① 反滲透膜必需要加殺菌劑和還原劑嗎
PA膜的話一般都要求添加還原劑，ORP控制在300以下，防止膜被余氯氧化，但是CA膜抗氧化性比較好，前期有CA的話，基本不添加也可行。
殺菌劑的話，基本上不需要，雖然DOW或者海德能都要求添加
② 為什麼加反滲透殺菌劑
反滲透加殺菌劑就是降低水中的有機物的含量，避免反滲透膜組件的有機物污堵！一般為了防止殺菌劑對膜的降解，還會需要還原劑系統！
③ 反滲透設備加葯系統有哪些
反滲透設備中的加葯主要有阻垢劑，還原劑和非氧化性殺菌劑; 作用: 阻垢劑的作用是防止反滲透膜元件長期運行在表面造成結垢污堵; 還原劑的作用是消除進反滲透膜水中的余氯; 非氧化性殺菌劑的作用是防止反滲透膜元件長期運行中微生物、細菌等對反滲透膜造成污染。更詳細的內容可以去查看科瑞環保。
④ 反滲透處理生水時需要加次氯酸鈉嗎
為防止微生物對反滲透膜元件的污染，反滲透系統根據原水水質情況投加殺菌劑，自來版水水源可以權不投加殺菌劑。殺菌劑分氧化性殺菌劑（包含次氯酸鈉）和非氧化性殺菌劑，氧化性殺菌劑是指含氯的殺菌劑，非氧化性殺菌劑是指不含氯的殺菌劑。投加氧化性殺菌劑後必須投加還原劑以消除余氯對反滲透膜元件的氧化，其反應式為Cl₂+NaHSO₃+H₂O=NaCl+H₂SO4，余氯含量控制在0.1ppm以下。
希望能夠幫助到你！
⑤ 地下井水要求反滲透產水50t/h，回收率75%，錳鐵超標，進反滲透前殺菌劑和阻垢劑投加多少，用什麼流量泵啊
不是很清楚 不好意思~~~~~~~~~~
⑥ 反滲透膜清洗有液配製有幾種方法
反滲透膜化學清洗技術
摘要：本文介紹了反滲透膜污堵的原因，反滲透裝置清洗的方法以及清洗時應該注意的問題。
關鍵詞：反滲透膜 CIP 化學清洗 污染
1、概要
在反滲透系統運行過程中，反滲透膜表面會由於原水中泥澤、膠狀物、有機物、微生物等污染物質的存在及膜分離過程中對難溶物質的濃縮而產生的沉積，進而形成對反滲透膜的污染。我們都知道，反滲透系統的預處理裝置是為盡可能多地去除引起膜污染的物質而專門設計的，盡管如此，即便系統有著相當完善的預處理設備也不能完全避免膜在使用過程中的污染，所以需要在設備運行的過程中進行周期性的去除膜系統中污染物的作業，這個操作過程就叫做反滲透系統的就地清洗（CIP，Cleaning In Place）。
反滲透膜被污染後，就會出現系統產水量減少、鹽的透過率增加等膜性能方面的衰退。但由於反滲透設備在使用過程中，影響膜性能的其它主要因素（壓力、溫度等）的變化，膜污染的現象有可能被其它因素掩蓋，因此應予以注意。
目前，市面上大部分芳香聚醯胺反滲透復合膜，在較寬的pH值范圍內具有相當的穩定性和一定的耐溫性，所以用戶可以對反滲透系統進行非常有效的清洗。多年的工程實踐表明，若不及時對已產生一定程度污染的反滲透系統進行清洗處理，想較為徹底地去除已長時間附著膜表面的污染物是非常困難的。
一般在考慮膜系統清洗方案時，應注意如下幾點：
■ 應把清洗排放廢液對環境的影響（EDTA，殺菌劑等）降低到最低限度。
■ 應盡可能使本次清洗過程去除污染物最大化。
■ 應在清洗時對膜的損傷最小化（應首先考慮選擇對膜性能 影響小的葯劑）。
■ 在實際清洗操作時，在保證清洗效果的前提條件下，盡可能使清洗費用最低化
2、反滲透膜發生污染的原因
■ 不恰當的預處理
•系統配備預處理裝置相對於原水水質及流量不合適，或在系統內未配備必要的工藝裝置和工藝環節。
•預處理裝置運行不正常，即系統原有的預處理設備對原水SDI成分、濁度、膠狀物等的去除能力較低，預處理效果不理想。
■ 系統選擇了不恰當的設備或設備材質選擇不正確（泵、配管及其它）。
■ 系統化學葯品注入裝置發生故障（酸、絮凝/助凝劑、阻垢/分散劑，還原劑及其它）。
■ 設備間斷運行或系統停止使用後未採取適當的保護措施。
■ 運行管理人員不合理的設備操作與運用（回收率、產水量、濃縮水量、壓差、清洗及其它）。
■ 膜系統內長時間的難溶沉澱物堆積。
■ 原水組份變化較大或水源特性發生了根本的改變。
■ 反滲透膜系統已發生了相當程度的微生物污染。
3、膜污染物質分析
■ 首先應認真分析在此之前所記錄的、能反映設備運行狀況的近期設備運行記錄資料。
■ 分析原水水質。
■ 確認之前已做的清洗結果。
■ 分析系統運行時在測定SDI值測試時留在濾膜上的異物質。
■ 分析反滲透系統配置的保安過濾器濾芯上的堆積物。
■ 檢查原水流入系統的配管內部和反滲透膜的進水端的異物質。
※各種污染物質結垢時的表現
（1）碳酸鹽垢
結垢後表現：標准滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加
（2）鐵/錳
污染後表現：標准壓差升高（主要發生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
（3）硫酸鹽垢
若發生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統最後面的膜元件，表現為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
（4）硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導致系統壓差升高。採用0.4%二氯胺對於溶解嚴重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應採用二氯胺清洗。
（5）懸浮物/有機物
污堵表現：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大於4或濁度大於1，有機物污染的可能性較大。
（6）微生物
污堵表現：標准壓差升高或標准透水量下降。可採用非氧化性殺菌劑加鹼進行清洗。
（7）鐵細菌
污堵表現：標准壓差升高。可採用EDTA鈉鹽加鹼進行清洗。
4、反滲透系統清洗時機的判斷與選擇
當有下述情況發生之—時應對反滲透膜系統予以清洗
■ 標准化後的設備產水量減少了10~15%；
■ 標准化後的膜系統運行壓力增加了15% ；
■ 標准化後的膜系統鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
■ 運行壓差較初始作業時增加了15%
（建議以設備最初運行25~48小時所得到的運行記錄為標准化後對比依據）
反滲透設備的性能參數與壓力、溫度、pH值、系統水回收率及原水含鹽濃度等諸多因素的變化有關。因此，依據初始試機時而得到的正常技術參數（產品水流量、壓力、壓差及系統脫鹽率）作為依據及與標准化後現時系統數據比較是非常重要的。此外，清洗時間的選擇也因使用反滲透設備地區的原水水質條件及環境特性的差異而有所不同，因此，有必要根據設備現場的條件施以適當的管理措施。但是無論如何，對於任何一個設計優良和管理完善的反滲透系統來說，化學清洗的最短周期均應保證在累計連續運行3個月以上，運轉時間一般達到6-12個月左右最好，否則就必須考慮對原有系統的預處理設備或其運行管理有所改善。
5、清洗箱容積的確定及清洗液的用量計算
清洗箱的容積和清洗液的用量可以通過以下幾種方式計算而獲得：
1）運用壓力容器的空體積和管道的空體積進行估算：
壓力容器的空體積為：
V1 = NπR2L
其中： N = 每次清洗時的壓力容器數目
R = 壓力容器的半徑
L = 壓力容器的有效長度
管道空容積體積為：
V2=L1πd2/4
其中： L1 = 為清洗管道總長度
d = 為清洗管道直徑
清洗箱總容積(即清洗液配製量)：
V= 1.2(V1+ V2)
2）根據膜元件的型號規格和污染程度來計算清洗箱的容積和清洗液的配製量：
對於正常污染情況：一般按每根4英寸的膜元件配製8.5升的清洗液；每根8英寸的膜元件按34升來配製清洗液的方法來計算反滲透清洗箱的容積。
對於污染較為嚴重的情況：每根4英寸膜元件配製16升清洗液；每根8英寸膜元件按55升配製清洗液並由此而得到清洗箱的容積和清洗液的配製量。
6、膜清洗過程
1）首先用反滲透產品水(最好採用反滲透產品水，也可以用符合反滲透進水標準的軟化水或過濾水)沖洗反滲透膜組件和系統管道，
2）用反滲透產品水至少應該是合格的軟化水配製清洗液，並且保證混合均勻;在清洗前應反復確認清洗液pH值和溫度是否適宜。
3）首先用正常清洗流量的1/2及40~60PSI的運行壓力向反滲透設備打入清洗液，並去除膜容器內部存留的水。並把剛開始循環回來的部分清洗液排掉，防止清洗液被稀釋。
在正常清洗時，清洗系統壓力控制准則是採用幾乎使系統不能產出純水時的壓力為最好（即清洗系統供給壓力與原水和濃縮水間的壓差大小相等）。因為合適的清洗運行壓力可使反滲透膜面上重新堆積異物質的可能性降到最低的程度。
4）清洗時，先將以前在壓力容器內部存留的水排凈.然後再把清洗過程產生濃縮水和產出水向清洗槽循環，並注意保持清洗液溫度穩定。在開始進行循環清洗前，要首先確認清洗液溫度和pH值是否已符合標准。並對其迴流清洗液的濁度等直觀情況進行確認：如果迴流清洗液已明顯變色或變濁則應重新准備清洗液；若迴流清洗液pH變化值超過0.5時，最好重新調整PH值或更換清洗液。
5）在對系統進行化學清洗時，一般操作方法是：首先對需要清洗的壓力容器採用低流量（1/2標准清洗流量）循環清洗5~15分鍾，然後再採用中流量（2/3標准清洗流量）循環清洗10~15分鍾。
6）然後停泵並關掉閥門，使膜元件浸泡在清洗液中，浸泡時間大致為1個小時。如膜污染情況較為嚴重或是清洗較難去除的污染物，該過程的浸泡時間可適當延長。為保證長時間浸泡時的清洗液溫度，也可採用反復進行循環與浸泡相結合的方式。一般說來清洗液的溫度至少應保持在20℃以上和40℃以下，適宜的清洗液溫度可增強清洗效果；請注意:溫度過低的清洗液可能在清洗過程中發生葯品沉澱。當清洗液溫度過低時，清洗應安排在將清洗液溫度升高到較為合適的溫度後在進行。
清洗時各反滲透壓力容器的流量控制
壓力容器直徑
（英寸） 每個反滲透壓力容器通過的標准清洗流量
GPM m3/hr
2.5 ～5 ～1.1
4 ～10 ～2.3
8 ～40 ～9
7）在正常清洗時，在結束清洗液的浸泡之後，以標准清洗流量再次循環清洗20~60分鍾一般即可以結束清洗。然後再用同樣容積的反滲透產品水對反滲透膜組件進行沖洗，並將沖洗水排入下水道中。在確認沖洗干凈後，即可重新運行反滲透設備。我們建議至少應排放掉在化學清洗後重新運行系統後15分鍾內所生產出的產品水.並在對現場系統產品水水質進行認真的化學分析結果確認後，再將系統運行所得到的系統產出水打入產品水水箱。另外，在採用多種葯品進行清洗時，為防止化學葯品之間的化學反應，在每次進行清洗前產品水側排出的水最好也應排凈。
※ 若是多級設備，建議分級進行清洗，以避免流量無法控制的局面——即第一級流量太少或最末級流量過多，這樣做，也可以防止在第一級被洗掉的污染沉澱物又重新流入下一級，形成二次污染。
8）若欲防止微生物的再次污染，在對系統進行清洗之後，可用膜廠商允許使用的殺菌溶液對膜系統進行滅菌清洗，其操作方式同前。請注意：對滅菌清洗後的沖洗務必要徹底,以避免將消毒液帶入產品水中。
7、附錄 聚醯胺復合膜元件一般清洗液
清洗液
污染物 0.1%（W）NaOH或1.%（W）Na4EDTA
【pH12/30℃（最大值）】 0.1%（W）NaOH或0.025%（W）Na-SDS
【pH12/30℃（最大值）】 0.2%（W）HCl鹽酸 1.0%（W）Na2S2O4 0.5%（W）H3PO4磷酸 1.0%（W）NH2SO3H 2.0%（W）檸檬酸
無機鹽垢
(如CaCO3) 最好 可以 可以 可以
硫酸鹽垢
（CaSO4 BaSO4） 最好 可以
金屬氧化物
（如鐵） 最好 可以 可以 可以
無機膠體（淤泥） 最好
硅 可以 最好
微生物膜 可以 最好
有機物 作第一步清洗可以 作第一步清洗最好 作第二步清洗最好
1、（W）表示有效成分的重量百分含量；
2、按順序污染物化學符號為：CaCO3表示碳酸鈣；CaSO4表示硫酸鈣；BaSO4表示硫酸鋇。
3、按順序清洗化學品符號為：NaOH表示氫氧化鈉；Na4EDTA表示乙二胺四乙酸四納；Na-SDS表示十二烷基苯磺酸鈉鹽，又名月硅酸鈉；HCl表示鹽酸；Na2S2O4表示亞硫酸氫鈉；H3PO4表示磷酸；NH2SO3H表示亞硫酸氫胺。
4、為了有效清洗硫酸鹽垢，必須盡早的發現和處理，由於硫酸鹽垢的溶解度隨清洗液含鹽量增加而增加，可以在NaOH和Na4EDTA的清洗液中添加NaCl，當結垢一周以上時，硫酸鹽垢的清洗成功性值得懷疑。
5、檸檬酸是無機鹽垢的可選清洗劑。
RO膜清洗時最好是看PH值酸的PH值為2左右濃度為2%，鹼的PH值為12左右濃度為0。5%
⑦ 反滲透膜殺菌劑加葯量和用量是多少
您這邊的水量多大 加葯量：每套反滲透系統的使用量。舉例說明：產水量為75噸的內純水設備，那麼容RO裝置的進水量約為100噸。反滲透阻垢劑月用量即為：100*3*24*30/1000=216KG(3為加葯濃度ppm；24為每天工作時間小時；30為每月天數天；1000為換算單位g換KG)
根據設備的使用量，確定周用量。按周用量確定加葯箱大小，調整加葯計量泵即可，使葯劑平穩連續的注入RO設備即可。
⑧ 反滲透用葯劑有幾種
山東省泰和水處理有限公司自主研發的反滲透阻垢劑
【反滲透阻垢劑】 TH-0100型反滲透阻垢劑、分散劑
【反滲透阻垢劑】 TH-150型反滲透阻垢劑、分散劑
【反滲透阻垢劑】 TH-200型反滲透阻垢劑、分散劑
【反滲透阻垢劑】 TH-191反滲透阻垢劑、分散劑
【反滲透阻垢劑】 THASD-200反滲透阻垢劑、分散劑
【反滲透清洗劑】 TH-260反滲透清洗劑（酸性）
【反滲透清洗劑】 TH-261反滲透清洗劑（鹼性）
【反滲透殺菌劑】 反滲透膜專用殺菌劑TH-410
⑨ 純水機RO膜的使用要求
1．用戶首先要確認所用RO膜元件的材料（CA/TFC/其他）來咨詢和選擇消毒殺菌劑，避免造專成RO膜損傷。
2．本公司出廠的清洗屬液、消毒液均由純水配製，用戶應用RO透過水或純水進行稀釋，配製工作液。
3．用戶可根據膜的組數及系統容量確定清洗液、消毒液的工作體積，確定清洗液、消毒液商品用量。
4．根據對RO系統的調查、診斷，確定RO膜的污染類型，選取相應的葯劑進行清洗或殺菌。
5．清洗液．消毒殺菌液進入RO膜管前一定先要經過保安過濾器。
6．最佳清洗溫度25-35℃，如在低溫條件下使用，需適當延長清洗時間。
7．若RO系統存在多種污染類型，可依照有機物、無機物、微生物的順序分別清洗/殺菌，每道流程完成後，需用RO透過水清洗後再進行下一道流程。清洗液、消毒殺菌液均單一使用，不得混用。
設計科學，全自動化運行，操作簡便，易於維護保養。
我們公司提供RO膜
承諾全國最低價
⑩ 反滲透沒有加殺菌劑需要加還原劑嗎
沒有殺菌劑就不需要
還原劑
了。
如果您用的是自來水，還是有
余氯
的，一般的活性炭就可以了。