬酸溶液濃度達到 2%（質量百分比）。在添加葯品之前，將大塊的葯品敲碎，以避免對攪拌器和水泵造成損壞。

十二烷基磺酸鈉(Na-SDS)清洗劑清洗

配製 0.025%（質量百分比濃度）十二烷基磺酸鈉和 0.1%（質量百分比濃度）NaOH 溶液，控制溶液溫度小於 30℃，其 pH 控制范圍在 pH12 以內。此種方法最好作為系統的第一步化學清洗。

六聚偏磷酸鈉+鹽酸的清洗

向水中添加 SHMP（白色粉末），小批量逐步添加，以達到 1.0%濃度（質量百分比）溶液。使用攪拌器連續地攪拌溶液，使化學葯品均勻混合。

緩慢的將鹽酸（HCl）添加到 SHMP 溶液中，直到溶液的 pH 值達到 2。鹽酸（HCl）是一種腐蝕性的無機酸，在處理鹽酸時要注意安全規則。

溶液的 pH 值應該接近，但是要大於 2。 如果在清洗期間溶液的 pH 值升高超過 3.5，則要添加鹽酸（HCl）直到 pH 值恰好大於 2。如果 pH 值降低到小於 2，使用 NaOH 進行調節。NaOH 是一種腐蝕性無機鹼，在使用時要注意安全規則。

反滲透膜的清洗步驟：

1、用泵將干凈、無游離氯的純凈水從特定的進水口打入壓力容器中並且排放幾分鍾。

2、用干凈的純凈水在清洗箱中配製清洗液，因為針對不同的膜或者不同的污染物需要不同的清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。

4、清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。

5、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。

6、在沖洗RO反滲透膜系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15-30分鍾)。

『貳』 反滲透膜清洗

反滲透膜污染的清洗方法 清洗反滲透膜時建議採用膜專用的清洗液。確定清洗液前對污染物進行化學分析是十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。

對於無機污染物建議使用檸檬酸清洗液；對於硫酸鈣及有機物建議使用三聚磷酸鈉、EDTA四鈉鹽清洗液；對於嚴重有機物污染建議使用三聚磷酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉清洗液。所有清洗液可以在最高溫度為華氏104度（攝氏40℃）下清洗60分鍾，所需用品量以每100加侖（379升）中加入量計，配製清洗液時按比例加入葯品及清洗用水，應採用不含游離氯的反滲透產品來配製溶液並混合均勻。

反滲透膜元件的化學清洗與水沖洗 清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的濃水道循環，此時膜元件仍裝在壓力容器內而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。

清洗反滲透膜元件的一般步驟：

1.用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中並排放幾分鍾。

2.用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。

3.將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間，對於8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35到40加侖/分鍾（133到151升/分鍾），對於6英寸壓力容器流速為15到20加侖/分鍾（57到76升/分鍾），對於4英寸壓力容器流速為9到10加侖/分鍾（34到38升/分鍾）。

4.清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。

5.用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱或相應水源打入壓力容器中並排放幾分鍾。

6.在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑（通常需15到30分鍾)。

『叄』 反滲透怎麼沖洗

反滲透膜物理清洗操作步驟：

（1）停止裝置
緩慢地降低操作壓力，逐步停止裝置。急速停車造成的壓力急速下降會形成水錘，將會對管道、壓力容器以及膜元件造成沖擊性損傷。
（2）調節閥門
首先全開濃縮水閥門；然後關閉進水閥門；接著全開產水閥門（如關閉系統後關閉了產水閥門）。如果錯誤的關閉產水閥門，壓力容器中的後端的膜元件可能因為產水背壓而造成膜元件機械性損傷。
（3）清洗作業
首先啟動低壓清洗泵；然後緩慢地打開進水閥，同時觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門直至流量和壓力調節到設計值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。

反滲透膜化學清洗操作步驟：

（1）在4Bar（60Psi）或更低壓力條件下進行低壓沖洗，即從清洗水箱中（或合適的水源）向壓力容器中泵入清潔水並排放幾分鍾。沖洗水必須是潔凈的、去除硬度、不含過渡金屬（Fe、Mn等）和余氯的RO產品水或去離子水。
（2）在清洗水箱中配製指定的清洗溶液。配製用水必須是去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。將清洗液的溫度和pH應調到所要求的值。
（3）啟動清洗泵將清洗液泵入膜組件內，循環清洗約1小時或是要求的時間。在初始階段，在清洗液返回至RO清洗水箱之前，應將最初的迴流液排放掉，以免系統內滯留的水稀釋清洗溶液。在化學葯劑與RO裝置接觸後，裝置內的污染物在化學反應的作用下會被大量沖出，為了避免污染清洗液，這些清洗液也應該被排放掉，直至清洗液顏色轉淡再進入循環清洗。在循環清洗最初的5分鍾內，緩慢地將流速調節到最大清洗流速的1/3。並在第二個5分鍾內，增加流速至最大設計流速的2/3，最後再增加流速至最大清洗流速值。如果需要，當pH的變化大於0.5，就要重新添加葯品調整pH值。
（4）根據需要可交替採用循環清洗和浸泡程序。浸泡時間可根據製造商的建議選擇1至8小時。在整個清洗過程中要謹慎地保持合適的溫度和pH值。
（5）化學清洗結束後，要用清潔水（去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產品水或去離子水）進行低壓沖洗，從清洗裝置及相關管路中沖洗殘留化學葯劑，排放並沖洗清洗水箱，然後再用清潔水完全注滿清洗水箱。從清洗水箱中泵入所有的沖洗水沖洗壓力容器並排放。直至RO裝置內的殘留化學葯品基本被清除。
（6）採用清潔水完全沖洗後，就可用預處理給水進行最終的低壓沖洗。給水壓力應低於4bar，最終沖洗持續進行直至沖洗水干凈，且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要15-60分鍾。操作人員可用干凈的燒瓶取樣，搖勻，監測排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行，如沖洗水至排放出水的電導在給水電導的10-20%以內，可認為沖洗已接近終點；pH表也可用於測定沖洗水與排放水的pH值是否接近。
（7）低壓沖洗結束後，RO裝置可以重新開始運行，但初始的產品水要進行排放並監測，直至RO產水可滿足工藝要求（電導、pH值等）。這一段恢復時間有時需要從幾小時到幾天，才得到穩定的RO產水水質，尤其是在經過高plH清洗後。

詳情可見官網：網頁鏈接

『肆』 反滲透膜清洗的清洗步驟

清洗反滲透膜元件的一般步驟： 用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水內從清洗箱(或相應容水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。 用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。 將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。 清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。 用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。 在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。 普通污垢的特徵 污染物 鹽透過率 壓差 透水量 鈣和無機鹽 上升10~25% 上升10~40% 下降10% 以下 金屬氧化物，氫氧化物 迅速上升2 倍以上 迅速上升2 倍以上 下降20~40% 膠態物質 緩慢上升2 倍以上 緩慢上升2 倍以上 緩慢下降50% 以上 有機物質 上升或下降 輕微上升 下降50% 以上 微生物 迅速下降2 倍以上 迅速上升2 倍以上 下降50% 以上

『伍』 反滲透膜如何清洗

目前反滲透膜的清洗方法主要分為兩種，一種是物理法，另一種是化學法。兩種方法均能對膜進行有效清洗。其中物理法是利用機械力來清除膜表面的污染物，整個過程不發生任何化學反應，一般分為手工擦洗、等壓水力沖洗、反向沖洗、熱水沖洗、水—氣混合清洗五種方法。

手工擦洗

該方法是將拆解開的平板膜用柔軟的物質輕輕擦拭膜表面的污垢，擦的同時用水沖洗。這種方法可以有效除掉膜表面大量的污垢，但是對於深入膜孔中更細小的雜質就無能為力了。

熱水沖洗

熱水沖洗式用30℃-40℃的熱水沖洗膜表面，可以將膜上黏稠且有熱溶性的雜質去除掉。

水—氣混合清洗

該方法是將凈化過的壓縮空氣與水一道送入超濾裝置，水—氣混合流體會在膜表面產生劇烈的攪動作用，從而將比較頑固的雜質去除。

說完了物理清洗方法，那麼就來說說化學清洗方法。化學清洗方法是利用某種化學葯品與膜面的濾餅進行化學反應來達到清洗膜的目的。不過在選擇清洗化學葯品時，要選用不能與膜及其他組件材質發生任何化學反應的葯品，同時也不能使用能引起二次污染的葯品。為此反滲透膜的化學清洗方法主要有兩種，一種是利用氧化性清洗劑，另一種是採用酶洗滌劑清洗。

無論是物理方法還是化學方法，都各自有各自的優點。不過在制葯行業中，清潔員也常常使用化學清洗方法的同時，結合等壓沖洗和反向沖洗方法，從而達到更加有效的清潔效果。

『陸』 反滲透膜清洗有液配製有幾種方法

反滲透膜化學清洗技術
摘要：本文介紹了反滲透膜污堵的原因，反滲透裝置清洗的方法以及清洗時應該注意的問題。
關鍵詞：反滲透膜 CIP 化學清洗 污染
1、概要
在反滲透系統運行過程中，反滲透膜表面會由於原水中泥澤、膠狀物、有機物、微生物等污染物質的存在及膜分離過程中對難溶物質的濃縮而產生的沉積，進而形成對反滲透膜的污染。我們都知道，反滲透系統的預處理裝置是為盡可能多地去除引起膜污染的物質而專門設計的，盡管如此，即便系統有著相當完善的預處理設備也不能完全避免膜在使用過程中的污染，所以需要在設備運行的過程中進行周期性的去除膜系統中污染物的作業，這個操作過程就叫做反滲透系統的就地清洗（CIP，Cleaning In Place）。
反滲透膜被污染後，就會出現系統產水量減少、鹽的透過率增加等膜性能方面的衰退。但由於反滲透設備在使用過程中，影響膜性能的其它主要因素（壓力、溫度等）的變化，膜污染的現象有可能被其它因素掩蓋，因此應予以注意。
目前，市面上大部分芳香聚醯胺反滲透復合膜，在較寬的pH值范圍內具有相當的穩定性和一定的耐溫性，所以用戶可以對反滲透系統進行非常有效的清洗。多年的工程實踐表明，若不及時對已產生一定程度污染的反滲透系統進行清洗處理，想較為徹底地去除已長時間附著膜表面的污染物是非常困難的。
一般在考慮膜系統清洗方案時，應注意如下幾點：
■ 應把清洗排放廢液對環境的影響（EDTA，殺菌劑等）降低到最低限度。
■ 應盡可能使本次清洗過程去除污染物最大化。
■ 應在清洗時對膜的損傷最小化（應首先考慮選擇對膜性能 影響小的葯劑）。
■ 在實際清洗操作時，在保證清洗效果的前提條件下，盡可能使清洗費用最低化
2、反滲透膜發生污染的原因
■ 不恰當的預處理
•系統配備預處理裝置相對於原水水質及流量不合適，或在系統內未配備必要的工藝裝置和工藝環節。
•預處理裝置運行不正常，即系統原有的預處理設備對原水SDI成分、濁度、膠狀物等的去除能力較低，預處理效果不理想。
■ 系統選擇了不恰當的設備或設備材質選擇不正確（泵、配管及其它）。
■ 系統化學葯品注入裝置發生故障（酸、絮凝/助凝劑、阻垢/分散劑，還原劑及其它）。
■ 設備間斷運行或系統停止使用後未採取適當的保護措施。
■ 運行管理人員不合理的設備操作與運用（回收率、產水量、濃縮水量、壓差、清洗及其它）。
■ 膜系統內長時間的難溶沉澱物堆積。
■ 原水組份變化較大或水源特性發生了根本的改變。
■ 反滲透膜系統已發生了相當程度的微生物污染。
3、膜污染物質分析
■ 首先應認真分析在此之前所記錄的、能反映設備運行狀況的近期設備運行記錄資料。
■ 分析原水水質。
■ 確認之前已做的清洗結果。
■ 分析系統運行時在測定SDI值測試時留在濾膜上的異物質。
■ 分析反滲透系統配置的保安過濾器濾芯上的堆積物。
■ 檢查原水流入系統的配管內部和反滲透膜的進水端的異物質。
※各種污染物質結垢時的表現
（1）碳酸鹽垢
結垢後表現：標准滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加
（2）鐵/錳
污染後表現：標准壓差升高（主要發生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
（3）硫酸鹽垢
若發生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統最後面的膜元件，表現為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
（4）硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導致系統壓差升高。採用0.4%二氯胺對於溶解嚴重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應採用二氯胺清洗。
（5）懸浮物/有機物
污堵表現：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大於4或濁度大於1，有機物污染的可能性較大。
（6）微生物
污堵表現：標准壓差升高或標准透水量下降。可採用非氧化性殺菌劑加鹼進行清洗。
（7）鐵細菌
污堵表現：標准壓差升高。可採用EDTA鈉鹽加鹼進行清洗。
4、反滲透系統清洗時機的判斷與選擇
當有下述情況發生之—時應對反滲透膜系統予以清洗
■ 標准化後的設備產水量減少了10~15%；
■ 標准化後的膜系統運行壓力增加了15% ；
■ 標准化後的膜系統鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
■ 運行壓差較初始作業時增加了15%
（建議以設備最初運行25~48小時所得到的運行記錄為標准化後對比依據）
反滲透設備的性能參數與壓力、溫度、pH值、系統水回收率及原水含鹽濃度等諸多因素的變化有關。因此，依據初始試機時而得到的正常技術參數（產品水流量、壓力、壓差及系統脫鹽率）作為依據及與標准化後現時系統數據比較是非常重要的。此外，清洗時間的選擇也因使用反滲透設備地區的原水水質條件及環境特性的差異而有所不同，因此，有必要根據設備現場的條件施以適當的管理措施。但是無論如何，對於任何一個設計優良和管理完善的反滲透系統來說，化學清洗的最短周期均應保證在累計連續運行3個月以上，運轉時間一般達到6-12個月左右最好，否則就必須考慮對原有系統的預處理設備或其運行管理有所改善。
5、清洗箱容積的確定及清洗液的用量計算
清洗箱的容積和清洗液的用量可以通過以下幾種方式計算而獲得：
1）運用壓力容器的空體積和管道的空體積進行估算：
壓力容器的空體積為：
V1 = NπR2L
其中： N = 每次清洗時的壓力容器數目
R = 壓力容器的半徑
L = 壓力容器的有效長度
管道空容積體積為：
V2=L1πd2/4
其中： L1 = 為清洗管道總長度
d = 為清洗管道直徑
清洗箱總容積(即清洗液配製量)：
V= 1.2(V1+ V2)
2）根據膜元件的型號規格和污染程度來計算清洗箱的容積和清洗液的配製量：
對於正常污染情況：一般按每根4英寸的膜元件配製8.5升的清洗液；每根8英寸的膜元件按34升來配製清洗液的方法來計算反滲透清洗箱的容積。
對於污染較為嚴重的情況：每根4英寸膜元件配製16升清洗液；每根8英寸膜元件按55升配製清洗液並由此而得到清洗箱的容積和清洗液的配製量。
6、膜清洗過程
1）首先用反滲透產品水(最好採用反滲透產品水，也可以用符合反滲透進水標準的軟化水或過濾水)沖洗反滲透膜組件和系統管道，
2）用反滲透產品水至少應該是合格的軟化水配製清洗液，並且保證混合均勻;在清洗前應反復確認清洗液pH值和溫度是否適宜。
3）首先用正常清洗流量的1/2及40~60PSI的運行壓力向反滲透設備打入清洗液，並去除膜容器內部存留的水。並把剛開始循環回來的部分清洗液排掉，防止清洗液被稀釋。
在正常清洗時，清洗系統壓力控制准則是採用幾乎使系統不能產出純水時的壓力為最好（即清洗系統供給壓力與原水和濃縮水間的壓差大小相等）。因為合適的清洗運行壓力可使反滲透膜面上重新堆積異物質的可能性降到最低的程度。
4）清洗時，先將以前在壓力容器內部存留的水排凈.然後再把清洗過程產生濃縮水和產出水向清洗槽循環，並注意保持清洗液溫度穩定。在開始進行循環清洗前，要首先確認清洗液溫度和pH值是否已符合標准。並對其迴流清洗液的濁度等直觀情況進行確認：如果迴流清洗液已明顯變色或變濁則應重新准備清洗液；若迴流清洗液pH變化值超過0.5時，最好重新調整PH值或更換清洗液。
5）在對系統進行化學清洗時，一般操作方法是：首先對需要清洗的壓力容器採用低流量（1/2標准清洗流量）循環清洗5~15分鍾，然後再採用中流量（2/3標准清洗流量）循環清洗10~15分鍾。
6）然後停泵並關掉閥門，使膜元件浸泡在清洗液中，浸泡時間大致為1個小時。如膜污染情況較為嚴重或是清洗較難去除的污染物，該過程的浸泡時間可適當延長。為保證長時間浸泡時的清洗液溫度，也可採用反復進行循環與浸泡相結合的方式。一般說來清洗液的溫度至少應保持在20℃以上和40℃以下，適宜的清洗液溫度可增強清洗效果；請注意:溫度過低的清洗液可能在清洗過程中發生葯品沉澱。當清洗液溫度過低時，清洗應安排在將清洗液溫度升高到較為合適的溫度後在進行。
清洗時各反滲透壓力容器的流量控制
壓力容器直徑
（英寸） 每個反滲透壓力容器通過的標准清洗流量
GPM m3/hr
2.5 ～5 ～1.1
4 ～10 ～2.3
8 ～40 ～9

7）在正常清洗時，在結束清洗液的浸泡之後，以標准清洗流量再次循環清洗20~60分鍾一般即可以結束清洗。然後再用同樣容積的反滲透產品水對反滲透膜組件進行沖洗，並將沖洗水排入下水道中。在確認沖洗干凈後，即可重新運行反滲透設備。我們建議至少應排放掉在化學清洗後重新運行系統後15分鍾內所生產出的產品水.並在對現場系統產品水水質進行認真的化學分析結果確認後，再將系統運行所得到的系統產出水打入產品水水箱。另外，在採用多種葯品進行清洗時，為防止化學葯品之間的化學反應，在每次進行清洗前產品水側排出的水最好也應排凈。
※ 若是多級設備，建議分級進行清洗，以避免流量無法控制的局面——即第一級流量太少或最末級流量過多，這樣做，也可以防止在第一級被洗掉的污染沉澱物又重新流入下一級，形成二次污染。
8）若欲防止微生物的再次污染，在對系統進行清洗之後，可用膜廠商允許使用的殺菌溶液對膜系統進行滅菌清洗，其操作方式同前。請注意：對滅菌清洗後的沖洗務必要徹底,以避免將消毒液帶入產品水中。

7、附錄 聚醯胺復合膜元件一般清洗液
清洗液
污染物 0.1%（W）NaOH或1.%（W）Na4EDTA
【pH12/30℃（最大值）】 0.1%（W）NaOH或0.025%（W）Na-SDS
【pH12/30℃（最大值）】 0.2%（W）HCl鹽酸 1.0%（W）Na2S2O4 0.5%（W）H3PO4磷酸 1.0%（W）NH2SO3H 2.0%（W）檸檬酸
無機鹽垢
(如CaCO3) 最好 可以 可以 可以
硫酸鹽垢
（CaSO4 BaSO4） 最好 可以
金屬氧化物
（如鐵） 最好 可以 可以 可以
無機膠體（淤泥） 最好
硅 可以 最好
微生物膜 可以 最好
有機物 作第一步清洗可以 作第一步清洗最好 作第二步清洗最好
1、（W）表示有效成分的重量百分含量；
2、按順序污染物化學符號為：CaCO3表示碳酸鈣；CaSO4表示硫酸鈣；BaSO4表示硫酸鋇。
3、按順序清洗化學品符號為：NaOH表示氫氧化鈉；Na4EDTA表示乙二胺四乙酸四納；Na-SDS表示十二烷基苯磺酸鈉鹽，又名月硅酸鈉；HCl表示鹽酸；Na2S2O4表示亞硫酸氫鈉；H3PO4表示磷酸；NH2SO3H表示亞硫酸氫胺。
4、為了有效清洗硫酸鹽垢，必須盡早的發現和處理，由於硫酸鹽垢的溶解度隨清洗液含鹽量增加而增加，可以在NaOH和Na4EDTA的清洗液中添加NaCl，當結垢一周以上時，硫酸鹽垢的清洗成功性值得懷疑。
5、檸檬酸是無機鹽垢的可選清洗劑。
RO膜清洗時最好是看PH值酸的PH值為2左右濃度為2%，鹼的PH值為12左右濃度為0。5%

『柒』 反滲透膜怎樣清洗

步驟如下：

1、如果一周不用的話應該封膜：不用拿出來，一般超過一個禮拜不用的話，用1～2％的亞硫酸氫鈉溶液充滿裝膜的容器。膜在膜殼裡面用水浸泡，容易滋生細菌。而且每隔1~2個星期在濃水及產水取樣口取樣測PH值，如有0.5的變動，說明NaHSO3變化，有細菌產生，需放掉所有溶液，重新封膜。

2、短期停運，一般低壓沖洗就可以，保證壓力容器內水保持新鮮，一般每天沖洗半個小時就可以。長期停運，一般需要加亞硫酸氫鈉進行保護，保護之前需要做一個系統清洗。

3、進水參數一定時，透過液的電導明顯增加，增加10%，建議清洗

4、進水溫度一定時，高壓泵出口壓力增加8~10%以上才能保證膜通量不變，建議清洗。

5、進水的流量和溫度一定時，RO裝置的進出口壓差增加20~30%，建議清洗。

6、在惡劣進水條件下運行2~3個月，在正常進水條件下運行5~6個月，需進行清洗（視用水量和客戶水質而從實際中找出合理的時間）。

(7)反滲透清洗液怎麼處理擴展閱讀

反滲透膜影響因素

1、進水壓力對反滲透膜的影響

進水壓力本身並不會影響鹽透過量，但是進水壓力升高使得驅動反滲透的凈壓力升高，使得產水量加大，同時鹽透過量幾乎不變，增加的產水量稀釋了透過膜的鹽分，降低了透鹽率，提高脫鹽率。當進水壓力超過一定值時，由於過高的回收率，加大了濃差極化，又會導致鹽透過量增加，抵消了增加的產水量，使得脫鹽率不再增加。

2、進水溫度對反滲透膜的影響

反滲透膜產水電導對進水水溫的變化十分敏感，隨著水溫的增加水對通量也線性的增加，進水水溫每升高1℃，產水量就增加2.5%-3.0%;(以25℃為標准)

3、進水PH值對反滲透膜的影響

進水PH值對產水量幾乎沒有影響，而對脫鹽率有較大影響。PH值在7.5-8.5之間，脫鹽率達到最高。

4、進水鹽濃度對反滲透膜的影響

滲透壓是水中所含鹽分或有機物濃度的函數，進水含鹽量越高，濃度差也越大，透鹽率上升，從而導致脫鹽率下降。

『捌』 反滲透膜的清洗步驟

物理清洗方法：

1.停止裝置

慢慢的把操作壓力降低，逐步停止裝置。，因為如果一下子停止裝置會導致裝置中的壓力快速的下降形成水錘，沖擊對管道、壓力容器以及膜元件造成一定的損傷。

2.調節閥門

首先把濃溶液的水閥門全部打開；之後把進水的閥門關閉；接著把產水閥門打開到最大。如果把關閉閥門順序搞錯了，就可能會產生背壓對壓力容器中的後端的膜元件造成械性的損害

3.清洗作業

首先把低壓清洗泵打開；然後再慢慢的把進水閥打開，這時候一定要注意觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門一直調到流量和壓力都達到預先設計好的值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。

化學清洗方法：

化學清洗方法是利用化學葯劑進行清洗的，針對不同的污染物要選用不同的化學葯劑，下面也會給大家介紹什麼污染物選用什麼化學葯劑。

反滲透膜清洗化學葯劑選用圖

檸檬酸清洗

在採用檸檬酸溶液進行清洗之前，先用軟化水或者 RO 產品水對膜元件進行沖洗。向清洗水箱中添加檸檬酸（白色粉末），對溶液進行連續的攪動，使檸檬酸迅速和充分溶解，使檸檬酸溶液濃度達到 2%（質量百分比）。在添加葯品之前，將大塊的葯品敲碎，以避免對攪拌器和水泵造成損壞。

十二烷基磺酸鈉(Na-SDS)清洗劑清洗

配製 0.025%（質量百分比濃度）十二烷基磺酸鈉和 0.1%（質量百分比濃度）NaOH 溶液，控制溶液溫度小於 30℃，其 pH 控制范圍在 pH12 以內。此種方法最好作為系統的第一步化學清洗。

六聚偏磷酸鈉+鹽酸的清洗

向水中添加 SHMP（白色粉末），小批量逐步添加，以達到 1.0%濃度（質量百分比）溶液。使用攪拌器連續地攪拌溶液，使化學葯品均勻混合。

緩慢的將鹽酸（HCl）添加到 SHMP 溶液中，直到溶液的 pH 值達到 2。鹽酸（HCl）是一種腐蝕性的無機酸，在處理鹽酸時要注意安全規則。

溶液的 pH 值應該接近，但是要大於 2。 如果在清洗期間溶液的 pH 值升高超過 3.5，則要添加鹽酸（HCl）直到 pH 值恰好大於 2。如果 pH 值降低到小於 2，使用 NaOH 進行調節。NaOH 是一種腐蝕性無機鹼，在使用時要注意安全規則。

如果看完還是不怎麼清洗的話這時有詳細的介紹網頁鏈接

『玖』 反滲透如何反洗

反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。

『拾』 如何清洗反滲透

反滲透膜元件，作為深層的過濾手段，其表面不可避免的會殘留有膠體、微生物、雜質顆粒及難溶鹽類在其表面的析出，因此，在多種領域使用的反滲透裝置，一旦投入使用，最終都需要清洗，只是清洗周期的長短不同而已。通常情況下，根據污染情況的不同，反滲透清洗採用不同的清洗方式，其中包括在線清洗和離線清洗兩種。

在線清洗

反滲透清洗清洗條件

當反滲透系統參數出現如下變化，您的系統馬上要做在線清洗：

1)系統的段間壓差：一段壓差≤0.2Mpa;二段壓差≤0.1Mpa。

2)在系統運行參數不變的情況下，通過溫度校正系統的產水量恢復設計產水量的85%以上。

3)產水脫鹽率變化不超過5%

反滲透清洗清洗步驟

一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。

二、用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。

三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。

四、清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。

五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。

六、在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。

反滲透清洗離線清洗

編輯

反滲透清洗反滲透離線清洗的條件

(1)反滲透膜元件污染符合「重度污染」標准;

(2)反滲透系統通過在線清洗不能夠達到系統額定標準的;

(3)水處理系統由於供水緊張而不能夠進行在線清洗或沒有在線清洗設備的;

(4)反滲透污染類型較為復雜，通過在線清洗容易引起交叉污染的;(反滲透系統前段污染物可能會通過在線清洗被帶入系統後段，而使後段膜元件遭受污染的稱為交叉污染)

反滲透清洗反滲透離線清洗的一般步驟

1 首先用性能優良的備用膜元件替換反滲透系統上的待清洗膜元件，以保證反滲透系統不停止運行，保證整個生產工藝的持續穩定。 [1]

2 反滲透膜元件性能測試：

對每一支膜元件單獨測試其各項性能指標，包括：脫鹽率、產水量、壓差、重量等，並作好測試前記錄脫鹽率、產水量和壓差測試條件：符合不同類型膜廠商提供的標准。

3 系統清洗前了解系統目前運行狀況;

4 採集運行反滲透系統的各參數指標，作好原始記錄;

5 根據用戶原水全分析報告、性能測試結果及所了解的系統信息判斷清洗流程;

6 污染物的鑒定。首先根據3.5的分析結果初步判定，再通過特殊的設備、器具作進一步的驗證，以確定具體污染物類型。

7
根據5、6的分析結果，確定所需清洗配方。當RO膜上的污染物確定後，我們可以選擇膜製造商提供的系列配方，選擇較為合適的一種或兩種配方;或者選擇特殊配方(當RO膜被特殊的污染物污染時，採用普通的配方效果欠佳，或者從經濟性角度比較時，特殊配方較為經濟)。目前，國內外有許多反滲透膜元件清洗的專用葯劑，如開元恆業的KY410膜專用清洗劑、KY420膜專用清洗劑和殺菌劑，根據筆者的經驗，使用效果良好，且同傳統葯劑比較，經濟性也不錯。

8 在反滲透專用清洗設備上用以上清洗劑結合物理處理清洗手段進行試驗性清洗，以選擇恰當的清洗配方和清洗程序;

9 確定清洗方法，對以上所有膜元件進行處理;

10 對清洗後的膜元件進入測試平台進行測試並作記錄，不符合要求的將重新送入清洗設備進行處理;

11 整理清洗數據資料，寫出清洗總結報告。
——格瑞水務